リソグラフィー レジスト セミナー

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リソグラフィー レジスト セミナー

あまり情報が出てこないフォトレジストの評価法を詳しく解説!
レジストの光学パラメータや現像速度データを用いたシミュレーション!

リソグラフィー技術の基礎と

フォトレジストの評価方法

〜研究開発、製造、品質管理に役立つ評価技術〜

講師

リソテックジャパン株式会社 ナノサイエンス・グループ長  博士(工学) 関口 淳 先生

* 希望者は講師との名刺交換が可能です

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時 2019年2月19日(火) 10:30-16:30
●会場 [東京・京急蒲田]大田区産業プラザ(PiO)6階F会議室 →「セミナー会場へのアクセス」
●受講料 1名46,440円(税込(消費税8%)、資料・昼食付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき35,640円
      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。
 ●講義中の携帯電話の使用はご遠慮下さい。
 ●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方の迷惑となる場合がありますので、極力お控え下さい。
  場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承下さい。
  *PC実習講座を除きます。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

セミナーポイント

 フォトレジスト材料の評価方法についてはそれほど多くの著書はありません。それは、フォトレジストの開発は特許性が高く、その評価方法は各社各様であるためです。標準的な基準は無く、メーカー独自の評価方法が採用されているからです。一般的な評価方法では、樹脂に感光剤を配合し、スピン塗布方法により基板に塗布、ステッパなどの露光機でパターンを露光します。その後、アルカリ現像液で現像し、得られたパターンをSEMで観察する方法が取られています。この方法を直接評価法といいます。直接評価法は材料とその、最終評価項目である現像後のレジスト形状を直接結びつける方法であり、評価方法としては絶対的であると言えます。
 しかし、評価には高額な露光装置(ステッパ)や走査電子顕微鏡(SEM)を必要とします。これに対し、リソテックジャパン社では、長年にわたりシミュレーションを用いた感光性樹脂の評価方法を提案しています。この方法を直接評価法に対して、間接評価法またはバーチャル・リソグラフィー評価法と呼びます。
 実際にパターンを転写し、SEM観察するのでは無く、感光性樹脂の現像速度データからシミュレータを用いて現像後のレジストパターン形状を予測し、リソグラフィー特性の評価を行います。この手法は一般的な形状シミュレーションと違い、実際のレジストの光学パラメータや現像速度データを用いることを特徴し、より現実的なシミュレーションと言えるでしょう。本講座では、バーチャル・リソグラフィ評価方法の解説を中心に、リソグラフィーの基礎から、最新のフォトレジスト材料の評価方法について述べたいと思います。
 本講座が、フォトレジストの研究開発、評価、プロセスアプリケーション、製造、品質管理の業務にかかわる多くに人々の手助け、また、ビギナー研究者のテキストとしてご活用いただければ大変光栄です。

■この講座を受講して習得できること:
 ●リソグラフィーの基礎知識
 ●光学の基礎的な原理
 ●露光装置の開発の変遷の様子
 ●レジスト材料の開発の変遷
 ●G線、I線リソグラフィー技術(ノボラックレジスト)の基礎
 ●ノボラックレジスの基礎知識
 ●ノボラックレジスとの材料知識
 ●KrFリソグラフィー技術(PHS系レジスト)の概要
 ●PHSレジストの基礎知識
 ●KrFレジストの脱保護反応の概要
 ●KrFレジストのアウトガス分析法
 ●ArFリソグラフィー技術(アクリル系レジスト)の概要
 ●ArFリソグラフィーの基礎知識
 ●ArFレジストの現像中の膨潤の評価方法
 ●ArFレジストのPAGから発生する酸の拡散長の評価方法
 ●ArF液浸リソグラフィー技術の基礎知識
 ●ArF液浸レジストの液浸液のレジスト膜中への浸透効果
 ●ArF液浸レジストのPAGから発生する酸のリーチングの評価
 ●EUVリソグラフィー技術の基礎知識
 ●EUVレジストの概要
 ●EUVレジストのアウトガスの評価方法
 ●EUVレジストの高感度化の手法
 ●ナノインプリント技術の基礎知識
 ●DSA技術の基礎知識

セミナー内容

1.リソグラフィー技術の概要
 1.1 リソグラフィー技術の基礎
 1.2 光学の基礎的な原理
 1.3 露光装置の開発の変遷
 1.4 レジスト材料の開発の変遷

2.G線、I線リソグラフィー技術(ノボラックレジスト)の概要と評価
 2.1 ノボラックレジスの基礎
 2.2 ノボラックレジスとの評価(1) 分子量分布の影響
 2.3 ノボラックレジスとの評価(2) 分画化レジストとフェノール添加

3.KrFリソグラフィー技術(PHS系レジスト)の概要と評価
 3.1 KrFリソグラフィーの基礎
 3.2 PHSレジストの概要
 3.3 KrFレジストの評価(1)脱保護反応の評価
 3.4 KrFレジストの評価(2)露光中のアウトガスの評価

4.ArFリソグラフィー技術(アクリル系レジスト)の概要と評価
 4.1 ArFリソグラフィーの基礎
 4.2 アクリル系レジストの概要
 4.3 ArFレジストの評価(1)現像中の膨潤の評価
 4.4 ArFレジストの評価(2)PAGから発生する酸の拡散長の評価

5.ArF液浸リソグラフィー技術の概要と評価
 5.1 ArF液浸リソグラフィーの基礎
 5.2 ArF液浸レジストの評価(1)液浸液のレジスト膜中への浸透の評価
 5.3 ArF液浸レジストの評価(2)PAGから発生する酸のリーチングの評価
 5.4 ArF液浸レジストの評価(3)リソグラフィー・シミュレーションによる検討

6.EUVリソグラフィー技術の概要と評価
 6.1 EUVリソグラフィーの基礎
 6.2 EUVレジストの概要
 6.3 EUVレジストの評価(1)アウトガスの評価
 6.4 EUVレジストの評価(2)EUVレジストの高感度化の検討

7.次時世代リソグラフィーの概要
 7.1 ナノインプリント技術の概要
 7.2 DSA技術の概要

8.まとめ


<質疑応答>

セミナー番号:AC190282

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