セミナー スパッタリング スパッタ 薄膜 反応性スパッタ hipims電源 カソード

サイトマップサイトマップ よくあるお問合わせよくあるお問合せ リクエストリクエスト セミナー会場セミナー会場へのアクセス リンクリンク
セミナーのメニュー
  ヘルスケア系
2月
3月
4月
5月〜

化学・電気系 その他各分野
2月
3月
4月
5月〜
出版物出版物
新刊図書新刊図書 月刊 化学物質管理Gmpeople
通信教育講座通信教育講座
LMS(e-learning)LMS(e-learning)
セミナー収録DVDDVD
電子書籍・学習ソフトDVD
セミナー講師のコラムです。講師コラム
  ↑2019/2/6更新!!
お申し込み・振込み要領お申込み・振込要領
案内登録案内登録
↑ ↑ ↑
新着セミナー、新刊図書情報をお届けします。

※リクエスト・お問合せ等
はこちら→ req@johokiko.co.jp



SSL GMOグローバルサインのサイトシール  


セミナー スパッタリング スパッタ 薄膜 反応性スパッタ hipims電源 カソード

★経験豊富な講師による丁寧でわかりやすい解説、また双方向的なやり取りも可能です!
★スパッタリングの基礎から、注目集めるHIPIMS電源などのパルス電源、ロータリーカソードの構造・低ダメージの原理、反応性スパッタなどの高速成膜技術の基礎及び制御方法、応力・密着性などのトラブル対策まで。

スパッタリングの基礎から品質向上のポイント、

トラブル対策・最新トピックス

〜パルス電源・マグネトロン/カソード技術から、

反応性スパッタなどの高速成膜技術まで〜

【15名様限定】

講師

有限会社アーステック 代表取締役/名古屋大学 客員教授 小島 啓安 先生

* 希望者は講師との名刺交換が可能です

講師紹介

■ご略歴:
 キヤノン株式会社にて、半導体露光装置の光学膜開発を5年ほど従事、その後旭硝子株式会社にて、自動車用、建築用、電子基板用のスパッタによる薄膜開発を行う。2003年に有限会社アーステック設立し、薄膜コンサルタントを開始。2012年に名古屋大学にて学位取得、同年より名古屋大学客員教授を務める。2013年には中国科学院上海セラミックス研究所の兼任教授(3年間)となる。

■ご専門および得意な分野・研究:
 真空薄膜、スパッタリング&プラズマプロセス開発、バリア膜、光学薄膜、透明導電膜、光触媒膜、熱線反射膜などのソーラーコントロール膜、硬質膜など

■本テーマ関連学協会でのご活動:
 真空学会:スパッタ&プラズマプロセス部会
 表面技術協会:編集委員

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時 2019年4月19日(金) 10:30-16:30
●会場 [東京・大井町]きゅりあん5階 第4講習室 →「セミナー会場へのアクセス」
●受講料 1名46,440円(税込(消費税8%)、資料・昼食付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき35,640円
      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。
 ●講義中の携帯電話の使用はご遠慮下さい。
 ●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方の迷惑となる場合がありますので、極力お控え下さい。
  場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承下さい。
  *PC実習講座を除きます。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

セミナー開催にあたって

■はじめに:
 スパッタリングは、再現性がよく、大面積にも均一に成膜でき、低温においても密着性良く、成膜プロセスとして大きな広がりを見せている技術です。化合物膜中でも酸化物や窒化物の透明膜においては応用製品が多く、高速成膜によるコストダウンが大きなインパクトを与えています。高速成膜制御技術と低ダメージカソード技術の組み合わせにより、プラスチック基板を用いた軽くて薄いフレキシブル基板への成膜が容易にできるようになりました。ロールtoロールプロセスとロータリーカソードを用いた低ダメージ技術、高速成膜技術について詳細に紹介し、またスパッタ技術動向についても解説します。特に最近注目されている技術として、HIPIMS電源を用いたスパッタについて丁寧に解説します。

■受講対象者:
 スパッタリングを経験した人、バリア膜、透明導電膜、光学薄膜などの開発者、またこれらに興味のある方

■必要な予備知識:
・高校卒業レベルの、化学、物理の知識
・真空に関わる基礎知識

■本セミナーで習得できること(一例):
・スパッタリングに関する基礎知識
・反応性スパッタ
・高速成膜の基礎及び制御方法
・ロータリーカソードの構造、原理、低ダメージの原理
・スパッタリング成膜でのトラブル対処

セミナー内容

1.スパッタリングの特徴
 ・表面処理と成膜法
 ・蒸着膜とスパッタ膜の違い
 ・スパッタリングの原理
 ・ロールコーターとインラインコーター

2.パルス電源
 ・アーキングの原理
 ・パルスの種類
 ・パルスと膜構造
 ・HIPIMS電源

3.マグネトロン技術
 ・アンバランスドマグネトロン
 ・磁力線分布
 ・対称磁場と非対称磁場

4.カソード技術
 ・ロータリーカソード
 ・デュアルカソード
 ・AC放電
 ・磁場リンク
 ・低ダメージカソード

5.高速成膜技術
 ・反応性スパッタ
 ・ヒステリシス曲線
 ・遷移領域制御
 ・プラズマエミッション制御
 ・インピーダンス制御

6.スパッタリング膜の品質向上策・トラブルシューティング
 ・パーティクルの発生原因と対策
 ・内部応力のメカニズムと低減策
 ・密着性を向上させ剥がれにくい膜を作るには?
 ・均一な膜を作るための制御手法

7.応用商品
 ・透明導電膜
 ・バリア膜(量子ドット液晶など)
 ・ソーラーコントロール膜(集熱、省エネなど)
 ・光学膜
 ・トピックス

8.質問
 著書「現場のスパッタリング薄膜Q&A」の質問などありましたら解説します。

セミナー番号:AC190419

top

注目の新刊

雑誌 月刊化学物質管理

  雑誌発・各社の事例セミナー3/19

ピッカリング・エマルション

再生医療・細胞治療

量子コンピュータ

これから化学物質管理

外観検査

生物学的同等性試験

最新の医療機器薬事入門

積層セラミックコンデンサ

分野別のメニュー

化学・電気系他分野別一覧

  植物工場他

  機械学習他

ヘルスケア系分野別一覧

  海外関連

  医療機器

各業界共通
マーケティング・人材教育等

「化学物質情報局」

特許・パテント一覧 INDEX
(日本弁理士会 継続研修)

印刷用申込フォーム    

セミナー用

書籍用

会社概要 プライバシーポリシー 通信販売法の定めによる表示 商標について リクルート
Copyright ©2011 情報機構 All Rights Reserved.