エッチング セミナー

サイトマップサイトマップ よくあるお問合わせよくあるお問合せ リクエストリクエスト セミナー会場セミナー会場へのアクセス リンクリンク
セミナーのメニュー
  ヘルスケア系
4月
5月
6月
7月〜

化学・電気系 その他各分野
4月
5月
6月
7月〜
出版物出版物
新刊図書新刊図書 月刊 化学物質管理Gmpeople
通信教育講座通信教育講座
LMS(e-learning)LMS(e-learning)
セミナー収録DVDDVD
電子書籍・学習ソフトDVD
セミナー講師のコラムです。講師コラム
  ↑2019/4/5更新!!
お申し込み・振込み要領お申込み・振込要領
案内登録案内登録
↑ ↑ ↑
新着セミナー、新刊図書情報をお届けします。

※リクエスト・お問合せ等
はこちら→ req@johokiko.co.jp



SSL GMOグローバルサインのサイトシール  


エッチング セミナー

★IoTの普及による半導体集積回路の微細化/三次元化に伴い、今後の半導体製造プロセスには、更に進んだエッチング技術が必要に!
★メーカーで様々なエッチングに携わってきた経験豊富な講師が、実経験におけるトラブル事例などを交えながら分かり易く解説します。

エッチング基礎最新技術

〜ドライ/ウェットエッチングのメカニズムからプロセス技術、
各種材料のエッチング技術、原子層エッチング(ALE)まで〜

講師

(株)日立製作所 研究開発グループ エレクトロニクスイノベーションセンタ ナノプロセス研究部 主任研究員  篠田 和典 先生

* 希望者は講師との名刺交換が可能です

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時 2019年7月8日(月) 10:30-16:30
●会場 [東京・京急蒲田]大田区産業プラザ(PiO)6階C会議室 →「セミナー会場へのアクセス」
●受講料 1名46,440円(税込(消費税8%)、資料・昼食付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき35,640円
      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。
 ●講義中の携帯電話の使用はご遠慮下さい。
 ●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方の迷惑となる場合がありますので、極力お控え下さい。
  場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承下さい。
  *PC実習講座を除きます。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

セミナーポイント

 プラズマを用いたドライエッチングや薬液を用いたウェットエッチングは、三次元NAND型フラッシュメモリ等の半導体集積回路を開発、製造する際に必要不可欠な技術である。モノのインターネット(IoT)の普及により、データ処理を担う半導体集積回路の微細化/三次元化は益々進んでおり、最小加工寸法が10ナノメートルを切る今後の半導体製造プロセスには、原子層レベルの制御性でエッチングする技術が求められている。また,微細化限界後のポストスケーリング時代に向けて、新構造、新チャネル材料、積層化などが検討されており、III-V族化合物半導体など様々な新材料の加工技術が鍵を握る。
 本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術,そして最先端の原子層エッチング(ALE)開発事例までを、メーカで化合物半導体光デバイスのエッチング技術やシリコンLSI向け先端エッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かり易く解説する。

○受講対象:
 シリコン系,および化合物半導体系デバイスの開発に携わっている方 など

○受講後、習得できること:
 ウェットエッチングの基礎知識,ドライエッチングの基礎知識,各種材料のエッチング技術,原子層エッチングの最前線 など

セミナー内容

1. 半導体デバイスのトレンド/構造/製造プロセス
 1) 半導体デバイスのトレンド

  a) ロジックデバイス
  b) メモリーデバイス
  c) 光デバイス
 2) 半導体デバイスの構造
  a) ロジックデバイス
  b) メモリーデバイス
  c) 光デバイス
 3) 半導体デバイスの製造プロセス

2. デバイス製造プロセスにおけるエッチング
 1) エッチングプロセスの種類
 2) エッチングプロセス技術

  a) 高アスペクト比エッチング技術
  b) 高速エッチング技術
  c) 難エッチング材のエッチング技術
  d) 高選択比エッチング技術
 3) エッチングプロセスの課題
  a) 3D-NANDエッチングの課題
  b) ナノワイヤFETエッチングの課題
  c) 光デバイスエッチングの課題

3. プラズマエッチングの基礎及びプロセス技術
 1) プラズマエッチング装置の種類及び特徴
 2) プラズマエッチングプロセスの特徴・要点
 3) プラズマエッチングの原理
 4) プラズマエッチングにおけるプロセス制御の考え方

  a) エッチング反応
  b) エッチング速度
  c) エッチング選択比
  d) エッチング形状
 5) プラズマエッチング損傷
  a) 損傷のメカニズム
  b) 損傷の評価法
  c) 損傷の低減策
  d) プラズマエッチングとウェットエッチングの損傷比較
 6) 各種材料のプラズマエッチング技術及びプロセス制御のポイント
  a) Si
  b) SiO2
  c) SiN
  d) GaAs
  e) InP
  f) GaN

4. ウェットエッチングの基礎及びプロセス技術
 1) ウェットエッチングの原理

  a) エッチング液の構成と化学反応
  b) 酸化剤および標準酸化還元電位
  c) エッチング液に用いられる各種試薬
 2) ウェットエッチングの律速過程
  a) 反応律速と拡散律速
  b) 半導体結晶構造と面方位依存性
 3) ウェットエッチングにおけるプロセス制御の考え方
  a) エッチング反応
  b) エッチング速度
  c) エッチング選択比
  d) エッチング形状
 4) 各種半導体のウェットエッチング技術及びプロセス制御のポイント
  a) Si
  b) SiO2
  c) SiN
  d) GaAs
  e) InP
  f) GaN

5. 原子層エッチングの基礎と最新技術
 1) 原子層プロセス技術のトレンド
 2) 原子層エッチングの基礎
 3) プラズマを用いた原子層エッチングプロセス
 4) プラズマ照射した膜表面の分析

  a) X線光電子分光法
  b) 昇温脱離ガス分析法
 5) プラズマと赤外光照射を用いた原子層エッチング
  a) 原子層エッチング装置
  b) SiNの原子層エッチング
  c) TiNの原子層エッチング
  d) Wの原子層エッチング

6. 実プロセスにおけるエッチングの課題・トラブル事例と対策
 1) 光デバイスエッチングにおける凹凸発生

  a) エッチャント組成最適化による平滑化
  b) 平滑エッチングによるデバイス高信頼化

7. 今後の課題

  <質疑応答>

セミナー番号:AC190764

top

注目の新刊

雑誌 月刊化学物質管理


半導体製造プロセス

三次元培養

ピッカリング・エマルション

再生医療・細胞治療

2019 車載カメラ徹底解説

量子コンピュータ

これから化学物質管理

外観検査

生物学的同等性試験

最新の医療機器薬事入門

積層セラミックコンデンサ

分野別のメニュー

化学・電気系他分野別一覧

  植物工場他

  機械学習他

ヘルスケア系分野別一覧

  海外関連

  医療機器

各業界共通
マーケティング・人材教育等

「化学物質情報局」

特許・パテント一覧 INDEX
(日本弁理士会 継続研修)

印刷用申込フォーム    

セミナー用

書籍用

会社概要 プライバシーポリシー 通信販売法の定めによる表示 商標について リクルート
Copyright ©2011 情報機構 All Rights Reserved.