ALDプロセス セミナー

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ALDプロセス セミナー

近年盛んな低温ALDや、今後の発展が期待されるALE(Atomic Layer Etching)、
また、ALDの逆工程の応用についても解説します。

<速習セミナー>

ALDプロセスの基礎と応用展開

〜ALD用原料開発と最新情報〜

講師

気相成長株式会社 代表取締役 博士(理学) 町田 英明 先生

* 希望者は講師との名刺交換が可能です

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時 2019年9月6日(金) 12:30-16:30
●会場 [神奈川・川崎]川崎市産業振興会館 10階第4会議室 →「セミナー会場へのアクセス」
●受講料 1名41,040円(税込(消費税8%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,240円
      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。
 ●講義中の携帯電話の使用はご遠慮下さい。
 ●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方の迷惑となる場合がありますので、極力お控え下さい。
  場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承下さい。
  *PC実習講座を除きます。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

セミナーポイント

■はじめに
有機金属化合物の一般的特徴とALD用原料としての揮発可能な原料の開発指針を中心として、多種気相原料の特徴とALDに適しているか否かを解説する。また、原料の揮発・輸送手段の例とそれぞれの問題点をあげ、その対策法を具体的に紹介する。さらに現在、注目を集めているMoS2などカルコゲナイドや遷移金属薄膜の原料ならびに成膜例、ならびに近年盛んになった低温ALDについても触れる。最後に今後の発展が期待されるALE(Atomic Layer Etching)について、ALDの逆工程の応用についても提案する。

■本セミナーに参加して修得できること
・ALD原料の知識
・ALD原料の選択のための情報
・成膜時の問題解決

セミナー内容

1. はじめに
   1)気相成長原料の過去・現在
   2)気相成長技術の採用

2. 原料の反応性とALD
   1)化学吸着とALDサイクル
     a) TMAとH2O
     b) H2Oと反応しない原料
     c) ALDサイクルの初期層
   2)非化学吸着のよるALDサイクル
     a) 物理吸着とALDサイクル
     b) 問題点

3. 原料の基礎
   1)有機金属原料
     a) 有機金属とは
     b) 有機金属の合成法
     c) 有機金属の実用

4. 原料の分子設計
   1)揮発性
     a) 有機金属結合型
     b) 共有結合性有機金属
     c) イオン結合性有機金属
     d) 蒸気圧向上法
     e) 蒸気圧測定法
   2)低融点
     a) 共有結合とイオン結合
     b) 低融点化
   3)分子軌道計算
     a) 分子間力
     b) 成長シミュレーション
  
5. 原料の安全性
   1)消防法危険物
     a) 引火性
     b) 発火性
     c) 水との反応性
     d) 爆発性
   2) 毒性
     a) 急性毒性・慢性毒性
     b) 特に注意すべき原料
  
6. 原料の製造
   1)量産性
   2) コスト
  
7. 原料の分解
   1)熱分解
     a) 自己分解
     b) 雰囲気ガス
   2) 分解温度の調整
     a) 低温化
     b) 高温化
   3) 保存安定性
     a) 保存容器
     b) 保存状態
     c) 安定剤
  
8. 原料の揮発・輸送
   1)蒸気圧直接供給
     a) ガス原料
     b) 微差圧駆動MFC
   2) キャリアガスバブリング
     a) 液体原料
     b) 溶液原料 ……タイプA, タイプB
     c) 蒸気圧と揮発性
   3) ダイレクトリキッドインジェクション
     a) 液体原料
     b) 溶液原料
   4) 原料の同時供給
     a) Pre-reaction
     b) Adduct形成
  
9. 原料各論
   1) 原料の種類と性質
     a) タイプA
     b) タイプB
   2) 族別原料の性質
     a) 1,2族
       ・
       ・
     p) 17族

10. 新しいALD状況
   1) メタル膜ALD
     a) ラジカル種を用いたALD
     b) 新原料を用いたALD
     c) 第3成膜種利用
   2) アトミックレイヤーエッチング(ALE)
     a) 代表例
     b) ALEのチャレンジ
   3)低温ALD
     a) TMAによるAl2O3
     b) 他の多量体原料
     c) 各種原料の室温反応性比較

11. まとめ

講師紹介

【講師略歴】
(株)トリケミカル研究所開発部長、取締役を経て、2008年気相成長株式会社設立。
2008年〜2010年東京大学特任研究員。CVD, ALD原料開発およびプロセス開発。

【専門】有機金属化学/CVD, ALD原料開発/LSI配線関連プロセス開発

【本テーマ関連学協会での活動】
ADMETA財務委員長、cat-CVD研究会、CVD反応分科会、NPO科学知総合研究所 理事

セミナー番号:AC190932

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