ALD 原子層堆積法 セミナー

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ALD 原子層堆積法 セミナー

原子を積んで膜をつくる。今、注目の成膜技術「ALD(Atomic Layer Deposition)」を
基礎から学べる半日速習セミナーです!

<基礎から学ぶ!>

ALDプロセス(原子層堆積法)による薄膜合成

講師

山形大学 大学院理工学研究科  教授 博士(工学)  廣瀬 文彦 先生

* 希望者は講師との名刺交換が可能です

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時 2019年11月12日(火) 12:30-16:30
●会場 [東京・御茶ノ水]中央大学駿河台記念館 4階480 →「セミナー会場へのアクセス」
●受講料 1名38,000円 + 税、(資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき28,000円 + 税
 ※消費税につきましては講習会開催日の税率にて課税致します。
      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。
 ●講義中の携帯電話の使用はご遠慮下さい。
 ●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方の迷惑となる場合がありますので、極力お控え下さい。
  場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承下さい。
  *PC実習講座を除きます。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

セミナーポイント

■はじめに
原子層堆積法は、ナノの酸化物薄膜を複雑形状にもコンフォーマルで形成できることから、LSI製造に利用されています。近年では、LSIのみならず、MEMS、太陽電池、機械部品、PETボトルへのコーティングにも活用が検討されています。原子層堆積法で所望の膜を得るためには、表面反応を中心とした反応機構の理解と、モニタリング、そして適切な材料選択、プロセス調整の知識が欠かせません。講演者はこれまで原子層堆積法のその場観察と低温化研究、そしてその応用研究を進めてまいりましたが、我々の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした製膜メカニズムの理解の達成を目標とします。

■受講対象
この分野にご興味ある方でしたらどなたでも

■本セミナーに参加して修得できること
(1) ALDの基礎的理解
(2) 高品質化のためのプロセス設計
(3) プロセス開発のための評価技術
(4) 山形大学開発の3D-CoolALD

セミナー内容

1.原子層堆積法の基礎

1.1 原子層堆積法(Atomic Layer Deposition)とは
1.2 原子層堆積の開発の歴史
1.3 熱ALDの事例紹介
1.4 プラズマを用いたALD

2.原子層堆積における表面反応機構

2.1 原料分子の吸着反応
   -物理吸着と化学吸着
   -ラングミュアー型解離吸着
2.2 飽和吸着のモニタリング手法:QCM (Quartz Crystal Microbalance)
2.3 プリカーサーの選択
2.4 吸着表面の酸化反応
2.5 酸化種の選択
2.6 酸化物表面と水の反応
2.7 酸化物表面と水素脱離反応
2.8 フォーミングアニールと界面層の問題
2.9 原子層堆積プロセスにおける分析評価手段
   -X線光電子分光
   -分光エリプソメトリー

3.山形大学開発 3D-CoolALD (室温三次元成膜ALD) の解説

3.1 SiO2の室温形成事例とペットボトル・アクリル樹脂コーティング
3.2 生体親和膜TiO2の室温形成事例とペットボトルコーティング
3.3 Al2O3の室温形成事例と防蝕 (防食) コーティング応用
3.4 HfO2の室温形成事例

4.最近のトレンド

4.1 Fluid Bed Zone法
4.2 ナノ微粒子室温ALD
   -微粒子にALDを行う際の問題点
   -微粒子ナノテクノロジーにおけるALDの応用例

講師紹介

【講師略歴】
1992年3月 東北大学大学院工学研究科 修了 博士(工学)
1992年6月 三菱重工業滑盤技術研究所
2003年11月 山形大学工学部助教授
2006年10月 山形大学理工学研究科教授 現在に至る

【専門】
ナノテクノロジー 薄膜成長 太陽電池

【本テーマ関連学協会での活動】
応用物理学会 電子情報通信学会 The electrochemical society

セミナー番号:AC191139

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