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*その他 知財・特許 セミナー、書籍一覧はこちら:

★研究開発部門が知っておくべき特許調査・対策とは?
★フェーズごとの特許調査範囲/他社特許対策のポイントと、特許出願戦略への反映までを詳解!
★企業で技術者/知財担当の実務経験がある講師が徹底解説します。

新製品ビジネスを成功に導くための

他社特許調査対策の基礎

講師

栗原光技術士事務所 代表 栗原 光一郎 先生

* 希望者は講師との名刺交換が可能です

講師紹介

■ご略歴:
 1984年北海道大学大学院理学研究科化学第二専攻修士課程修了後、日立金属株式会社入社。主にセラミック電子部品の開発〜量産を担当。2007年特許「ガラスセラミックス複合基板」で発明協会中国経済産業局長賞を受賞。同年より知的財産担当。特許出願明細書作成〜国内外での権利化推進、及び他社特許調査・対策を担当。2018年末栗原光技術士事務所を開業。技術士(化学部門・総合技術監理部門)、二級知的財産管理技能士(管理業務)

■ご専門および得意な分野・研究:
<製造業技術・知財コンサルタント>
 ○セラミック電子部品等での、
  1)製品のQCD改善指導・支援
  2)製造プロセス設計〜量産化支援 (適切な新製品プロセス開発による、早期製品立上)
 ○自社技術・製品の保護方策支援、発明創出〜権利化・知財力育成支援、他社特許調査・対策支援

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時 2019年12月6日(金) 10:30-16:30
●会場 [東京・東新宿]新宿文化センター4階 第4会議室 →「セミナー会場へのアクセス」
●受講料 1名47,300円(税込(消費税10%)、資料・昼食付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円
      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。
 ●講義中の携帯電話の使用はご遠慮下さい。
 ●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方の迷惑となる場合がありますので、極力お控え下さい。
  場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承下さい。
  *PC実習講座を除きます。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

セミナー開催にあたって

■はじめに:
 新製品開発が具体的になってくると、他社特許対策の重要性に気づくことが多いのではないでしょうか。開発に関わる技術者が理解すべき特許及びその調査・対策について学びましょう。

■受講対象者:
・研究開発部門に所属している一般技術者〜リーダークラスの方。
・新製品開発に関わる技術者・開発者。
・特許調査・対策について、理解を深めたい技術者。

■事前に目を通しておくと理解が深まるサイトなど:*閲覧必須ではありません。
・2019年 知的財産権制度説明会(初心者向け)テキスト⇒こちら
・特許情報プラットフォーム⇒こちら

■本セミナーで習得できること(一例):

・特許の基礎知識
・特許調査及び対策の基礎知識
・自社特許出願の重要性

セミナー内容

1.特許とは
 1)特許の種類
 2)権利期間
 3)権利化(登録)までの手続き
 4)侵害/非侵害の判断の仕方(オールエレメントルール)

2.他社特許調査/製品・技術のフェーズで異なる調査の目的と調査範囲
 1)開発初期:技術動向調査
 2)開発段階:<自社の>出願前調査
 3)開発段階:<自社技術・製品が、他社の>権利侵害(侵害予防)調査
 4)製品化後:<他社登録特許の>無効資料調査

3.他社特許対策
 1)継続的に発行公報のチェック
 2)公開段階での対策
  a)対比表の作成・該非判断
  b)回避可否の判断
  c)特許庁への情報提供による無障害化
 3)登録後の対策
  a)無効資料調査(非特許文献、外国文献など)
  b)実施許諾申し入れのための調査
 4)日常の対策:公証役場での確定日付取得
  a)新製品生産の計画、工場の設計図面等の文書<先使用権主張>
  b)開発製品そのもの、製造のための文書、検査データ、など

4.自社出願特許への反映
 1)競合・先行他社特許を知って、自社技術を議論
 2)自社出願〜登録特許があっての他社対策
 3)先願主義:(他社より)1日でも早い出願
 4)効果的な優先権出願

<質疑応答・個別質問・講師との名刺交換>

■ご講演中のキーワード:

公開段階、登録、情報提供、侵害/非侵害、オールエレメントルール、確定日付

セミナー番号:AC191230

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