セミナー スパッタリング スパッタ 薄膜 成膜 真空 透明導電膜

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はこちら→ req@johokiko.co.jp



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セミナー スパッタリング スパッタ 薄膜 成膜 真空 透明導電膜

※本セミナーはZoomを用いたオンラインセミナーに変更になりました。(会場では行いません。)
★効率的に最適条件を確立するためにスパッタリングの基本を学ぶ!
★スパッタリング・真空の基礎から薄膜の微細構造と成膜条件の関係性、薄膜の分析と結果活用のポイント、透明導電膜を例に用いたケーススタディまで。

基礎から学ぶスパッタリング法

〜成膜メカニズムから、効果的な条件設定・最適化、

分析手法、成膜事例まで〜

<Zoomによるオンラインセミナー>

講師

中部大学 工学部 応用化学科 教授 山田 直臣 先生

講師紹介

平成12年3月 東京大学大学院工学系研究科 応用化学専攻 博士課程修了
 SnドープIn2O3(ITO)薄膜の電子伝導機構の研究
平成12年4月〜平成16年9月 帝人株式会社
 DVD-RAMの開発,平面型ディスプレイ用の光学フィルムの開発
平成16年10月〜平成18年4月 青山学院大学 研究員
 Cu(In, Ga)Se2薄膜太陽電池の高効率化を目指した要素技術の開発
平成18年度〜21年6月 (財)神奈川科学技術アカデミー 研究員
 TiO2系透明導電体の開発
平成21年7月〜27年3月 中部大学工学部応用化学科 准教授
平成27年4月〜現在 同 教授

環境調和型の薄膜電子材料に関する研究に取り組んでいる。
化学工学会 東海支部 幹事
日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会 幹事・運営委員
文科省 科学技術・学術政策研究所 科学技術予測センター 専門調査委員

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時 2020年6月15日(月) 12:30-16:30
●会場 [大阪・本町]おおきに御堂筋瓦町ビル会場での講義は行いません。
●受講料 1名41,800円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円
      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。
 ●講義中の携帯電話の使用はご遠慮下さい。
 ●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方の迷惑となる場合がありますので、極力お控え下さい。
  場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承下さい。
  *PC実習講座を除きます。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

*本講座は、Zoom を使用したオンラインセミナーです。
 (下記ご確認の上、お申込み下さい)。

・本講座は、オンライン受講のみ可能です。セミナー会場での受講はできません。
 *PCもしくはスマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。

・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skypeなど別のツールが動いておりますと、カメラ・マイクなどがそちらで使用されてしまいZoomで不調となる場合があります。お手数ですが同様のツールは一旦閉じてからお試し下さい。

 ・Zoomアプリのインストール、zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
    →参加方法はこちら


・オンラインセミナー受講用のPC貸出について:
受講用PC貸出希望の方は、1台 8,800円(消費税/送料込)でお貸出し致します。備考欄に『オンラインセミナー用PC貸出希望』とご記入ください。またPCの配送先がご登録住所と異なる場合、配送先のご住所も備考欄にご記載ください。
    →貸出PCに関する詳細はこちらをご確認ください。

・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。また本講座の配布資料は、印刷物を郵送にてご送付申し上げます。ご登録の際はお受け取りが可能な住所をご記入ください。
・本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。

・本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。
 複数端末から同時に視聴することやプロジェクタ等による複数人での視聴は禁止いたします。

・当日、可能な範囲で質疑応答、個別質問も対応致します。メールベースを中心に後日の質問等も可能です。(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
req@johokiko.co.jp

セミナー開催にあたって

■はじめに:
 真空プロセスを用いた薄膜の作製方法には様々な種類があります。なかでもスパッタリング法は大面積基板へ高速に薄膜を形成できるため,工業的に用いられています。
 スパッタリング法で良質な薄膜を得るには成膜条件の設定が極めて重要です。しかし,最適条件の確立は試行錯誤的になりがちです。 効率的な最適条件の確立には,スパッタリング法の基礎を理解することが欠かせません。
 本セミナーでは,成膜条件を変えた時に起こる現象を正しく理解できるようになることを主な目的とし,真空・スパッタリング法の基礎的な知識を整理します。さらに,薄膜の分析法についても解説し,分析結果をどのように成膜条件にフィードバックするかについても紹介いたします。また,ケーススタディーとして透明導電膜の最適条件の確立についてもご紹介いたします。

■受講対象者:
本セミナーの対象は,スパッタリング法を使い始めた初心者の方や最適条件の確立にお困りの方を想定しております。

■必要な予備知識:
高校卒業レベルの物理・化学の知識。

■本セミナーで習得できること:
・スパッタリング法に関する基礎知識
・真空に関する基礎知識
・薄膜の微細構造と成膜条件の関係
・成膜条件設定の基本的な考え方
など

セミナー内容

1.スパッタ薄膜の概観
 1-1.スパッタリング法と蒸着法の違い
 1-2.スパッタ条件選定の重要性
 1-3.スパッタリング法の応用例

2.真空・低圧気体の運動
 2-1.真空の必要性
 2-2.気体の分子運動
 2-3.真空を作る・計る

3.放電現象
 3-1.気体と電子の衝突
 3-2.グロー放電
 3-3.高周波放電
 3-4.マグネトロン放電

4.スパッタリング法

 4-1.スパッタリング現象
 4-2.スパッタ装置の構成
 4-3.スパッタリング法の方式

5.スパッタ薄膜の成長と特性
 5-1.微細構造と特性
 5-2.スパッタ薄膜の成長過程
 5-3.反応性スパッタリング法

6.ケーススタディー
 6-1.「作る」編
  ・透明導電膜の成膜条件設定
 6-2.「計る」編
  a)薄膜の化学状態
  b)アルゴントラップ
  c)残留ガスの影響

<質疑応答・個別質問>

■ご講演中のキーワード:

スパッタリング法、真空技術、薄膜、成膜条件、光学特性、電気特性、透明導電膜

セミナー番号:AC200613

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