セミナー、フォトリソグラフィー、プラズマエッチング、フォトマスク、櫛歯型静電アクチュエータ、2次元CAD、共振周波数、原子間力顕微鏡

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セミナー、フォトリソグラフィー、プラズマエッチング、フォトマスク、櫛歯型静電アクチュエータ、2次元CAD、共振周波数、原子間力顕微鏡

★知っておくべきMEMSの知識を基礎から解説します。
★作製の手順を具体的に紹介しながら、MEMS作製のキーワードを中心に解説。

MEMS技術入門
〜MEMS開発に取り組むために必要な基礎知識から、
静電アクチュエータを動かすためのポイント〜

講師

東京農工大学 大学院工学研究院先端機械システム部門 教授 安藤泰久 先生

* 希望者は講師との名刺交換が可能です

講師紹介

■ご略歴:
1987年3月 東京工業大学大学院 総合理工学研究科 システム科学専攻 修了
1987年4月 日本電気株式会社 電波応用事業部
1989年4月 通商産業省工業技術院機械技術研究所
2001年4月 (独)産業技術総合研究所
2010年11月 東京農工大学大学院

■ご専門および得意な分野・研究:
マイクロトライボロジー、MEMS

■本テーマ関連学協会でのご活動:
日本機械学会、日本トライボロジー学会

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時 2020年6月23日(火) 12:30-16:30
●会場 [東京・東陽町]江東区産業会館2階第6展示室 →「セミナー会場へのアクセス」
●受講料 1名41,800円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円
      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。
 ●講義中の携帯電話の使用はご遠慮下さい。
 ●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方の迷惑となる場合がありますので、極力お控え下さい。
  場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承下さい。
  *PC実習講座を除きます。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

セミナーポイント

■はじめに
シリコンウェハ上に作製される小さな動く機械(MEMS)について紹介します。MEMSについて学ぼうとしたとき、MEMSを分かり難くしているのが、その独特な作製方法です。本講座では、MEMSの例として静電アクチュエータを取り上げ、作製の手順を具体的に紹介しながら、MEMS作製のキーワードを中心に解説します。また、MEMSの応用として、計測技術やトライボロジーに適用した例を紹介します。

■ご講演中のキーワード:
フォトリソグラフィー、プラズマエッチング、フォトマスク、櫛歯型静電アクチュエータ、2次元CAD、共振周波数、原子間力顕微鏡

■受講対象者:
MEMSに興味のある方や、MEMSを作るために予備知識を得たい方

■必要な予備知識や事前に目を通しておくと理解が深まる文献、サイトなど:
・高校卒業レベルの物理の知識

■本セミナーで習得できること:
・MEMSに関する基礎知識
・MEMS作製のために必要な準備、装置や環境
・MEMSの適用に適した機構や装置、適さない機構など
・フォトリソグラフィーによるMEMS作製方法
・静電アクチュエータの動作原理と応用

セミナー内容

1. MEMSの歴史
1) 小さな機械
2) 静電マイクロモーター

2. 多様なMEMS
1) 光を扱うMEMS
2) 電流を扱うMEMS
3) 流体を扱うMEMS
4) 力を感じるMEMS
5) MEMSのインターフェイス

3. MEMS作製の概要
1) SOIウェハを用いたデバイス作製のながれ
 a) SOI(silicon on insulator)
 b) 2次元CAD
 c) フォトマスク作製
 d) フォトリソグラフィー
 e) エッチング
2) 静電マイクロモーターの作製プロセス
 a) 静電マイクロモーターの構造
 b) 作製の流れ
 c) 位置合わせとルール

4. MEMS加工法の基礎
1) ウェットエッチング
 a) シリコンの結晶構造
 b) 異方性エッチングと等方性エッチング
 c) エッチング液と加工対象
2) ドライエッチング
 a) 真空中の加工
 b) BOSCHプロセス
3) マスクと選択比
 a) マスクとエッチストップ
 b) 選択比
4) スティクションとその対策
 a) 表面張力をラプラス圧力
 b) スティクションの回避方法

5. MEMSの適する機構と動くMEMSを実現するために抑えておくべき点
1) 高い固有振動数を有するMEMS
 a) 電磁モータと静電アクチュエータの比較
 b) サイズと固有振動数
 c) サイズと相対変位
2) 静電アクチュエータの動作を阻害する要因と対策
 a) 最大駆動電圧
 b) リーク電流と回路の工夫
 c) MEMSが動作しやすいSOIの選択

6. AFMと3次元マイクロステージ
1) AFM(原子間力顕微鏡)
 a) AFMとは
 b) カンチレバー
 c) PZTスキャナ
2) MEMSによる世界最小の3次元ステージ
 a) 作製方法
 b) AFMの走査機構への適用

セミナー番号:AC200671

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