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会場開催Zoom

会場での受講 → 

オンラインでの受講 → 

○対象物に合う、スパッタリングの最適条件を効率的に確立するために!
○基礎から薄膜の微細構造と成膜条件の関係性、薄膜の分析法と得られたデータの活用ノウハウ、
 透明導電膜を例に用いたケーススタディまで。

基礎から学ぶスパッタリング法

〜成膜メカニズムから、効果的な条件設定・最適化、

分析手法、成膜事例まで〜

<Zoomオンライン/名古屋会場 受講形式選択可>
<見逃し配信あり>

講師

中部大学 工学部 応用化学科 教授 山田 直臣 先生

* 会場受講の方:希望者は講師との名刺交換が可能です

講師紹介

平成12年3月:東京大学大学院工学系研究科 応用化学専攻 博士課程修了
 SnドープIn2O3(ITO)薄膜の電子伝導機構の研究
平成12年4月〜平成16年9月:帝人株式会社
 DVD-RAMの開発,平面型ディスプレイ用の光学フィルムの開発
平成16年10月〜平成18年4月:青山学院大学 研究員
 Cu(In, Ga)Se2薄膜太陽電池の高効率化を目指した要素技術の開発
平成18年度〜21年6月:(財)神奈川科学技術アカデミー 研究員
 TiO2系透明導電体の開発
平成21年7月〜27年3月:中部大学工学部応用化学科 准教授
平成27年4月〜現在:同 教授

環境調和型の薄膜電子材料に関する研究に取り組んでいる。
化学工学会 東海支部 幹事
日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会 幹事・運営委員
文科省 科学技術・学術政策研究所 科学技術予測センター 専門調査委員


日時・受講料

●日時 2022年2月21日(月) 13:00-17:00  *途中、小休憩を挟みます。

●会場受講者の方:実施会場
 [愛知・名古屋]名古屋国際センター4階 第1研修室 →「セミナー会場へのアクセス」

●受講料
 1名41,800円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円
 *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 *オンライン/会場 どちらを選択されても金額は同じです。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

*オンラインセミナー受講希望の方は、下記緑枠内の内容をご確認の上、お申込み下さい。

配布資料・講師への質問等について

●配布資料は、印刷物を郵送で送付致します。
 お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
 お申込みは4営業日前までを推奨します。
 それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
 テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。


●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

会場開催
会場で開催するセミナーです。※感染拡大防止対策にご協力下さい  
 ・セミナー会場での現金支払いを休止しております
 
 ※新型コロナウイルスの感染防止の一環として当面の間、昼食の提供サービスは中止させて頂きます。
 

セミナー開催にあたって

■はじめに:
 真空プロセスを用いた薄膜の作製方法には様々な種類があります。なかでもスパッタリング法は大面積基板へ高速に薄膜を形成できるため,工業的に用いられています。
 スパッタリング法で良質な薄膜を得るには成膜条件の設定が極めて重要です。しかし,最適条件の確立は試行錯誤的になりがちです。 効率的な最適条件の確立には,スパッタリング法の基礎を理解することが欠かせません。
 本セミナーでは,成膜条件を変えた時に起こる現象を正しく理解できるようになることを主な目的とし,真空・スパッタリング法の基礎的な知識を整理します。さらに,薄膜の分析法についても解説し,分析結果をどのように成膜条件にフィードバックするかについても紹介いたします。また,ケーススタディーとして透明導電膜の最適条件の確立についてもご紹介いたします。

■受講対象者:
スパッタリング法を使い始めた初心者の方や最適条件の確立にお困りの方を想定しております。

■必要な予備知識:
高校卒業レベルの物理・化学の知識。

■本セミナーで習得できること:

・スパッタリング法に関する基礎知識
・真空に関する基礎知識
・薄膜の微細構造と成膜条件の関係
・成膜条件設定の基本的な考え方
など

セミナー内容

1.スパッタ薄膜の概観
 1-1.スパッタリング法と蒸着法の違い
 1-2.スパッタ条件選定の重要性
 1-3.スパッタリング法の応用例

2.真空・低圧気体の運動
 2-1.真空の必要性
 2-2.気体の分子運動
 2-3.真空を作る・計る

3.放電現象
 3-1.気体と電子の衝突
 3-2.グロー放電
 3-3.高周波放電
 3-4.マグネトロン放電

4.スパッタリング法
 4-1.スパッタリング現象
 4-2.スパッタ装置の構成
 4-3.スパッタリング法の方式

5.スパッタ薄膜の成長と特性
 5-1.微細構造と特性
 5-2.スパッタ薄膜の成長過程
 5-3.反応性スパッタリング法

6.ケーススタディー
 6-1.「作る」編
  ・透明導電膜の成膜条件設定
 6-2.「計る」編
  a)薄膜の化学状態
  b)アルゴントラップ
  c)残留ガスの影響

<質疑応答>

セミナー番号:AC220215

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