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Zoom見逃し視聴あり


オンライン受講/見逃視聴あり → 

オンライン受講/見逃視聴なし → 


★経験豊富な講師によるわかりやすい解説!
★オンライン開催ですが、口頭・チャットでの質疑応答や適宜ホワイトボードを用いた解説も行います。

スパッタリングの基礎から品質向上のポイント、

トラブル対策・最新トピックス

〜パルス電源・マグネトロン/カソード技術から、

反応性スパッタなどの高速成膜技術まで〜

<Zoomによるオンラインセミナー・見逃し配信あり>

講師

有限会社アーステック 代表取締役 / 名古屋大学 客員教授 小島 啓安 先生

講師紹介

■ご略歴:
 キヤノン株式会社にて、半導体露光装置の光学膜開発を5年ほど従事、その後旭硝子株式会社にて、自動車用、建築用、電子基板用のスパッタによる薄膜開発を行う。2003年に有限会社アーステック設立し、薄膜コンサルタントを開始。2012年に名古屋大学にて学位取得、同年より名古屋大学客員教授を務める。2013年には中国科学院上海セラミックス研究所の兼任教授(3年間)となる。

■ご専門および得意な分野・研究:
 真空薄膜、スパッタリング&プラズマプロセス開発、バリア膜、光学薄膜、透明導電膜、光触媒膜、熱線反射膜などのソーラーコントロール膜、硬質膜など

■本テーマ関連学協会でのご活動:
・真空学会:スパッタ&プラズマプロセス部会
・表面技術協会:編集委員

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時 2021年2月5日(金) 13:00-17:00 *途中、小休憩を挟みます。

●受講料
 【オンライン受講(ライブ配信):見逃し視聴なし】:1名41,800円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円

 【オンライン受講(ライブ配信):見逃し視聴あり】1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

 *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
 (開催1週前〜前日までには送付致します)。
*準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
(土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)

●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp


※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナー開催にあたって

■はじめに:
 スパッタリングは、再現性がよく、大面積にも均一に成膜でき、低温においても密着性良く、成膜プロセスとして大きな広がりを見せている技術です。化合物膜中でも酸化物や窒化物の透明膜においては応用製品が多く、高速成膜によるコストダウンが大きなインパクトを与えています。高速成膜制御技術と低ダメージカソード技術の組み合わせにより、プラスチック基板を用いた軽くて薄いフレキシブル基板への成膜が容易にできるようになりました。ロールtoロールプロセスとロータリーカソードを用いた低ダメージ技術、高速成膜技術について詳細に紹介し、またスパッタ技術動向についても解説します。特に最近注目されている技術として、HIPIMS電源を用いたスパッタについて丁寧に解説します。

■受講対象者:
スパッタリングを経験した人、バリア膜、透明導電膜、光学薄膜などの開発者、またこれらに興味のある方

■必要な予備知識:
・高校卒業レベルの、化学、物理の知識
・真空に関わる基礎知識

■本セミナーで習得できること:
・スパッタリングに関する基礎知識
・反応性スパッタ
・高速成膜の基礎及び制御方法
・ロータリーカソードの構造、原理、低ダメージの原理
・スパッタリング成膜でのトラブル対処
・製造現場の品質向上対策
など

セミナー内容

1.スパッタリングの特徴
 ・表面処理と成膜法
 ・蒸着膜とスパッタ膜の違い
 ・スパッタリングの原理
 ・ロールコーターとインラインコーター

2.パルス電源
 ・アーキングの原理
 ・パルスの種類
 ・パルスと膜構造
 ・HIPIMS電源

3.マグネトロン技術
 ・アンバランスドマグネトロン
 ・磁力線分布
 ・対称磁場と非対称磁場

4.カソード技術
 ・ロータリーカソード
 ・デュアルカソード
 ・AC放電
 ・磁場リンク
 ・低ダメージカソード

5.高速成膜技術
 ・反応性スパッタ
 ・ヒステリシス曲線
 ・遷移領域制御
 ・プラズマエミッション制御
 ・インピーダンス制御

6.スパッタリング膜の品質向上策・トラブルシューティング
 ・パーティクルの発生原因と対策
 ・内部応力のメカニズムと低減策
 ・密着性を向上させ剥がれにくい膜を作るには?
 ・均一な膜を作るための制御手法

7.応用商品
 ・透明導電膜
 ・バリア膜(量子ドット液晶など)
 ・ソーラーコントロール膜(集熱、省エネなど)
 ・光学膜
 ・トピックス

8.質問
著書「現場のスパッタリング薄膜Q&A」の質問などありましたら解説します。

■ご講演中のキーワード:
反応性スパッタリング、パルス電源、アーキング、ロータリーカソード、アクティブアノード、ロールtoロール、遷移領域制御、高速成膜

セミナー番号:AD210203

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