ウェットエッチング オンラインセミナー

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※リクエスト・お問合せ等
はこちら→ req@johokiko.co.jp



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Zoomライブ配信セミナー見逃し視聴あり


オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 

※Zoomでの受講が難しい方へ;Zoomを介さず視聴できるライブ配信形式での受講も可能です(Vimeo使用)。
 本形式を希望の方は申込フォーム備考欄に「Zoom不可・ライブ配信希望」とご記入ください。
 ご受講前に必ず本ページ内の「ライブ配信」の詳細を確認下さい。Zoomとの同時受講はできません。



ウェットエッチングの数々の利点を活かすための、高精度化のポイントについて解説!

ウェットエッチング

基礎形状コントロール及びトラブル対策

<Zoomによるオンラインセミナー:見逃し視聴有>

講師

国立大学法人 長岡技術科学大学大学院 電気電子情報工学専攻 電子デバイス・フォトニクス工学講座 教授
アドヒージョン(株) 代表取締役 博士(工学)  河合 晃 先生

*講師略歴:

 三菱電機(株)ULSI研究所での勤務を経て、現職にて電子デバイス、デバイスプロセス、実装技術、リソグラフィ、コーティング、表面界面制御、プロセス技術の研究開発に従事。各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。日本接着学会論文賞など受賞多数、著書34件、原著論文160報以上、国際学会120件、講演会200回以上、特許出願多数。大学ベンチャー企業として、アドヒージョン(株)代表取締役兼務。技術コンサルティング実績100社以上。

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時 2021年3月19日(金) 10:30-16:30
●会場 会場では行いません
●受講料
 【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

 【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】:1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

  *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。
   →「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
 (開催1週前〜前日までには送付致します)。
*準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
(土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)

●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp


※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

ライブ配信セミナー
動画配信サイトVimeoを用いて同時ストリーミング配信でご視聴頂けます。
 (尚、Zoomへアクセスできる方は、Zoomでの受講を推奨します。)
(クリックして展開「▼」)
 こちらの形式での受講をご希望の場合は備考欄に「Zoom不可・ライブ配信希望」と記載下さい(Zoomまたはライブ配信いずれか一方でのご受講となります)。

 →事前にこちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナーポイント

 ウェットエッチングは工業的にも歴史が古く、かつ、高周波プリント基板やLSIおよび液晶デバイスなどの様々な先端分野で主力の加工技術となっています。また、ウェットエッチングは、量産性やコスト性および設備の簡易さに優れており、かつ、エッチングと同時にウェット洗浄も行えるという特長を有しています。
 しかし、ウェットエッチングには、濡れ性制御、反応性コントロール、界面密着制御、マスク耐性などの様々な要因が関わっており、高精度化のためには、それぞれを最適化することが必要です。近年では、ウェットエッチングによるアンダーカット形状の高精度化が求められています。
 本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説します。
 日頃の技術開発やトラブル相談にも個別に応じます。

○受講対象:初心者の方にも分かりやすく解説します。

○習得できる知識:ウェットエッチングの基礎、コントロール要因、形状制御技術

セミナー内容

1.ウェットエッチングの基礎
  ・加工技術としての位置づけ
   (設計値とシフト量)
  ・基本プロセスフロー
   (前処理、表面洗浄、エッチング液、マスク除去、洗浄)
  ・プロセス支配要因
   (濡れ、律速、反応速度、エッチング機構)
  ・等方性エッチング
   (アンダーカット)
  ・結晶異方性エッチング
   (結晶方位依存性)
  ・表面エネルギー理論による界面浸透解析
   (拡張エネルギーS,円モデル)
  ・処理装置
   (液循環、ディップ、シャワー、スピンエッチ、フィルタリング)

2.アンダーカット形状コントロール

  ・支配要因
   (界面濡れ性、応力集中、液循環、マスク耐性)
  ・形状コントロール
   (エッチングラインの高精度化)
  ・高精度形状計測
   (断面SEM、定在波法、光干渉法、X線CT)

3.プロセスの基礎と最適化要因
 3.1 被加工表面の最適化

   (表面被膜、汚染、欠陥の影響)
  ・被加工膜の材質依存性
   (Cu、Al、Si、ガラス、高分子膜)
  ・表面汚染
   (大気中放置、自然酸化)
  ・表面前処理
   (疎水化および親水化)
 3.2 エッチング液
  ・エッチング液の選定
   (等方性/異方性)
  ・エッチングレート
   (反応律速)
  ・エッチング液の劣化
   (物質移動律速)
 3.3 エッチングマスク
  ・マスク剤の選定
   (レジスト膜、無機膜)
  ・マスク剤の最適化
   (マスク形成と高精度化)
  ・マスクの形状劣化
   (熱だれ、転写特性)
  ・マスク内の応力分布と付着強度
   (応力集中と緩和理論)
  ・エッチング液の浸透
   (CLSM解析)

4. トラブル要因と解決方法(最短の解決のために)
  ・マスクパターンの剥離
   (付着エネルギーWa及び剥離要因)
  ・エッチング液の濡れ不良
   (ピンニング不良)
  ・エッチング開始点の遅れ
   (コンタクトラインのVF変形)
  ・ホールパターンの気泡詰まり
   (界面活性剤)
  ・エッチング表面の荒れ
   (気泡、異物)
  ・金属汚染
   (RCA洗浄)
  ・液中酸化
   (溶存酸素)
  ・再付着防止
   (DLVO理論、ゼータ電位)
  ・乾燥痕
   (マランゴニー対流、IPA蒸気乾燥)

5.質疑応答
 (日頃の技術開発およびトラブル相談に個別に応じます)

セミナー番号:AD210390

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