「ALD（原子層堆積）技術」オンラインセミナー│基礎から応用まで

※Zoomでの受講が難しい方へ；Zoomを介さず視聴できるライブ配信形式での受講も可能です（Vimeo使用）。
　本形式を希望の方は申込フォーム備考欄に「Zoom不可・ライブ配信希望」とご記入ください。
　ご受講前に必ず本ページ内の「ライブ配信」の詳細を確認下さい。Zoomとの同時受講はできません。

★ALD（原子層堆積）技術の原理・材料・装置の仕組みから、パワーデバイス、トランジスタ、LSI等への応用、今後の展望まで。

ALD（原子層堆積）技術の基礎と応用

＜Zoomによるオンラインセミナー・見逃し配信あり＞

講師

奈良先端科学技術大学院大学　物質創成科学領域　教授　浦岡行治先生

講師紹介

■ご略歴：
1985年3月　豊橋技術科学大学　電気電子工学専攻終了
1985年4月　松下電器産業株式会社半導体研究センター入社
1999年4月　奈良先端科学技術大学院大学　助教授
2009年4月　奈良先端科学技術大学院大学　教授
現在に至る。

■ご専門および得意な分野・研究：
半導体プロセス・デバイス

■本テーマ関連学協会でのご活動：
・応用物理学会フェロー
・IEEEシニアー
・AMFPD国際会議実行委員長
・薄膜材料デバイス研究会組織委員

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時　2021年4月16日（金）　13:30-17:30　＊途中、小休憩を挟みます。

●受講料
　【オンライン受講（ライブ配信）：見逃し視聴なし】：1名41,800円(税込（消費税10％）、資料付)
　＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円

　【オンライン受講（ライブ配信）：見逃し視聴あり】1名47,300円(税込（消費税10％）、資料付)
　＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

　＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ　→

配布資料・講師への質問等について

●配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
　（開催1週前～前日までには送付致します）。
＊準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
（土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。）

●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
（全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。）
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
　無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい（クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます）

・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております（20Mbbs以上の回線をご用意下さい）。
　各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日（営業日）の12：00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
　＜req@johokiko.co.jp＞

Zoomを使用したオンラインセミナーとなります（クリックして展開「▼」）

・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
　お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
　→ 確認はこちら
　＊Skype／Teams／LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
　→音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
　→参加方法はこちら
　→※一部のブラウザーは音声（音声参加ができない）が聞こえない場合があります、
　　　必ずテストサイトからチェック下さい。
　　　対応ブラウザーについて（公式）;コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

動画配信サイトVimeoを用いて同時ストリーミング配信でご視聴頂けます。
　（尚、Zoomへアクセスできる方は、Zoomでの受講を推奨します。）
（クリックして展開「▼」）

　こちらの形式での受講をご希望の場合は備考欄に「Zoom不可・ライブ配信希望」と記載下さい（Zoomまたはライブ配信いずれか一方でのご受講となります）。

　→事前にこちらから問題なく視聴できるかご確認下さい（テスト視聴動画へ）パスワード「123456」

申込み時に（見逃し視聴有り）を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
（クリックして展開「▼」）

・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います（一部、編集加工します）。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
　セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
　尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
　※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
　（見逃し視聴あり）の方の受講料は（見逃し視聴なし）の受講料に準じますので、ご了承下さい。

　→こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい（テスト視聴動画へ）パスワード「123456」

セミナー開催にあたって

■はじめに：
　AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD（原子層堆積）技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。

■受講対象者：
・半導体プロセス・デバイスの初学者
・ALD技術の導入を検討している技術者
・本テーマに興味のある方ならどなたでも受講可能。

■必要な予備知識：
半導体プロセスに興味のある方なら、特に予備知識の必要はない。

■本セミナーで習得できること：
・ALD技術の基礎
・薄膜形成、評価技術の基礎
・薄膜を使った半導体デバイスの動作原理
など

セミナー内容

１．薄膜形成技術
　1.1　薄膜作製の基礎
　1.2　薄膜の評価手法
　　1.2.1　電気的評価
　　1.2.2　化学的分析手法
　　1.2.3　光学的評価手法

２．ALD技術の基礎
　2.1　ALD技術の原理
　2.2　ALD薄膜の特長
　2.3　ALD技術の歴史
　2.4　ALD装置の仕組み
　2.5　ALD技術の材料

３．ALD技術の応用
　3.1　パワーデバイスへの応用
　3.2　酸化物薄膜トランジスタへの応用
　3.3　MOS LSIへの応用

４．ALD技術の将来
　4.1　ALD技術の課題
　4.2　ALD技術の展望

＜質疑応答＞

■ご講演中のキーワード：
MOSFET、薄膜トランジスタ、超LSI、微細加工