・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
→
確認はこちら
＊Skype／Teams／LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
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音声が聞こえない場合の対処例
・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
→
参加方法はこちら
→※一部のブラウザーは音声（音声参加ができない）が聞こえない場合があります、
必ず
テストサイトからチェック下さい。
対応ブラウザーについて（公式）;コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません
動画配信サイトVimeoを用いて同時ストリーミング配信でご視聴頂けます。
（尚、Zoomへアクセスできる方は、Zoomでの受講を推奨します。）
（クリックして展開「▼」）
こちらの形式での受講をご希望の場合は
備考欄に「Zoom不可・ライブ配信希望」と記載下さい（Zoomまたはライブ配信いずれか一方でのご受講となります）。
→事前にこちらから問題なく視聴できるかご確認下さい（テスト視聴動画へ）パスワード「123456」
申込み時に（見逃し視聴有り）を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
（クリックして展開「▼」）
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います（一部、編集加工します）。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
（見逃し視聴あり）の方の受講料は（見逃し視聴なし）の受講料に準じますので、ご了承下さい。
→こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい（テスト視聴動画へ）パスワード「123456」
セミナー開催にあたって
■はじめに：
メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっており、5nmロジックノードとなっている。本講演では、これらのデバイスの微細化を支えるレジスト、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、今後の展望、市場動向についてまとめる。
■受講対象者：
・本テーマに興味のある企業の研究者、技術者、製造販売担当、新規事業開発担当、企画担当、特許担当、市場アナリストの方
・これらの職種を希望される学生の方
■必要な予備知識：
基本から解説しますので予備知識は不要です。
■本セミナーで習得できること：
・レジスト・微細加工用材料の基礎知識
・リソグラフィの基礎知識・最新技術
・レジスト・微細加工用材料の要求特性
・レジスト・微細加工用材料の課題と対策
・レジスト・微細加工用材料の最新技術・ビジネス動向
など
セミナー内容
１．はじめに
1）リソグラフィの基礎
a）露光
・コンタクト露光
・ステップ＆リピート露光
・スキャン露光
b）照明方法
・斜入射（輪帯）照明
c）マスク
・位相シフトマスク
・光近接効果補正（OPC）
・マスクエラーファクター（MEF）
d）レジストプロセス
・反射防止プロセス
・ハードマスクプロセス
・化学機械研磨（CMP）技術
2）ロードマップ
a）IRDSロードマップ
・リソグラフィへの要求特性
・レジストへの要求特性
b）微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
c）最先端携帯端末へのリソグラフィ技術の適用
２．レジストの基礎
1）溶解阻害型レジスト
a）g線レジスト
b）i線レジスト
2）化学増幅型レジスト
a）KrFレジスト
b）ArFレジスト
c）化学増幅型レジストの安定化技術
３．液浸リソグラフィ
1）液浸リソグラフィの基本と課題
a）従来NAレンズでの液浸リソグラフィ
b）高NAレンズでの液浸リソグラフィ
2）液浸リソグラフィ用トップコート
3）液浸リソグラフィ用レジスト
a）液浸リソグラフィ用レジストの要求特性
b）液浸リソグラフィ用レジストの設計指針
４．ダブル／マルチパターニング
1）ダブル／マルチパターニングの基本と課題
2）リソーエッチ（LE）プロセス用材料
3）セルフアラインド（SA）プロセス用材料
５．EUVリソグラフィ
1）EUVリソグラフィの基本と課題
2）EUVレジスト
a）EUVレジストの要求特性
b）EUVレジストの設計指針
・EUVレジスト用ポリマー
・EUVレジスト用酸発生剤
c）EUVレジストの課題と対策
・感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
・ランダム欠陥（Stochastic Effects）
3）最新のEUVレジスト
a）分子レジスト
b）ネガレジスト
c）ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
d）無機／メタルレジスト
・レジストメーカー開発の無機/メタルレジスト
・大学開発の無機/メタルレジスト
６．自己組織化（DSA）リソグラフィ
1）自己組織化リソグラフィの基本と課題
2）グラフォエピタキシー用材料
3）ケミカルエピタキシー用材料
4）最新の高χ（カイ）ブロックコポリマー
a）Si含有型ブロックコポリマー
b）有機型ブロックコポリマー
７．ナノインプリント
1）ナノインプリントの基本と課題
2）加圧方式ナノインプリント用材料
3）光硬化式ナノインプリント用材料
a）光硬化材料
b）離型剤
８．おわりに
1）レジスト・微細加工用材料の今後の技術展望
2）レジスト・微細加工用材料の市場動向
＜質疑応答＞
■ご講演中のキーワード：
リソグラフィ、レジスト、溶解阻害型レジスト、化学増幅型レジスト、微細加工用材料、液浸リソグラフィ、ダブル/マルチパターニング、EUVレジスト、自己組織化（DSA）リソグラフィ、ナノインプリント
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