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Zoomライブ配信セミナー見逃し視聴あり


オンライン(ライブ配信)/見逃視聴なし → 

オンライン(ライブ配信)/見逃視聴あり → 

※Zoomでの受講が難しい方へ;Zoomを介さず視聴できるライブ配信形式での受講も可能です(Vimeo使用)。
 本形式を希望の方は申込フォーム備考欄に「Zoom不可・ライブ配信希望」とご記入ください。
 ご受講前に必ず本ページ内の「ライブ配信」の詳細を確認下さい。Zoomとの同時受講はできません。



★知っておくべき基本から、EUV/DSA/液浸リソグラフィ、ナノインプリント、ダブルパターニング等これから求められるリソグラフィの材料特性や最新動向・展望まで!

レジスト・微細加工用材料

基礎・要求特性と最新技術動向

〜次世代リソグラフィ、パターニングへの対応〜

<Zoomによるオンラインセミナー・見逃し配信あり>

講師

大阪大学 産業科学研究所 招聘教授 遠藤 政孝 先生

講師紹介

 1983年松下電器産業株式会社入社。以来同社半導体研究センター、パナソニック株式会社セミコンダクター社プロセス開発センターにて、半導体リソグラフィプロセス、レジスト、微細加工用材料の開発に従事。2009年から大阪大学産業科学研究所にて、レジスト材料、EUVレジストの研究開発に従事。

→このセミナーを知人に紹介する

日時・会場・受講料

●日時 2021年4月23日(金) 10:30-16:30 *途中、お昼休みと小休憩を挟みます。

●受講料
 【オンライン受講(ライブ配信):見逃し視聴なし】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

 【オンライン受講(ライブ配信):見逃し視聴あり】:1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

 *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料は、印刷物を郵送で送付致します。
 お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
 お申込みは4営業日前までを推奨します。
 それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
 テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。


●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp


※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

ライブ配信セミナー
動画配信サイトVimeoを用いて同時ストリーミング配信でご視聴頂けます。
 (尚、Zoomへアクセスできる方は、Zoomでの受講を推奨します。)
(クリックして展開「▼」)
 こちらの形式での受講をご希望の場合は備考欄に「Zoom不可・ライブ配信希望」と記載下さい(Zoomまたはライブ配信いずれか一方でのご受講となります)。

 →事前にこちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナー開催にあたって

■はじめに:
 メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっており、5nmロジックノードとなっている。本講演では、これらのデバイスの微細化を支えるレジスト、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、今後の展望、市場動向についてまとめる。

■受講対象者:
・本テーマに興味のある企業の研究者、技術者、製造販売担当、新規事業開発担当、企画担当、特許担当、市場アナリストの方
・これらの職種を希望される学生の方

■必要な予備知識:
基本から解説しますので予備知識は不要です。

■本セミナーで習得できること:
・レジスト・微細加工用材料の基礎知識
・リソグラフィの基礎知識・最新技術
・レジスト・微細加工用材料の要求特性
・レジスト・微細加工用材料の課題と対策
・レジスト・微細加工用材料の最新技術・ビジネス動向
など

セミナー内容

1.はじめに
 1)リソグラフィの基礎
  a)露光
   ・コンタクト露光
   ・ステップ&リピート露光
   ・スキャン露光
  b)照明方法
   ・斜入射(輪帯)照明
  c)マスク
   ・位相シフトマスク
   ・光近接効果補正(OPC)
   ・マスクエラーファクター(MEF)
  d)レジストプロセス
   ・反射防止プロセス
   ・ハードマスクプロセス
   ・化学機械研磨(CMP)技術
 2)ロードマップ
  a)IRDSロードマップ
   ・リソグラフィへの要求特性
   ・レジストへの要求特性
  b)微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
  c)最先端携帯端末へのリソグラフィ技術の適用

2.レジストの基礎
 1)溶解阻害型レジスト
  a)g線レジスト
  b)i線レジスト
 2)化学増幅型レジスト
  a)KrFレジスト
  b)ArFレジスト
  c)化学増幅型レジストの安定化技術

3.液浸リソグラフィ
 1)液浸リソグラフィの基本と課題
  a)従来NAレンズでの液浸リソグラフィ
  b)高NAレンズでの液浸リソグラフィ
 2)液浸リソグラフィ用トップコート
 3)液浸リソグラフィ用レジスト
  a)液浸リソグラフィ用レジストの要求特性
  b)液浸リソグラフィ用レジストの設計指針

4.ダブル/マルチパターニング
 1)ダブル/マルチパターニングの基本と課題
 2)リソーエッチ(LE)プロセス用材料
 3)セルフアラインド(SA)プロセス用材料

5.EUVリソグラフィ
 1)EUVリソグラフィの基本と課題
 2)EUVレジスト
  a)EUVレジストの要求特性
  b)EUVレジストの設計指針
   ・EUVレジスト用ポリマー
   ・EUVレジスト用酸発生剤
  c)EUVレジストの課題と対策
   ・感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
   ・ランダム欠陥(Stochastic Effects)
 3)最新のEUVレジスト
  a)分子レジスト
  b)ネガレジスト
  c)ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
  d)無機/メタルレジスト
   ・レジストメーカー開発の無機/メタルレジスト
   ・大学開発の無機/メタルレジスト

6.自己組織化(DSA)リソグラフィ
 1)自己組織化リソグラフィの基本と課題
 2)グラフォエピタキシー用材料
 3)ケミカルエピタキシー用材料
 4)最新の高χ(カイ)ブロックコポリマー
  a)Si含有型ブロックコポリマー
  b)有機型ブロックコポリマー

7.ナノインプリント
 1)ナノインプリントの基本と課題
 2)加圧方式ナノインプリント用材料
 3)光硬化式ナノインプリント用材料
  a)光硬化材料
  b)離型剤

8.おわりに
 1)レジスト・微細加工用材料の今後の技術展望
 2)レジスト・微細加工用材料の市場動向

<質疑応答>

■ご講演中のキーワード:

リソグラフィ、レジスト、溶解阻害型レジスト、化学増幅型レジスト、微細加工用材料、液浸リソグラフィ、ダブル/マルチパターニング、EUVレジスト、自己組織化(DSA)リソグラフィ、ナノインプリント

セミナー番号:AD210416

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