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はこちら→ req@johokiko.co.jp



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Zoom見逃し視聴あり

オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 

★スパッタリングにおける各種パラメータ(ガス圧力・基板温度・距離等)と薄膜諸物性(組成・構造・膜厚分布)との相関がわかる!
 反応性スパッタリング・大電力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)等、様々な製膜法についても、原理から詳しく解説!
 パーティクル発生・アーキング・放電の不安定化等、各種トラブルへの対策についても講義します!

<原理から考える>

スパッタリング

製膜プロセス・膜質制御最新技術

<Zoomによるオンラインセミナー:見逃し視聴有>

講師

成蹊大学 理工学部 教授 博士(工学)  中野 武雄 先生

日時・会場・受講料

●日時 2021年9月8日(水) 10:30-16:30
●会場 会場では行いません
●受講料
 【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴なし)】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

 【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴あり)】:1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

  *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。
   →「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料は、印刷物を郵送で送付致します。
 お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
 お申込みは4営業日前までを推奨します。
 それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
 テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。


●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナーポイント

 スパッタリングによる製膜では、ガス圧力・投入電力・基板温度などの外部パラメータと、実際に作製される膜の諸物性(組成・構造・膜厚分布など)との相関がわかりにくく、プロセスの最適化が簡単ではありません。
 本講義では、製膜プロセスの内部、すなわち薄膜となる原子分子がターゲットにおいてスパッタされ、輸送過程を経て基板へ到達し、膜を形成するまでの過程について学び、外部パラメータが膜厚分布や膜物性に与える影響について理解することを目指します。酸化物・窒化物の製膜に利用される反応性スパッタリングや、最近注目されている大電力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS) 等、様々な製膜法についても、原理から詳しく解説します。
 スパッタリングでは、堆積粒子のエネルギーを適切に制御することによって、低温の基板にも平坦・緻密な構造の薄膜を得ることが可能です。プロセスの安定化や膜厚・膜質の制御を目的とした新しいプロセス技術など、最先端の話題についても、講師の最近の研究結果も踏まえて紹介します。前半でのスパッタプロセスの原理への学びが、これらの手法における意図を理解することの助けになるものと期待しています。
 また、スパッタリング製膜においては、パーティクル発生・アーキング・陽極消失による放電の不安定化など、トラブルに出会うことも少なくありません。これらへの対策についても紹介します。

○受講対象:
 ・スパッタリングによる薄膜作製を実際に行っている方
 ・膜物性の再現性が得られずにお困りの方
 ・希望とする膜質を得るためのレシピを知りたい方
 ・スパッタプロセスへの理解を深めたい方
 など

○受講後、習得できること:
 ・既存のスパッタリング製膜装置で目的とする膜を得るためのパラメータ最適化の手法
 ・スパッタプロセスの内部で何が起きているかに関する知識
 ・新しいスパッタ製膜手法に関する情報
 など

セミナー内容

1.プラズマの基礎
 1-1.低圧放電プラズマの特徴(弱電離・非平衡・低温)
 1-2.プラズマパラメータ
 1-3.プラズマと壁の相互作用
 1-4.プラズマ診断(発光分光法・プローブ法・質量分析法)
 1-5.低圧放電プラズマの発生
 1-6.マグネトロン放電プラズマ

2.スパッタリング製膜の基礎過程
 2-1.ターゲットにおける粒子放出過程(スパッタ率・エネルギー分布・角度分布)
 2-2.スパッタ粒子の輸送過程(雰囲気ガスとの衝突・減速による熱化・拡散)
 2-3.粒子輸送過程に対する雰囲気圧力の効果
 2-4.成膜速度、膜厚分布のターゲット−基板間距離依存性
 2-5.輸送過程の原子質量依存性、合金における組成変化

3.スパッタリング薄膜の形成過程と膜構造
 3-1.PVD 薄膜形成の基礎
 3-2.スパッタ薄膜構造のゾーンモデル
 3-3.薄膜の諸物性に対する高エネルギー粒子の影響
 3-4.スパッタ膜の性質(膜応力・配向・表面粗さ)の決定要因とその制御
 3-5.平坦・緻密な膜を作製するには?

4.さまざまなスパッタ製膜法とその原理・意図
 4-1.直流、高周波、マイクロ波によるスパッタリング
 4-2.ターゲット配置(平板、対向、ロータリーカソード、ほか)
 4-3.イオン化スパッタリングによる堆積粒子の制御

5.大電力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)
 5-1.HiPIMS の原理と特徴
 5-2.プラズマ電位を制御した HiPIMS による薄膜構造の平坦化
 5-3.プラズマ電位制御型 HiPIMS による微細構造作製技術

6.反応性スパッタリング
 6-1.金属モードと化合物モード
 6-2.Berg の反応性スパッタモデル
 6-3.プロセスパラメータ平面におけるモード遷移のユニバーサリティ
 6-4.粒子輸送過程の影響〜Berg モデルへの修正
 6-5.絶縁性化合物製膜における放電の不安定化とその対策

7.その他の話題
 7-1.パーティクルの発生原因と抑制
 7-2.ターゲットエロージョンプロファイルの時間変化
 7-3.窒化物の反応性スパッタにおける真空環境と膜不純物
 7-4.製膜プロセス及び薄膜の評価上のポイント

  <質疑応答>

セミナー番号:AD210963

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