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※リクエスト・お問合せ等
はこちら→ req@johokiko.co.jp



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Zoom見逃し視聴あり

オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 

★半導体・ディスプレイ等様々な産業におけるフォトレジストの市場拡大に伴い、その品質への要求はますます厳しく!
★リソグラフィ及びレジストプロセスの基礎からその制御の要点、付着性やパターン剥離等の様々なトラブル解決策まで、豊富な実例を交えながらわかりやすく解説します!

レジスト材料/プロセス

トラブル制御・最適化技術

〜実務上の基礎知識および各種メカニズムと評価・解決へのアプローチ〜

<Zoomによるオンラインセミナー:見逃し視聴有>

講師

国立大学法人 長岡技術科学大学大学院 電気電子情報工学専攻 電子デバイス・フォトニクス工学講座 教授
アドヒージョン(株) 代表取締役 博士(工学)  河合 晃 先生

講師略歴

 三菱電機(株)ULSI研究所にて10年間勤務し、レジスト開発・試作・量産移管・歩留り・工場管理の業務に従事し、半導体デバイスの高精度な表面処理技術開発に従事した。その後、長岡技術科学大学にて勤務し、機能性薄膜、表面界面制御、実装技術、ナノデバイスなどの先端分野の研究を実施している。各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。大学ベンチャー企業として、アドヒージョン(株)代表取締役 兼務。著書33件、受賞多数、原著論文166報、国際学会124件、特許多数、講演会200回以上、日本接着学会評議員、応用物理学会会員、産学連携・技術コンサルティング実績200社以上
 国立大学法人 長岡技術科学大学大学院 電気電子情報工学専攻 電子デバイス・フォトニクス工学講座 教授、 研究成果活用企業(大学ベンチャー)アドヒージョン(株) 代表取締役 兼務

日時・会場・受講料

●日時 2021年11月5日(金) 10:30-16:30
●会場 会場では行いません
●受講料
 【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴なし)】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

 【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴あり)】:1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

  *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。
   →「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
 (開催1週前〜前日までには送付致します)。
*準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
(土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)

●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナーポイント

 現在、レジスト材料は、半導体、ディスプレイ、プリント基板、太陽電池、MEMS等の多くの電子産業分野において、世界市場で実用化されています。その市場規模は、年間1500億円におよび年々拡大しています。その反面、レジスト材料プロセス技術の高度化に伴い、フォトレジストの品質が製品に与える影響も深刻化しています。また、レジストユーザーの要求も幅広くなり、レジスト材料および装置メーカー側は対応に追われる状況です。
 本セミナーでは、レジスト材料開発、およびレジスト処理装置関連の技術者、レジストユーザー、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明します。また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説します。初心者にも分かりやすく、基礎から学べる内容となっています。
また、最近の傾向として、レジスト材料メーカーおよび装置メーカーにおいても、デバイス作製のノウハウと知識が求められてきています。レジストユーザーの視点から、実務上求められるものは何かを講師の経験も含めて詳述します。受講者が抱えている日々のトラブルやノウハウ相談にも個別に応じます。

○受講対象:
 レジスト材料開発、電子デバイスメーカー、レジスト処理装置、プリント基板関係の技術者、および、初めてレジスト材料を扱う方、レジストを使用して製品・開発を生産する方、レジスト分野の技術指導をする方など、初心者から実務者まで広範囲の方を対象としています。

○受講後、習得できること:
 レジスト開発、レジスト処理装置開発、レジストを使用する上での基本的な考え方、ノウハウ、最適化法、トラブル対処法、ユーザー側での評価手法などが習得できます。

セミナー内容

1.レジスト材料・プロセス・装置概要
  (市場競争力、デバイス設計、高品位化、ラインマッチング)


2.リソグラフィプロセスの基礎とレジスト技術
  (これだけは習得しておきたい)

 2-1 レジスト材料/プロセスの最適化

   (レジスト材料(i線、KrF,ArF,EUV)、プロセスフロー、ポジ型/ネガ型の選択基準、パターン現像、PEB、TARC/BARC、平坦化)
 2-2 露光描画技術の最適化
   (露光システム(ステッパー、スキャナー、EUV)、レイリ―の式、解像力、焦点深度、液浸露光、ペリクル、重ね合わせ技術)
 2-3 レジストコントラストで制御する
   (光学像コントラスト、残膜曲線、溶解コントラスト、現像コントラスト、パターン断面形状改善)
 2-4 エッチングにおけるレジスト最適化
   (プラズマとは、等方性/異方性エッチング、RIE、エッチング残さ、ローディング効果、選択比、ウェットエッチング、レジスト浸透と膨潤)
 2-5 レジスト処理装置の最適化
   (HMDS処理、コーティング、現像、レジスト除去の要点)
 2-6 プリント基板、ソルダーレジスト技術
   (5G対応プリント基板技術、DFR/メッキプロセス、耐はんだ性)
 2-7 シミュレーション技術(効果的な技術予測)
   (レジスト形状、ノズル塗布、スピンコート、パターン内3次元応力解析)

3.レジストの塗布・付着性の基礎理論
  (レジスト材料の表面エネルギー解析)

 3-1 分散・極性成分

   (接触角2液法)
 3-2 ドライ中での付着エネルギーWa
   (Young-Dupreの式)
 3-3 ウェット中での拡張エネルギーS
   (Sパラメータ、円モデル)

4.レジストの物性評価法
  (AFMによるレジスト材料の付着性/凝集性解析)

 4-1 パターン付着性

   (DPAT法)
 4-2 表面硬化層/膜内凝集分布
   (インデント法)
 4-3 パターン弾性率測定
   (探針変形法)

5.レジスト挙動・欠陥メカニズムの解明とトラブル対策
  (歩留り向上の最優先対策とは)

 5-1 致命欠陥とは

   (配線上異物、ショート欠陥、バブル欠陥、塗布ミスト、接触異物)
 5-2 レジスト膜欠陥と対策
   (ストリーエーション、膜分裂(自己組織化)、乾燥むら、ベナールセル、環境応力亀裂、白化、ピンホール、膨れ(ブリスター)、はじき)
 5-3 パターン剥離メカニズムとその影響因子とは
   (付着促進要因と剥離加速要因、検査用パターン)
 5-4 過剰なHMDS処理はレジスト膜の付着性を低下させる
   (最適な処理温度と処理時間)
 5-5 パターン凸部は凹部よりも剥離しやすい
   (アンダーカット形状、応力集中効果、表面硬化層)
 5-6 レジスト膜内への酸・アルカリ浸透
   (クラウジウス・モソティの式)
 5-7 共焦点レーザー顕微鏡(CLSM法)による現像過程の解析
   (レジスト溶解挙動とLER制御)
 5-8 レジスト膜の応力をin-situ測定する
   (減圧処理、応力緩和と発生、溶剤乾燥、拡散モデル)
 5-9 乾燥プロセスでのパターン剥離を検証する
   (毛細管現象、パターン間メニスカス、エアートンネル)
 5-10 パターン熱だれ・変形対策
   (樹脂の軟化点、パターン形状依存性)

6.参考資料

  ・塗膜トラブルQ&A事例集

   (トラブルの最短解決ノウハウ)
  ・表面エネルギーによる濡れ・付着性解析法
   (測定方法)

7.質疑応答、技術開発および各種トラブル相談
  (日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

セミナー番号:AD211161

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