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※リクエスト・お問合せ等
はこちら→ req@johokiko.co.jp



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Zoom見逃し視聴あり

オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 

成膜に関する問題を抱えられている方、
これから成膜技術をより深く理解して製品開発に取り組まれようとされる方に向けて、
大切なポイントを具体的に、分かりやすく解説します。

スパッタリング・真空蒸着

〜基本知識とトラブル対策〜

<Zoomによるオンラインセミナー:見逃し視聴あり>

講師

ペルノックス株式会社 開発統括部 
開発センター長 工学博士 岩村 栄治 先生


日時・会場・受講料

●日時 2022年1月28日(金) 10:30-17:00
●会場 会場での講義は行いません。
●受講料
  【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

  【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】:1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・録画行為は固くお断り致します。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
 (開催1週前〜前日までには送付致します)。
*準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
(土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)

●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナーポイント

■はじめに
本セミナーでは、スパッタや真空蒸着によって無機・金属薄膜を形成する場合に、頻繁に問題となる膜質制御や剥離対策にテーマに絞り、その基本となる考え方から、現象の詳細、膜応力・密着力の評価方法と材料設計への活かし方、対策に至るまでを解説します。各項目において、まず具体的な課題と問題解決においてポイントとなった点を示し、その後で、問題解決のために必要な基礎知識の詳細を説明します。
現在成膜に関する問題を抱えられている方、これから成膜技術をより深く理解して製品開発に取り組まれようとされる方、成膜品の品質検査や管理に関わる方にご参考になるような話題を提供したいと思います。

■受講対象
・スパッタ・真空蒸着を用いた成膜技術に関わる初学者
・中堅製品・プロセス開発技術者
・成膜品検査や品質管理に関わる技術者

■本セミナーに参加して修得できること
・成膜と薄膜形成の基礎知識
・膜質制御・剥離対策に必要な基礎知識
・膜応力や密着力の評価方法と管理の基礎知識

セミナー内容

I.成膜プロセスと薄膜形成現象を理解したい

 ・成膜方法により生じる膜質変化の具体例
 ・スパッタと真空蒸着の違い
 ・成膜装置と真空をあつかうための必要最小限の基礎知識
 ・薄膜の初期構造や微視的組織はどのように形成されるのか
 ・成膜パラメータの制御やプロセスの最適化で注意したいポイント

II.膜の均一性・均質性を制御したい

 ・膜質を効果的に制御する具体例
 ・プラズマとは
 ・プラズマ状態を知ることによる効果
 ・プラズマの状態を知る方法
 ・プラズマ特性と電子エネルギー分布関数の評価
 ・a-C膜にみるプラズマパラメータと微細構造との関係
 ・膜質の不均一性:プラズマの影響
 ・プラズマ影響による局所的な密着力低下
 ・磁場制御による比抵抗分布の均一化
 ・イオン・高エネルギー照射現象と膜質の改善
 ・イオン照射と残留応力の関係:Davisモデル
 ・段差被覆性の改善

V.膜応力を低減したい

 ・膜応力が原因となった不具合とその対策の具体例
 ・応力発生メカニズムと応力制御のための基礎知識
 ・多層膜やパターニングされた薄膜の応力で注意する点
 ・膜応力低減の各種手法とその考え方
 ・膜応力の評価手法のポイント

W.密着力を良くしたい

 ・薄膜の密着力問題に対処する具体例
 ・基板と薄膜の界面をしっかり観察する
 ・剥離を起こしている材料的要因を簡単に絞り込む方法
 ・剥離の形態とそこから読み取れる密着不良をおこした要因
 ・密着性改善の考え方
 ・密着性改善のための具体的な対策
 ・スクラッチ試験による密着力測定と材料設計への活かし方

X.まとめ


講師紹介

【略歴】
1990年 東京大学工学研究科修士課程修了(金属工学専攻)
2000年 工学博士 (東京大学)
1990年〜2001年 (株)神戸製鋼所 技術開発本部 研究員
1994年〜1996年 スタンフォード大学材料科学工学科 客員研究員
2002年〜2005年 科学技術振興機構 さきがけ研究21 個人研究者
2005年〜荒川化学工業株式会社 (2013〜ペルノックス株式会社)

【専門】機能性材料設計、ナノ複合構造制御、薄膜形成プロセス、微細構造評価

【本テーマ関連学協会での活動】
受賞:日本金属学会論文賞、地方発明表彰支部長賞、全国発明表彰発明賞
著書:「薄膜の応力・密着力・剥離トラブルハンドブック<Q&A集付>」 (情報機構)

セミナー番号:AD220141

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