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はこちら→ req@johokiko.co.jp



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Zoom見逃し視聴あり

オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 

★薄膜の形成過程及び応力・付着力の理解から装置・真空管理、パーティクル対策まで!
 教科書に記載されていない・または説明が十分でなく誤解されやすい実務上のポイントをふまえ講義します!

<教科書にない、実用的な>

スパッタリング薄膜

膜質制御・装置管理トラブル対策

<Zoomによるオンラインセミナー:見逃し視聴有>

講師

元東京理科大学 工学部 第二部 電気工学科 非常勤講師 理学博士  岡田 修 先生

*講師ご略歴等:

 日本電気(株)(現NEC)にて磁性材料開発等の業務担当
 日電アネルバ(株)(現キヤノンアネルバ)にて真空成膜プロセス開発・社内技術教育など担当
 東京理科大学 非常勤講師 デバイスプロセス、真空工学担当
 他に、ものつくり大学 非常勤講師 真空技術、沼津高専 非常勤講師 コンピュータ工学

日時・会場・受講料

●日時 2022年1月31日(月) 12:30-16:30
●会場 会場では行いません
●受講料
  【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴なし)】:1名41,800円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円

  【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴あり)】:1名46,200円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき35,200円

  *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
 (開催1週前〜前日までには送付致します)。
*準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
(土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)

●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナーポイント

 真空成膜(主にスパッタリングを対象)による機能性薄膜の機能を如何に引き出すかという観点から,教科書に記載されていない・あるいは説明が十分でないため誤解しやすい真空技術とスパッタリングのポイントをお話します.
 焦点を絞るポイントは,@真空の質と膜質の関係,特に水の排気の問題,A真空中の熱と温度に関する問題,Bスパッタリングで基板に飛来する高エネルギー粒子の問題です.
 日常のメンテナンスや業務上のトラブル対策についても述べます.

○受講対象:
 ・スパッタリングなどの真空成膜による薄膜形成に直接あるいは間接的に関わっている人
 ・蒸着やスパッタなどの真空装置を扱っている人
 ・薄膜を用いたデバイスや加工品などを扱っている人
 ・真空技術,薄膜技術に関心のある人

○受講後、習得できること:
 ・真空技術では,高真空の作り方,水の排気,水の排気に関する堀越モデル,ガス配管のパージ方法など
 ・真空中の熱の取り扱い方
 ・スパッタリングで基板に飛来する高エネルギー粒子,Arイオン,反射Ar原子,酸素負イオンが膜特性と如何に関係するか
 ・真空・スパッタリングについて科学的・系統的に考えることができるようになります

セミナー内容

T.薄膜の形成過程と付着力・応力の問題
 薄膜とはどういうものかを理解するために,薄膜はどのように形成されるのか?と,薄膜の付着力と応力の2つの面から考えます.薄膜の形成過程には,成長初期段階と膜構造の形成段階とがあります.また,薄膜は基板の上に形成されるので,そこから,付着力と膜応力という特別な問題が生じます.これらは,薄膜の基本の基であり,薄膜を扱う人が常に向きあう問題でもあります.

1.薄膜の形成過程
 @核形成・島状成長とそれが見えない場合
 A柱状構造とグレインの成長
2.薄膜の付着力と応力
 @付着力の本質・強化方法・評価方法
 A膜応力とはどういうことか,なぜ生じるのか.制御方法・低減策・評価方法

U.スパッタ成膜と真空
 この章では,スパッタ膜の特性が真空の質と直接関係したいくつかの具体例を紹介し,それらが主に水の排気に関係していることを示します.真空の排気に付いて系統的にのべ,高真空をつくるとは普通は水を排気するということであることをあきらかにします.この「水の排気」の問題を,堀越モデルを用いて詳しく検討します.堀越モデルは水の排気の理解には不可欠なものですが,多くの真空の教科書などでは殆ど説明されていません .ウルトラクリーンテクノロジーに基づくガス配管吸着水分の排気についても述べます.

1.実例
 @Alスパッタ膜の白濁問題
 ATiN膜への酸素混入
 B特に超高真空が必要な例
 Cスパッタ成膜中のガス分析例
2.真空装置の排気
 @排気の方程式とその解
 A到達圧力の概念
 B実際の排気例とベーキングの効果
3.堀越モデルによる水の排気の理解
 @吸着平衡
 A水の排気
 Bビルドアップ
4.実際の装置の排気とガス供給系の影響

V.スパッタリングの熱と温度
 真空中では,熱の伝わり方が「日常的な感じ」と非常に異なっています.希薄気体の熱伝導はあまりよくしられていないし,真空中の熱接触もあまりよくしられていない.熱輻射の影響が非常に大きく見えるなど,いくつもの誤解しやすい問題があります.

1.真空中の熱の伝わり方
 @いろいろな材料の熱伝導率
 A希薄気体の熱伝導
 B熱接触
 C熱輻射
2.スパッタリングの電力はどこにいくか
 @ターゲットの温度上昇
 ARFスパッタにおけるパワー消費の実測例
 Bイオン衝突でターゲットは熔けるのか?
3.基板温度は何に支配されるか?
 @基板と基板ホルダの熱接触の検討
 A基板表面・裏面の温度差の検討
 B基板の熱容量
 C基板温度は何に支配されるのか?
 DRAS法,ディジタル・スパッタ法による基板温度の低減

W.基板に飛来する高エネルギー粒子
 スパッタリングでは成膜中に高エネルギー粒子の照射をうけることがあります.適度な照射はむしろ膜質を良くすると考えられています.しかし,過度な照射は望ましくありません.

1.基板に飛来する高エネルギー粒子の種類と効果
2.Arイオン

 @イオンアシストによる膜質改善
 ARFスパッタのプラズマポテンシャル
 Bバイアススパッタ
 C非平衡マグネトロンカソード
3.反射Ar
 @反射Arの影響
 A反射高速中性原子フラックス測定例
 BAr反射係数のシミュレーション値
 Cターゲットへの堆積エネルギー
4.酸素負イオン
 @負イオン測定例-DCスパッタ

X.トラブル対策と装置の日常メンテナンス
 量産の段階になると、目的とする膜ができるのは当たり前になり、主な問題点・注目点は、パーティクルと異常放電になると思います。歩留まりに直結する難しい問題ですが、これら点に焦点をあてて解説します。

1.装置の日常管理・点検のポイント
2.パーティクル発生メカニズムとその対策

 @パーティクルの要因とその運動
 A「擦れ」・「薄膜剥がれ」・「スプラッシュ」対策
3.薄膜・パーティクルが燃える
4.アーキング(異常放電)への対処,その他の注意点
5.真空装置の省エネ技術


付録 真空・薄膜・スパッタリング・プラズマの参考書,参考資料,学会・研究会などの紹介

  <質疑応答>

セミナー番号:AD220186

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