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Zoom見逃し視聴あり

オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 

★各種洗浄液・洗浄プロセスの特徴・メカニズムから乾燥技術まで、半導体洗浄の基礎知識を習得!
★最近の超微細構造化・半導体製造プロセスの革新に対応する洗浄技術とは?
★クリーンルーム管理やエアワシャ技術、ウェーハ保管・移送方法等の汚染制御技術についても解説します!

半導体製造における

洗浄技術・汚染制御【1日速習】

〜基礎と技術トレンド、問題点の把握〜

<Zoomによるオンラインセミナー:見逃し視聴有>

講師

オフィスシラミズ 半導体技術コンサルタント 室長 博士(工学)  白水 好美 先生

講師紹介

■ご略歴
 2019 東北大学大学院工学研究科博士後期課程 修了 博士(工学)(2019.3)
 1983 富士通(株)
 1991 日本電気(株)-NECエレクトロニクス(株)ールネサスエレクトロニクス(株)
 2013 Samsung electronics 常務
 2016 オフィスシラミズ開業 現在に至る。

■ご専門および得意な分野・研究等:
 半導体洗浄/クリーン化技術(工場設計)/微量分析技術

■本テーマ関連のご活動
 SEMI シリコンウェーハ委員会テストメソッドタスクフォース委員
 IRDS/SDRJ 歩留向上委員会メンバー(応用物理学会シリコンテクノロジー分科会)
 空気清浄協会 準会員(個人会員)  
 書籍:「迫りくるAI時代に向けた半導体製造プロセスの今」 (株)情報機構 2019.5
 <第3章 第5節 パターン倒壊を防ぐ洗浄とクリーン化最新動向>
 書籍:「クリーンルーム環境の維持管理」空気清浄協会 2021.11
 <1.2 汚染物質の概要(4)その他(金属、水分など)>

日時・会場・受講料

●日時 2022年3月15日(火) 12:30-16:30
●会場 会場では行いません
●受講料
  【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴なし)】:1名41,800円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円

  【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴あり)】:1名46,200円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき35,200円

  *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
 (開催1週前〜前日までには送付致します)。
*準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
(土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)

●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナーポイント

 半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。
本セミナーでは序論として、まず汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。
 それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。
 また、洗浄以外の汚染制御技術に関しても紹介します。
 最後に、次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。
 洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要です。洗浄の意義を一緒に考えましょう!

○受講対象:

 ・半導体の洗浄やクリーン化に関しての知識を習得したい方
 ・半導体メーカーで洗浄に携わっている方
 ・半導体洗浄装置メーカーで洗浄装置開発等に携わっている方
 ・薬液メーカー、部材メーカーの方
 その他

○受講後、習得できること:
 ・最新の半導体洗浄やクリーン化に関する知識と問題点を習得できる。 
 ・半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。

セミナー内容

1.序論−汚染が半導体デバイスに与える影響
 1-1.金属汚染

  ・Fe,Cu等
  ・ナノパーティクル
 1-2.分子汚染
  ・NH3
  ・アミン
  ・有機物
  ・酸性ガス成分
 1-3.各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

2.洗浄技術
 2-1.RCA洗浄

  ・RCA洗浄の特徴・基本プロセス
  ・RCA洗浄のメリットと問題点
 2-2.各種洗浄液と洗浄メカニズム(薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄)
  ・各種薬液の種類・特徴とその洗浄メカニズム
  ・機能水(純水系洗浄)洗浄の特徴
  ・薬液系洗浄/純水系洗浄のメリットとデメリット
 2-3.洗浄プロセスの動向
  ・バッチ洗浄と枚葉洗浄
  ・超微細構造化に伴う洗浄への要求事項と対策
  ・目的別の洗浄技術・プロセスとその特徴・留意点
 2-4.乾燥技術
  ・現在使用されている主な乾燥技術
  ・乾燥プロセスの問題点
 2-5.最先端の洗浄技術とその問題点
  ・半導体製造プロセスの革新に対応する洗浄技術
  ・特殊洗浄(残渣除去)

3.その他の汚染制御技術
 3-1.工場設計

  ・クリーンルーム環境の整備・管理
  ・エアワシャ技術
  ・ケミカルフィルター技術
 3-2.ウェーハ保管、移送方法
  ・FUOP運用方法と汚染リスク
  ・ウェーハ清浄化技術(N2パージ法、N2ストッカー法)

4.次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
 4-1.新洗浄乾燥技術

  ・超臨界CO2洗浄乾燥
  ・PK(パターンキーパー)剤乾燥
 4-2.次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題
  ・高アスペクト構造/3D構造による残留ガス/水分の問題
   (超臨界CO2洗浄乾燥技術、特殊薬液による残渣除去技術)

  <質疑応答>

セミナー番号:AD220372

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