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はこちら→ req@johokiko.co.jp



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Zoom見逃し視聴あり

オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 

★難解な分光エリプソメトリーを、ビジュアルに系統立ててわかりやすく解説!
 基礎から学びたい方・分光エリプソメーターをもっと活用したい方にお勧めです。

分光エリプソメトリー

基礎・原理測定・解析ノウハウ

<Zoomによるオンラインセミナー:見逃し視聴有>

講師

有限会社テクノ・シナジー 代表取締役 博士(工学)  田所 利康 先生

日時・会場・受講料

●日時 2022年3月18日(金) 10:30-16:30
●会場 会場では行いません
●受講料
 【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴なし)】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

 【オンライン(ライブ配信)(見逃し視聴あり)】:1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

  *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。
   →「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料は、印刷物を郵送で送付致します。
 お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
 お申込みは4営業日前までを推奨します。
 それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
 テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。


●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナーポイント

*同業者の方(分析機器メーカー等)・及び個人でのお申込みの場合、受講をお断りする場合がございますので、予めご了承下さい。

 分光エリプソメトリーは,スペクトルが持つ豊富な情報量を活かした薄膜の膜厚測定や,膜質・光物性評価が可能で,非接触,高精度,測定が簡便などの利点から,精密な薄膜評価を必要とする様々な分野で広く利用されている.しかし,測定パラメーターの意味が分かりづらいこと,光学モデルを用いた解析が直感的に理解しづらいこと,偏光,干渉,誘電関数といった光学や光物性の基礎知識が必要なことなどから,十分に使いこなすのは容易なことではない.
 本講習では,分光エリプソメトリーの基礎・原理から測定・解析ノウハウまでをビジュアルに系統立てて解説する.始めに,「偏光とは?」,「なぜ分光なのか?」といった素朴な疑問に答えながら,分光エリプソメトリーの基礎・原理をステップバイステップで学んでいく.次に,フィッティング解析のデモンストレーションを通して,分光エリプソメトリー解析の進め方,光学モデルの立て方などのポイントを実践的に学習する.さらに,多層膜,有効媒質近似,表面ラフネスや光学異方性膜など,より複雑なサンプル系の解析事例から測定・解析ノウハウを学ぶ。

○受講対象:
 ・分光エリプソメトリーを基礎から学びたい方.
 ・これから分光エリプソメトリーを始めたいとお考えの方
 ・「Cauchyモデルしか使ったことがない」,「膜厚しか求めたことがない」など,現状の測定解析を改善したい方,
 ・分光エリプソメーターをもっと活用したい方

○受講後、習得できること:
 ・分光エリプソメトリーのみならず,光学現象の物理的理解,光物性の知識が習得でき,分光エリプソメトリー解析の全体を鳥瞰図的に理解することができます.
 ・光学モデルや誘電関数の意味を理解して,エリプソメトリー解析を行えるようになります.
 ・サンプルに対してより適切な光学モデルを構築できるようになります.
 ・分光エリプソメトリ―を用いた,薄膜・表面に関する様々な特性・物性の評価・解析ノウハウを習得することができます.

セミナー内容

1.イントロダクション
 1.1 本講習の目的
 1.2 薄膜解析と分光エリプソメトリー
 1.3 分光エリプソメトリーの特徴と用途

2.物質と光の相互作用
 2.1 分極と屈折率

  ・分極,電気双極子振動,電気双極子放射
  ・波の重ね合わせ原理と波の加算
  ・Lorentz振動子モデルの誘電関数
  ・屈折率分散の起源
 2.2 なぜ分光なのか(分極と分光スペクトル)
  ・分極機構と光の周波数
  ・共鳴周波数が異なる分極の重ね合わせで誘電関数の形が決まる
  ・誘電関数と光学定数スペクトル
  ・屈折率の正常分散領域の意味
 2.3 偏光,光の反射,透過,屈折
  ・p偏光とs偏光(偏光の定義)
  ・直線偏光,円偏光,楕円偏光
  ・反射/屈折の法則とフレネル係数
  ・偏光反射の入射角依存性とブリュスター角の物理的な意味
 2.4 薄膜の干渉
  ・薄膜中の光の伝搬と干渉
  ・薄膜の光学モデルと振幅反射係数・振幅透過係数
  ・多層膜への拡張

3.分光エリプソメトリー
 3.1 エリプソメトリーの測定原理

  ・光の反射に伴う偏光変化
  ・偏光解析関数と偏光解析パラメーター
 3.2 偏光解析パラメーターの表記法
  ・振幅比角Ψ、位相差Δと偏光状態(Ψ-Δチャートの読み方)
  ・なぜ薄膜の光学定数は決定しづらいか
  ・ポアンカレ球による偏光状態表示
 3.3 単一波長から分光へ
  ・単波長エリプソメトリーの制約
 3.4 エリプソメーター
  ・エリプソメーターの基本構成(回転検光子型・回転補償子型・回転補償子型・位相変調型等)
  ・回転検光子型エリプソメーターにおけるΨ、Δ測定
  ・各種エリプソメトリー測定法の特性と長所/短所
 3.5 誘電関数モデルと屈折率スペクトルの関係
  ・3つの共鳴吸収タイプと誘電関数モデル
  ・光学定数スペクトルの表現形式
  ・SellmeierモデルとCauchyの分散式
  ・Kramers-Kronigの関係式
  ・フリーキャリアを記述するDrudeモデル
 3.6 分光エリプソメトリー解析の流れ
  ・スペクトルフィッティング解析の重要性
  ・データ解析の流れ
  ・光学モデルの構築
  ・フィッティング誤差関数
  ・フィッティング解析のポイント

4.測定の実際と解析上のポイント
 4.1 透明基板上の薄膜解析

  ・チタニア(TiO2)膜の光学定数測定
  ・膜質に左右される屈折率の値
  ・透明基板測定における薄膜解析の留意点と基板裏面反射対策
  ・吸収膜の解析:金属薄膜の光学定数決定
  ・多層膜解析:フォトニック結晶用多層膜の解析
 4.2 半導体基板上の薄膜解析例
  ・測定条件の設定(シリコン基板上の熱酸化膜を例に)
  ・測定解析例:フォトレジスト
  ・測定解析例:AlGaAs超格子構造
  ・測定解析例:薄膜トランジスタ
  ・測定解析例:レーザーアニール結晶化ポリシリコン
  ・測定解析例:フラーレン膜
  ・表面ラフネス
  ・有効媒質近似(EMA):Bruggemanモデル,Maxwell Garnettモデル
  ・EMAの応用:表面ラフネス,HgCdTeの混晶比,a-Si界面中間層など
 4.3 高度な解析例
  ・屈折率傾斜膜の解析:Ta2O5膜,ITO膜
  ・光学異方性膜:液晶セルパラメーター,ポリマー膜など

5.まとめ

   <質疑応答>

セミナー番号:AD220378

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