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はこちら→ req@johokiko.co.jp



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Zoom見逃し視聴あり

オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 

〇現象の基礎からしっかりと解説します。ご興味がある方は、ご参加ください。
〇洗浄装置の水流・気泡の可視化画像を見て、工程と現象の要点が直感的に見えるようになることを目指します。

流れの可視化画像で基礎から学ぶ半導体洗浄技術

<Zoomによるオンラインセミナー:見逃し視聴あり>

講師

国立大学法人 横浜国立大学 大学院工学研究院 教授 羽深 等 先生

講師紹介

■略歴:
1981年 京都大学大学院理学研究科修士課程化学専攻 修了(理学修士)
1981〜2000年 信越化学工業株式会社(信越半導体株式会社)
1996年 広島大学大学院工学研究科 博士(工学)
2000年 横浜国立大学工学部物質工学科 助教授
2002〜2022年 横浜国立大学大学院工学研究院・大学院理工学府化学・生命系理工学専攻・理工学部化学・生命系学科 教授、同理工学部副学部長、同教育研究評議会評議員

■専門および得意な分野・研究:
半導体結晶製造プロセスの化学工学(実験と解析・プロセス設計・熱流体と化学反応の活用)
半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置(枚葉式・バッチ式)の解析・設計
半導体シリコンと炭化珪素の薄膜成長(CVD, PECVD)・エッチング・装置クリーニングのプロセス開発と解析
半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析

■本テーマ関連学協会でのご活動:
化学工学会(エレクトロニクス部会部会長、反応工学部会CVD反応分科会幹事、化学工学会代議員)、応用物理学会、日本結晶成長学会、空気清浄協会、American Chemical Society、Electrochemical Society、特定非営利活動法人YUVEC理事、よこはま高度実装技術コンソーシアム(YJC)理事長


日時・受講料

●日時 2022年4月25日(月) 10:30-16:30
●受講料
  【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

  【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】:1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・録画行為は固くお断り致します。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
 (開催1週前〜前日までには送付致します)。
*準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
(土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)

●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナーポイント

■はじめに
半導体不足解消のための投資や設備増強の機会には、洗浄技術者が必要になります。そこで、半導体洗浄に初めて取り組む方を前提にします。
半導体製造工程における「清浄・きれい」の意味を見直し、洗浄プロセスの基礎となる現象を理解し、洗浄装置の水流・気泡の可視化画像を見て、工程と現象の要点が直感的に見えるようになることを目指します。そして、困った時の視点と対策まで簡潔に説明します。
現象の基礎から説明しますので、予備知識は不要です。本講座の内容は、洗浄以外にもめっきなど液体を用いる半導体製造工程に役立ちますし、半導体以外の分野の洗浄技術者にも参考にして頂けます。

■講演中のキーワード:
流れの可視化、境界層、表面、枚葉式、バッチ式、超音波、ウエハ

■受講対象者:
・半導体洗浄をこれから初めて担当する方
・洗浄というものが何となく分からない方
・対策・提案が的を得ているのか不安な方
・洗浄技術に対する視点・指針を身に付けたい方

■必要な予備知識や事前に目を通しておくと理解が深まる文献、サイトなど:
・予備知識から紹介しますので、特に必要なことはありません。ただし、下記の知識があると、理解がさらに深まります。
・流れの可視化写真を見た経験
・基礎的な化学工学(熱・流れ・拡散)

■本セミナーで習得できること:
・流れの見方と設計指針
・先端材料の洗浄方法を組むための要素
・目的に合わせた「清浄」の定義
・キレイにするための表面と流れの取扱い方
・生産プロセスに共通して潜在する化学工学現象(流れ・気泡などの動きと設計)
・困った時に真っ先に点検すること

セミナー内容

1.洗う理由:汚れは何?いつ、どこからなぜやって来る?

2.洗浄の4要素(温度、時間、化学、力学)

3.半導体の洗浄に特有のこと・・・本当の目的は?

4.先端技術情報(半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会)

5.半導体洗浄の基礎

1)表面の扱い(付着・脱離・引き剥がす・乾かす)
2)流れ、熱、拡散の法則
3)装置内の流れ(完全混合、押出流れ、境界層)
4)流れの可視化実験(身近な例)・・・理想的配置にするほど攪拌されにくい理由

6.洗浄機内の流れと反応(可視化観察と数値計算の事例をもとに)
1)枚葉式洗浄機
1−1)ウエハ回転数と水が広がる速さ、水膜厚さ
1−2)ノズルを往復させることの意味
1−3)数値解析で化学反応はここまでわかる
2)バッチ式洗浄機
2−1)水流の課題:水噴出の傾きとオーバーフロー排出で水循環形成
2−2)直角に水を噴出させ、水循環を抑える簡単な方法の例
2−3)ウエハを入れる時、取り出す時の汚れの動き観察例
3)超音波洗浄
3−1)超音波による流れの加速
3−2)気泡の大きさと動き、支柱の影に気泡は届かない

7.まとめ:困った時の視点と対策(境界層を壊せ)

セミナー番号:AD220446

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