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・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います（一部、編集加工します）。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
（GWや年末年始・お盆期間等を挟む場合、それに応じて弊社の標準配信期間の設定を延長します。）
セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
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※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
（見逃し視聴あり）の方の受講料は（見逃し視聴なし）の受講料に準じますので、ご了承下さい。
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セミナーポイント
■はじめに
産業界では様々な熱処理技術が利用されているが、先端プロセスにおいては超高温、超急速、高精度といった、より高度な熱処理技術が求められるようになっている。大気圧プラズマは簡単な構造で高温熱流を生成可能であり、高いパワー利用効率、複雑な表面加熱が可能、といった特徴から、新たな熱源としてあらゆる分野での利用が期待される。一方で、マイクロ秒からミリ秒の時間分解能を有する温度測定技術は熱処理温度の高精度化・高均一化の観点から不可欠であるものの、非接触・高時間分解能・高空間分解能をすべて満足する測定技術は未だ確立されていないのが現状である。
本セミナーでは、様々な熱処理技術の比較に基づき大気圧プラズマジェット熱処理の特徴を示し、その利点や応用上の特徴、超急速熱処理における熱侵入長制御の概念について解説するとともに、実際にディスプレイや半導体デバイス製造技術として応用した例を紹介する。また光学干渉非接触温度測定技術（OICT）について原理および特徴を述べ、実際に超急速熱処理に適用して温度を計測する方法、更には半導体デバイス動作時の自己発熱温度の三次元イメージングへの応用について述べ、従来にない新たな温度測定技術の可能性について解説する。
■想定される主な受講対象者
研究開発部門、製造技術部門の技術者の方
プロセス開発やデバイス・回路設計に携わる技術者の方
新規熱処理技術や温度測定技術に関心のある方
■必要な予備知識
理工学系の学部程度の基礎知識
■本セミナーに参加して修得できること
大気圧プラズマに関する知識、熱処理と熱拡散過程に関する知識、温度測定技術に関する知識
セミナー内容
１. 熱処理技術
1）様々な熱処理技術
a) 電気炉
b) 誘導加熱
c) ランプアニール
d) レーザーアニール
e) 大気圧プラズマアニール
2）熱伝導の基礎
a) 熱伝導方程式
b) 熱処理時間と熱拡散長
3）プラズマプロセス
a) 様々なプラズマとそれらの応用
b) 大気圧プラズマを用いた熱処理
c) 大気圧プラズマジェット熱処理装置の概要
4）熱処理温度、熱処理時間の制御
a) 処理条件に対する温度履歴の変化
b) 加熱速度、冷却速度の制御
5）大気圧プラズマジェット熱処理の応用例
a) アモルファスシリコン薄膜の結晶化
b) シリコン薄膜中の不純物活性化
c) ゲート絶縁膜（SiO2）の緻密化
d) 薄膜トランジスタ（TFT）作製プロセスへの応用
e) シリコンウエハ表面における極浅接合形成
f) シリコンカーバイドウエハ表面における不純物活性化
6）大気圧プラズマジェット熱処理技術の今後の展開
２. 温度測定技術
1）様々な温度測定技術
a) サーモラベル
b) 熱電対
c) 放射温度計
d) サーモグラフィー
e) 光学干渉非接触温度測定法（OICT）
2）OICTの原理
a) 熱光学係数
b) 熱拡散方程式と光学干渉解析
c) 測定対象とそれに応じた測定系
d) 解析の実際
3）OICTの高度化と応用例
a) 測定精度の向上
b) 三次元温度イメージングへの拡張
c) 大気圧プラズマジェット熱処理時のウエハ内部温度の可視化
d) 半導体デバイス動作時の自己発熱温度計測
e) 半導体デバイス故障過程のOICTによる解析
f) 半導体デバイスの熱暴走過程のOICTによる観測
4）OICTの今後の展開
講師紹介
【略歴】
セイコーエプソン株式会社にて
LTPS（低温プロセスポリシリコン）TFT（薄膜トランジスタ）向けの
レーザー結晶化および薄膜堆積技術の開発に従事。
2003年広島大学に着任後、
大気圧プラズマを用いた超急速熱処理技術、光学干渉非接触温度測定技術（OICT）、
薄膜転写によるフレキシブルエレクトロニクスの研究開発に従事。現在に至る。
【専門】
半導体工学
【本テーマ関連学協会での活動】
・応用物理学会 プログラム編集委員/機関紙編集委員
・薄膜材料デバイス研究会 組織委員
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