半導体・電子デバイスの物理的洗浄技術と静電気障害対策オンラインセミナー:2022年9月27日
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Zoom見逃し視聴あり

オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 

半導体デバイスの「物理的洗浄」を半日速習!

半導体・電子デバイスの物理的洗浄技術と

スプレー洗浄時の静電気障害対策


<Zoomによるオンラインセミナー:見逃し視聴あり>

講師

愛知工業大学 工学部電気学科 教授 博士(工学) 清家 善之 先生

日時・会場・受講料

●日時 2022年9月27日(火) 13:00-16:30
●会場 会場での講義は行いません。
●受講料
  【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】:1名41,800円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円

  【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・録画行為は固くお断り致します。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料は、印刷物を郵送で送付致します。
 お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
 お申込みは4営業日前までを推奨します。
 それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
 テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。


●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
(GWや年末年始・お盆期間等を挟む場合、それに応じて弊社の標準配信期間の設定を延長します。)
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナーポイント

■はじめに
近年、半導体デバイスに進化はものすごいスピードを進んでいます。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーではできるだけ工学基礎((半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI)から説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。
また、講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても述べます。半導体デバイス製造プロセスにどのようにAIが用いることができるがヒントになると幸いです。
基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる数年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。
講義後、質疑応答の時間以外にもメールにてご質問にもお答え致します。

■想定される主な受講対象者
半導体デバイスの物理洗浄に関わり、 2から3年の若手技術者や新人の方。

■必要な予備知識
特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
ただし、少しでも半導体の洗浄に携わった方は理解が深まると思います。

■本セミナーに参加して修得できること
本講座を受講することで、半導体デバイスの物理的な洗浄および
それに関する工学的な基礎知識(半導体の原理、流体力学、電気磁気学、AI)について習得できます。

セミナー内容

1.半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
   1-1 半導体の基礎の基礎
   1-2 半導体製造プロセス
   1-3 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
   1-4 化学的洗浄と物理的洗浄

2.水流を利用した洗浄について
   2-1 流体力学の基礎
   2-2 高圧スプレー洗浄
   2-3 二流体スプレー洗浄
   2-4 超音波洗浄スプレー洗浄
   2-5 ブラシ洗浄
   2-6 次世代の物理的洗浄技術

3.スプレー洗浄時の静電気障害
   3-1 静電気の基礎
   3-2 半導体デバイスの洗浄の静電気障害
   3-3 スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム

4.AIを用いた半導体デバイスの生産技術
   4-1 AIの基礎
   4-2 半導体製造に用いられるAI
   4-3 静電気障害防止を例にしたAIの活用法


講師紹介

【略歴】
1990年 旭サナック株式会社入社
静電塗装機用高電圧発生回路の開発
半導体デバイス・FPD洗浄装置製造販売
電子デバイス用製膜装置の製造販売
技術統括・品質保証
2004年 米国アリゾナ大学客員研究員
    半導体デバイスの精密加工プロセス(CMP)の研究
2007年 埼玉大学(学位取得)
2016年 愛知工業大学 工学部電気学科 教授

【専門】
電気電子材料学、品質工学、

【本テーマ関連学協会での活動】
所属学会
米国ECS、電気学会、電子情報通信学会、精密工学会、静電気学会

応用物理学会 応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会 運営委員
電子情報通信学会 有機エレクトロニクス研究会(OME) 幹事補佐

セミナー番号:AD220943

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