レジスト・微細加工用材料│技術オンラインセミナー2024│基礎・要求特性と最先端技術
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Zoom見逃し視聴あり

オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 


○高集積化などの変革に応じ研究開発続く、レジスト・微細加工用材料の市場・技術の全体像と今後の展望が掴めます!

レジスト・微細加工用材料の基礎・要求特性と最先端技術

〜基本のおさらいから、EUVリソグラフィ等の

最新技術動向と課題まで〜

<Zoomによるオンラインセミナー・見逃し配信あり>

講師

大阪大学 産業科学研究所 招聘教授 遠藤 政孝 先生

講師紹介

 1983年松下電器産業株式会社入社。以来同社半導体研究センター、パナソニック株式会社セミコンダクター社プロセス開発センターにて、半導体リソグラフィプロセス、レジスト、微細加工用材料の開発に従事。2009年から大阪大学産業科学研究所にて、レジスト材料、EUVレジストの研究開発に従事。

日時・受講料

●日時 2024年4月11日(木) 10:30-16:30 *途中、お昼休みや小休憩を挟みます。

●受講料
 【オンライン:見逃し視聴なし】 1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

 【オンライン:見逃し視聴あり】 1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

 *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

※配布資料等について

●配布資料は、印刷物を郵送で1部送付致します。
・お申込の際にお受け取り可能な住所を必ずご記入ください。
・郵送の都合上、お申込みは4営業日前までを推奨します。(土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)
・それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、その場合、テキスト到着がセミナー後になる可能性がございますことご了承ください。
・資料未達の場合などを除き、資料の再配布はご対応できかねますのでご了承ください。


●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。(全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売などは禁止致します。

オンラインセミナーご受講に関する各種案内(ご確認の上、お申込みください。)
・PC/タブレット/スマートフォン等、Zoomが使用できるデバイスをご用意ください。
・インターネット 回線速度の目安(推奨) 下り:20Mbps以上
・開催が近くなりましたら、Zoom入室URL、配布資料、当日の流れなどをメールでご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報ください。
・受講者側のVPN、セキュリティ設定、通信帯域等のネットワーク環境ならびに使用デバイスの不具合については弊社では対応致しかねますので予めご了承ください。

Zoom
Zoom使用に関する注意事項(クリックして展開)
・公式サイトから必ず事前のテストミーティングをお試しください。
 → 確認はこちら
 →Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomで音声が聞こえない、
  カメラ・マイクが使えない等の事象が起きる可能性がございます。
  お手数ですが、これらのアプリは閉じた状態にてZoomにご参加ください。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です。
 →参加方法はこちら
 →一部のブラウザは音声が聞こえない等の不具合が起きる可能性があります。
  対応ブラウザをご確認の上、必ず事前のテストミーティング をお願いします。
  (iOSやAndroidOS ご利用の場合は、アプリインストールが必須となります)

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴あり)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開)
・見逃し視聴ありでお申込み頂いた方は、セミナーの録画動画を一定期間視聴可能です。
・セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
・原則、遅くとも開催5営業日後までに録画動画の配信を開始します(一部、編集加工します)。
・視聴期間はセミナー開催日から5営業日後を起点に1週間となります。
 ex) 2/6(月)開催 セミナー → 2/10(金)までに配信開始 → 2/17(金)まで視聴可能
 ※メールにて視聴用URL・パスワードを配信します。配信開始日を過ぎてもメールが届かない場合は必ず弊社までご連絡ください。
 ※準備出来しだい配信致しますので開始日が早まる可能性もございます。その場合でも終了日は変わりません。
  上記例の場合、2/8(水)から開始となっても2/17まで視聴可能です。
 ※GWや年末年始・お盆期間等を挟む場合、それに応じて弊社の標準配信期間設定を延長します。
 ※原則、配信期間の延長は致しません。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
  (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承ください。
 →見逃し視聴について、こちらから問題なく視聴できるかご確認ください。(テスト視聴動画へ) パスワード「123456」 

セミナー開催にあたって

■はじめに:
 メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィの先端の量産工程ではダブル/マルチパターニングに加えて、待ち望まれていたEUVリソグラフィが用いられている。レジスト・微細加工用材料はこのようなリソグラフィの変革に対応して進展し続けている。
 本講演では、リソグラフィの基礎、最新のロードマップを解説した後、デバイスの微細化を支えるレジストの基礎・要求特性を述べる。つづいて現在の3nmロジックノードに用いられているレジスト・微細加工用材料の最先端技術を、EUVレジストを中心にその要求特性、課題と対策をふまえて解説する。EUVレジストでは注目されているメタルレジストの詳細も述べる。最後に今後の技術展望、市場動向についてまとめる。

■受講対象者:

・本テーマに興味のある企業の研究者、技術者、製造販売担当、新規事業開発担当、企画担当、特許担当、市場アナリスト、特許アナリストの方
・これらの職種を希望される学生の方

■必要な予備知識:
基本から解説しますので予備知識は不要です。

■本セミナーで習得できること:
・レジスト・微細加工用材料の基礎知識・最先端技術
・リソグラフィの基礎知識・最先端技術
・レジスト・微細加工用材料の要求特性
・レジスト・微細加工用材料の課題と対策
・レジスト・微細加工用材料のビジネス動向
など

セミナー内容

1.リソグラフィの基礎
 1)露光
  a)コンタクト露光
  b)ステップ&リピート露光
  c)スキャン露光
 2)照明方法
  a)斜入射(輪帯)照明
 3)マスク
  a)位相シフトマスク
  b)光近接効果補正(OPC)
  c)マスクエラーファクター(MEF)
 4)レジストプロセス
  a)反射防止プロセス
  b)ハードマスクプロセス
  c)化学機械研磨(CMP)技術
5)ロードマップ
  a)IRDSロードマップ
   ・リソグラフィへの要求特性
   ・レジストへの要求特性
  b)微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
  c)最先端デバイスの動向

2.レジストの基礎
 1)溶解阻害型レジスト
  a)g線レジスト
  b)i線レジスト
 2)化学増幅型レジスト
  a)KrFレジスト
  b)ArFレジスト
  c)化学増幅型レジストの安定化技術
  d)ArF液浸レジスト

3.レジスト・微細加工用材料の最先端技術
 1)ダブル/マルチパターニング
  a)ダブル/マルチパターニングの基本と課題
  b)リソーエッチ(LE)プロセス用材料
  c)セルフアラインド(SA)プロセス用材料
 2)EUVリソグラフィ
  a)EUVリソグラフィの基本と課題
  b)EUVレジストの基本
   ・EUVレジストの特徴
   ・EUVレジストの反応機構
   ・KrF/ArFレジストとの比較
   ・EUVレジストの反応機構
   ・EUVレジストの要求特性
   ・EUVレジストの設計指針
   ・EUVレジスト用ポリマー
   ・EUVレジスト用酸発生剤
  c)EUVレジストの課題と対策
   ・感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
   ・ランダム欠陥(Stochastic Effects)
  d)EUVレジストの動向
   ・分子レジスト
   ・ネガレジスト
   ・ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
   ・フッ素含有ポリマーレジスト
  e)EUVメタルレジスト
   ・メタルレジストの特徴
   ・メタルレジストの性能
   ・メタル増感剤
 3)自己組織化(DSA)リソグラフィ
  a)自己組織化リソグラフィの基本と課題
  b)グラフォエピタキシー用材料
  c)ケミカルエピタキシー用材料
  d)最新の高χ(カイ)ブロックコポリマー
   ・Si含有型ブロックコポリマー
   ・有機型ブロックコポリマー
 4)ナノインプリントリソグラフィ
  a)ナノインプリントリソグラフィの基本と課題
  b)加圧方式ナノインプリントリソグラフィ用材料
  c)光硬化式ナノインプリントリソグラフィ用材料
   ・光硬化材料
   ・離型剤

4.リソグラフィ、レジスト・微細加工用材料の今後の技術展望

5.レジストの市場動向

<質疑応答>

セミナー番号:AD240403

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