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はこちら→ req@johokiko.co.jp



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Zoom

★材料・製品の加工・利用に大きな影響を及ぼす表面界面の特徴や状態把握のために!
★必要となる表面界面の基礎知識および各分析手法によるアプローチ方法を習得!

表面分析・界面分析

考え方・すすめ方実践応用

<Zoomによるオンラインセミナー>

講師

ジャパン・リサーチ・ラボ 代表
兼 大阪産業大学 情報システム学科 非常勤講師
大阪産業創造館 相談員 博士(工学)  奥村 治樹 先生

講師紹介

 大手化学メーカー勤務後大手電機メーカー、化学系ベンチャー企業を経て現職
 現在は、ベンチャーから上場企業まで様々な業種の顧問や技術コンサルタントとして、研究開発、製造における課題解決、戦略策定から人事研修などの人材育成などを行っている(詳細はhttp://analysis.ikaduchi.com)。また、学会等での招待講演や国プロにおけるキャリア形成プログラムの講師なども行っている。

日時・会場・受講料

●日時 2021年7月16日(金) 10:30-16:30
●会場 会場では行いません
●受講料 1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円
      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・撮影行為は固くお断り致します。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料は、印刷物を郵送で送付致します。
 お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
 お申込みは4営業日前までを推奨します。
 それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
 テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。


●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp


※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

セミナーポイント

*同業者の方(コンサルタント業等)・及び個人でのお申込みの場合、受講をお断りする場合がございますので、予めご了承下さい。

・本セミナーは、Zoom ミーティングで行います。
・本セミナーでは、受講者のカメラは原則 on にてお願いを致しております。


○概要:
 表面、界面はあらゆる技術や製品の基盤となるものであり、現在扱われる材料やプロセス、技術、商品で表面や界面が関与していないものは無いと言っても過言ではない。これは言い方を変えると、現代は表面、界面に支配されているということになる。
表面・界面は摩擦や付着・接着といった物理的・化学的な作用や反応が発生する場所でもあり、材料・製品の加工・利用に大きな影響を及ぼす。そのため、表面や界面の組成・構造を把握することが非常に重要となることから、分析手法一つにしても多種多様なものが開発され、利用されている。
 しかし、一方で表面や、特に界面はまだ未解明な部分も多く、様々な分析手法の中から状況・目的に合った手法を選択し、その本当の姿を明らかにして利用することは容易ではない。そのためには、表面・界面そのものの基礎知識や、各種分析手法についての幅広い理解が求められる。
 本講では、表面、界面の基礎およびその考え方から、分析評価を中心にして、その姿を明らかにして利用するためのアプローチについて述べる。
 各分析手法で何を知ることができるのか、その原理といった基本的事項から、表面・界面を分析するにあたり、どのような場面でどの手法をどう選択・活用すれば良いのか、その技術的テクニック、コツやノウハウから、考え方、アプローチ方法まで、応用アプリケーションの事例を交えて解説する。

○対象とする受講者:
 ・研究開発部門、分析部門、製造部門、品質保証部門など技術部門全般
 ・若手から中堅を中心とした担当者
 ・部署マネジメント、部下を教育する管理者、マネージャー

○本セミナー受講により得られる知識・ノウハウ・スキルなど:
 ・表面分析の基礎
 ・表面分析の考え方と活用法
 ・各種表面分析手法の使い方
 ・表面、界面の可視化法
 ・研究開発、問題解決へのフィードバック

【セミナー受講特典コンサルティング】
 セミナーに受講して名刺交換をさせて頂いた方への特典サービスとして、初回限定で限定特別料金にてコンサルティングをご利用いただけます。技術的な相談はもちろん、戦略相談、オンサイトセミナーなど、依頼条件を満たす限り原則として実施内容、方法に制限はありません。
 技術コンサルティングには興味があるが利用したことがないので、どのようなものか良くわからず正式依頼に踏み切れない、決裁を取るために一度ディスカッションしたいという方は、是非この機会に、JRLのコンサルティングを御体験ください。限定特典ではありますが、必ず満足のいただける内容でお応えします。

 <依頼条件>
 ・初回1回のみ
 ・セミナー実施日より3カ月以内に依頼が成立
 ・コンサルティング実施時間:4時間程度まで
 ・費用:場所、内容によらず定額の限定受講特典

セミナー内容

1.【表面に支配される現代社会】

2.【表面とは】
 2.1 表面(薄膜)とは?
 2.2 表面・界面が代表的事象
 2.3 表面の要素
 2.4 表面における現象

3.【界面とは】
 3.1 界面における現象
 3.2 多層膜による界面形成
 3.3 薄膜化による界面の変化

4.【表面・界面を支配するもの】
 4.1 界面形成
 4.2 界面を形成する力
 4.3 表面・界面形成を支配するもの
 4.4 表面・界面形成因子と評価法

5.【表面分析成功のキーポイント】
 5.1 表面分析の心構え
 5.2 サンプルの取り扱い
 5.3 サンプリング
 5.4 裏表の表示
 5.5 汚染の例:両面テープによる汚染

6.【代表的表面分析手法】
 6.1 表面分析の分類
 6.2 表面分析に用いる主な手法と選び方
 6.3 表面・微小部の代表的分析手法
 6.4 手法の選択

7.【X線光電子分光法(XPS,ESCA)】
 7.1 XPSの原理
 7.2 XPSの検出深さ
 7.3 XPSの特徴?
 7.4 ワイドスキャン(サーベイスキャン)
 7.5 ナロースキャン(代表的な元素)
 7.6 元素同定
 7.7 化学状態の同定
 7.8 角度変化測定による深さ方向分析
 7.9 ハイブリッド分析
 7.10 チャージアップ
 7.11 化学状態による違い
 7.12 チャージアップへの工夫
 7.13 イオンエッチングとダメージ
 7.14 エッチング条件とスパッタレート
 7.15 イオンエッチングによるクロスコンタミ
 7.16 界面で正体不明のピークシフト
 7.17 ちょっと便利なサイトやソフト

8.【オージェ電子分光法(AES)】
 8.1 微小領域の元素分析手法
 8.2 AESの原理
 8.3 AES測定例
 8.4 界面拡散の分析
 8.5 AESによる状態分析例
 8.6 チャージアップ抑制
 8.7 絶縁体上の異物
 8.8 化学状態マッピング
 8.9 XPSとAESの手法の比較

9.【X線マイクロアナライザ(EPMA)】
 9.1 EPMAの原理
 9.2 元素分布分析(被着体金属基板の断面)
 9.3 積層膜の分析例
 9.4 観察領域(入射電子の拡散シミュレーション)

10.【化学構造を知る】

11.【フーリエ変換赤外分光法(FT−IR)】

 11.1 赤外分光法(IR)の原理
 11.2 FT-IRの長所・短所
 11.3 測定法
 11.4 主な吸収帯
 11.5 赤外分光の構造敏感性
 11.6 指紋領域の利用
 11.7 カルボニル基の判別
 11.8 系統分析
 11.9 帰属の考え方
 11.10 全反射法(ATR法)
 11.11 In-situ FT−IR

12.【飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF-SIMS)】
 12.1 SIMSの概念
 12.2 TOF-SIMSの概要
 12.3 TOF-MSの原理
 12.4 TOF-SIMSによる化学構造解析

13.【グロー放電分析(GD)】
 13.1 GD-MS
 13.2 特徴

14.【形態を知る】
 14.1 形態観察

15.【SEM、TEM】
 15.1 SEM像
 15.2 表面形状と組成
 15.3 SEM−EDS組成分析

16.【走査型プローブ顕微鏡(SPM)】
 16.1 SPMとは
 16.2 主な走査型プローブ顕微鏡
 16.3 形態観察におけるAFMの位置づけ
 16.4 位相イメージング

17.【界面分析】
 17.1 界面評価の重要性と課題
  17.1.1 界面の例
  17.1.2 界面の形成と分類
  17.1.3 一般的深さ方向分析
  17.1.4 従来法と問題点
  17.1.5 精密斜め切削法
  17.1.6 斜面角度と深さ方向分解能
  17.1.7 新しいアプローチ

18.【解析の実例】
 18.1 UV照射による化学構造の評価
 18.2 表面構造変化の解析(XPS)
 18.3 気相化学修飾法
 18.4 化学修飾法を用いたTOFイメージング
 18.5 ポリイミドの表面処理層の深さ方向分析
 18.6 PI/Cu/Si界面の解析

19.【仮説思考による研究開発と問題解決】
 19.1 仮説モデルの構築
 19.2 目的→ゴール、そして、仮説
 19.3 仮説の証明と分析
 19.4 課題解決・研究開発とは
 19.5 分析の位置づけ『悪しき誤解』
 19.6 単なる道具
 19.7 俯瞰視点と仰望視点
 19.8 多面視点

20.まとめと質疑

セミナー番号:AG210783

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