リソグラフィー技術の基礎とフォトレジストの評価方法
サイトマップサイトマップ よくあるお問合わせよくあるお問合せ リクエストリクエスト セミナー会場セミナー会場へのアクセス
セミナーのメニュー
  ヘルスケア系
ライブ配信
8月
9月
10月
11月〜

化学・電気系 その他各分野
ライブ配信
8月
9月
10月
11月〜
情報機構 技術書籍情報機構 技術書籍
技術書籍 一覧技術書籍 一覧
   <新刊書籍>
  ・  CN燃料最新動向
電子書籍電子書籍
化学物質管理化学物質管理
通信教育講座通信教育講座
LMS(e-learning)LMS(e-learning)
セミナー収録DVDDVD
セミナー講師のコラムです。講師コラム
  ↑2022/7/7更新!!
お申し込み・振込み要領お申込み・振込要領
案内登録案内登録
↑ ↑ ↑
新着セミナー、新刊図書情報をお届けします。

※リクエスト・お問合せ等
はこちら→ req@johokiko.co.jp



SSL GMOグローバルサインのサイトシール  



Zoom見逃し視聴あり

オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 

レジスト材料の基礎から正しい評価法まで丁寧に解説します!

リソグラフィー技術の基礎と

フォトレジスト評価方法

〜研究開発、製造、品質管理に役立つ評価技術〜


<Zoomによるオンラインセミナー:見逃し視聴あり>

講師

リソテックジャパン株式会社 ナノサイエンス研究部 部長 博士(工学) 関口 淳 先生


日時・受講料

●日時 2022年10月14日(金) 10:30-16:30
●会場  会場での講義は行いません。
●受講料
  【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

  【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】:1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)
  *1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

      *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

 ●録音・録画行為は固くお断り致します。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

配布資料・講師への質問等について

●配布資料は、印刷物を郵送で送付致します。
 お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
 お申込みは4営業日前までを推奨します。
 それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
 テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。


●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
 無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。
●受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。 req@johokiko.co.jp

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

下記ご確認の上、お申込み下さい(クリックして展開「▼」:一部のブラウザーでは展開されて表示されます)
・PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
 各ご利用ツール別の、動作確認の上お申し込み下さい。
・開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報下さい。
・その他、受講に際してのご質問・要望などございましたら、下記メールにてお問い合わせ下さい。
 <req@johokiko.co.jp>

Zoom
Zoomを使用したオンラインセミナーとなります(クリックして展開「▼」)
・ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
 お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
 → 確認はこちら
 *Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です
 →参加方法はこちら
 →※一部のブラウザーは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります、
   必ずテストサイトからチェック下さい。
   対応ブラウザーについて(公式);コンピューターのオーディオに参加に対応してないものは音声が聞こえません

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開「▼」)
・原則、開催5営業日後に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
・視聴可能期間は配信開始から1週間です。
(GWや年末年始・お盆期間等を挟む場合、それに応じて弊社の標準配信期間の設定を延長します。)
 セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
 尚、閲覧用URLはメールでご連絡致します。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
 (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承下さい。

 →こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」


セミナーポイント

 フォトレジスト材料の評価方法についてはそれほど多くの著書はありません。それは、フォトレジストの開発は特許性が高く、その評価方法は各社各様であるためです。標準的な基準は無く、メーカー独自の評価方法が採用されているからです。一般的な評価方法では、樹脂に感光剤を配合し、スピン塗布方法により基板に塗布、ステッパなどの露光機でパターンを露光します。その後、アルカリ現像液で現像し、得られたパターンをSEMで観察する方法が取られています。この方法を直接評価法といいます。直接評価法は材料とその、最終評価項目である現像後のレジスト形状を直接結びつける方法であり、評価方法としては絶対的であると言えます。しかし、評価には高額な露光装置(ステッパ)や走査電子顕微鏡(SEM)を必要とします。これに対し、リソテックジャパン社では、長年にわたりシミュレーションを用いた感光性樹脂の評価方法を提案しています。この方法を直接評価法に対して、間接評価法またはバーチャル・リソグラフィー評価法と呼びます。実際にパターンを転写し、SEM観察するのでは無く、感光性樹脂の現像速度データからシミュレータを用いて現像後のレジストパターン形状を予測し、リソグラフィー特性の評価を行います。この手法は一般的な形状シミュレーションと違い、実際のレジストの光学パラメータや現像速度データを用いることを特徴し、より現実的なシミュレーションと言えるでしょう。
 本講座では、バーチャル・リソグラフィ評価方法の解説を中心に、リソグラフィーの基礎から、最新のフォトレジスト材料の評価方法について述べたいと思います。
 本講座が、フォトレジストの研究開発、評価、プロセスアプリケーション、製造、品質管理の業務にかかわる多くに人々の手助け、また、ビギナー研究者のテキストとしてご活用いただければ大変光栄です。

■この講座を受講して習得できること:
 ◎リソグラフィーの基礎知識
 ◎光学の基礎的な原理
 ◎露光装置の開発の変遷の様子
 ◎レジスト材料の開発の変遷
 ◎G線、I線リソグラフィー技術(ノボラックレジスト)の基礎
 ◎ノボラックレジスの基礎知識
 ◎ノボラックレジスとの材料知識
 ◎KrFリソグラフィー技術(PHS系レジスト)の概要
 ◎PHSレジストの基礎知識
 ◎KrFレジストの脱保護反応の概要
 ◎KrFレジストのアウトガス分析法
 ◎ArFリソグラフィー技術(アクリル系レジスト)の概要
 ◎ArFリソグラフィーの基礎知識
 ◎ArFレジストの現像中の膨潤の評価方法
 ◎ArFレジストのPAGから発生する酸の拡散長の評価方法
 ◎ArF液浸リソグラフィー技術の基礎知識
 ◎ArF液浸レジストの液浸液のレジスト膜中への浸透効果
 ◎ArF液浸レジストのPAGから発生する酸のリーチングの評価
 ◎EUVリソグラフィー技術の基礎知識
 ◎EUVレジストの概要
 ◎EUVレジストのアウトガスの評価方法
 ◎EUVレジストの高感度化の手法
 ◎ナノインプリント技術の基礎知識
 ◎DSA技術の基礎知識

セミナー内容

1.リソグラフィー技術の概要
 1.1 リソグラフィー技術の基礎
 1.2 光学の基礎的な原理
 1.3 露光装置の開発の変遷
 1.4 レジスト材料の開発の変遷

2.G線、I線リソグラフィー技術(ノボラックレジスト)の概要と評価
 2.1 ノボラックレジスの基礎
 2.2 ノボラックレジスとの評価(1) 分子量分布の影響
 2.3 ノボラックレジスとの評価(2) 分画化レジストとフェノール添加

3.KrFリソグラフィー技術(PHS系レジスト)の概要と評価
 3.1 KrFリソグラフィーの基礎
 3.2 PHSレジストの概要
 3.3 KrFレジストの評価(1)脱保護反応の評価
 3.4 KrFレジストの評価(2)露光中のアウトガスの評価

4.ArFリソグラフィー技術(アクリル系レジスト)の概要と評価
 4.1 ArFリソグラフィーの基礎
 4.2 アクリル系レジストの概要
 4.3 ArFレジストの評価(1)現像中の膨潤の評価
 4.4 ArFレジストの評価(2)PAGから発生する酸の拡散長の評価

5.ArF液浸リソグラフィー技術の概要と評価
 5.1 ArF液浸リソグラフィーの基礎
 5.2 ArF液浸レジストの評価(1)液浸液のレジスト膜中への浸透の評価
 5.3 ArF液浸レジストの評価(2)PAGから発生する酸のリーチングの評価
 5.4 ArF液浸レジストの評価(3)リソグラフィー・シミュレーションによる検討

6.EUVリソグラフィー技術の概要と評価
 6.1 EUVリソグラフィーの基礎
 6.2 EUVレジストの概要
 6.3 EUVレジストの評価(1)アウトガスの評価
 6.4 EUVレジストの評価(2)EUVレジストの高感度化の検討

7.次時世代リソグラフィーの概要
 7.1 ナノインプリント技術の概要
 7.2 DSA技術の概要

8.まとめ

<質疑応答>

セミナー番号:AG221070

top

会社概要 プライバシーポリシー 通信販売法の定めによる表示 商標について リクルート
Copyright ©2011 技術セミナー・技術書籍の情報機構 All Rights Reserved.