極端紫外線リソグラフィー（EUVL）技術における

各要素技術の黎明期・基礎から

現状と技術課題、最新動向および今後の展望まで

＜Zoomによるオンラインセミナー＞

講師

兵庫県立大学　極端紫外線リソグラフィー研究開発センター　センター長／
高度産業科学技術研究所　所長特別補佐／
学長特別補佐（先端研究担当）／教授
渡邊 健夫 先生

講師紹介

※本ページ下部に記載。

日時・会場・受講料

●日時　2024年2月8日（木）　10:30-16:30　※途中、お昼休みと小休憩を挟みます。

●受講料　1名47,300円(税込（消費税10％）、資料付)
　＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円
　＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

　●録音・録画行為は固くお断り致します。

■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ　→

※配布資料等について

●配布資料は、印刷物を郵送で1部送付致します。
・お申込の際にお受け取り可能な住所を必ずご記入ください。
・郵送の都合上、お申込みは4営業日前までを推奨します。（土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。）
・それ以降でもお申込みはお受けしておりますが（開催1営業日前の12:00まで）、その場合、テキスト到着がセミナー後になる可能性がございますことご了承ください。
・資料未達の場合などを除き、資料の再配布はご対応できかねますのでご了承ください。

●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。（全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。）
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売などは禁止致します。

セミナー開催にあたって

■はじめに：
　IoTの進展は半導体微細加工技術に依るところが大きく、2019年より極端紫外線リソグラフィー（EUVL）技術がスマートフォン向け7 nm+ nodeのロジックデバイスの量産技術として適用が開始され、2020年からは5 nm nodeの本格的量産が開始された。IRDS半導体国際ロードマップに示されているとおり、今後もEUVLを用いたさらなる微細加工が期待されている。また、現在はデーターセンター用に先端半導体が必須となっている。今後は自動車用にも高度な制御システム構築の中で先端・次世代半導体が必須となっている。このような中、さらなる微細化に必要なEUVL技術について、まだまだ多く技術課題がある。このため課題解決に向けた総合的な取り組みを進めている。
　講演ではEUVLの基礎から現在に至るまでの技術を解説するとともに、課題解決に向けての取り組み、今後の微細加工技術の展望についてEUVLの短波長化技術であるBeyond EUVL（BEUVL）も含め紹介する。また、世界における日本の半導体技術覇権の問題についても議論する。特に、世界グローバルな取り組みが必要な一方で、国家安全保障および経済安全保障を担保するかと言った相反する課題について対峙することが求められている。こららについても議論する。

■受講対象者：
・半導体用微細加工技術開発および半導体材料開発を始めたばかりの方から、ある程度の研究経験を経た方、並びにこれらの経営に携わっておられる方。
・業務に活かすため、上記内容についての知見を得たいと考えている方
・上記技術開発に取り組んでいるが、技術課題があり困っている方
・本テーマに興味のある方なら、どなたでも受講可能です。
・EUVL技術に関して幅広く知識を得たい方。

■必要な予備知識：
・この分野に興味のある方なら、特に予備知識は必要ありません。
・光学、物理、化学等の基礎知識があれば、更に理解が深まります。

■本セミナーで習得できること：
・EUVリソグラフィー技術の黎明期・基礎知識
・光学系、レジスト、マスク、ペリクル、各種評価技術の最新動向
・EUVリソグラフィー技術課題とその解決に向けた取り組み
・半導体市場および全体技術動向
・将来に向けた必要な取り込み
・今後の半導体微細加工技術の展望
・日本の半導体復活に向けたシナリオ
・EUVL技術に関するビジネス動向および今後の取組内容
など

セミナー内容

１．はじめに
　1）半導体の技術動向
　2）半導体デバイスの基礎

２．半導体微細加工技術とは？
　1）歴史の変遷（ムーアの法則）
　2）半導体国際（IRDS）ロードマップの紹介
　3）微細加工の技術の必要性
　4）微細加工の今後

３．極端紫外線リソグラフィーとは？
　1）なぜ13.5 nmの露光波長？
　2）EUV用光学系と露光技術
　3）マスク技術
　　a）マスク材料とその構造
　　b）マスク欠陥検査技術
　　c）その他のマスク評価技術（ペリクル評価技術を含む）
　4）レジスト材料プロセス技術
　　a）レジスト材料の変遷
　　b）化学増幅系レジスト
　　c）非化学増幅系レジスト（有機系・金属系）
　　d）高感度化に向けての必要な取り組み
　　e）低LWRに向けての必要な取り組み
　　f）その他課題解決に向けた取り組み

４．今後の半導体微細加工技術の展望
　a）High NAとその技術的課題
　b）EUVの短波長化であるBeyond EUVL（BEUVL）の紹介とその必要性

５．世界における日本の半導体技術覇権の課題、並びに日本の半導体復活のシナリオ
　a）世界グローバルおよび国家安全保障と経済安全保障
　b）世界における日本の半導体技術覇権の課題
　c）日本の半導体復活のシナリオ

＜質疑応答＞

■ご講演キーワード：
　微細化の動向および３次元実装との関係、EUVリソグラフィー技術、レジスト・ペリクル・マスク・光学素子の核技術、EUVLの短波長化であるBEUVL技術、世界グローバルおよび国家安全保障と経済安全保障

講師紹介

■ご略歴：
平成2年　シャープ株式会社中央研究所
　DRAMおよび半導体微細加工研究開発に従事
平成8年　旧姫路工業大学高度産業科学技術研究所助手
　極端紫外線リソグラフィーの研究開発に従事
平成16年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所助教
　極端紫外線リソグラフィーの研究開発に従事
平成20年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所准教授
平成27年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所教授
　同研究所極端紫外線リソグラフィー研究開発センター長を兼務
平成28年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所所長・教授
　同研究所極端紫外線リソグラフィー研究開発センター長を兼務
令和3年　兵庫県立大学学長特別補佐（先端科学技術研究担当）を兼務
　同大学　高度産業科学技術研究所 所長補佐
　同研究所　極端紫外線リソグラフィー研究開発センター長・教授
令和4年 兵庫県立大学学長特別補佐（先端科学技術・異分野融合研究推進担当）
　同大学　高度産業科学技術研究所長特別補佐
　同研究所　極端紫外線リソグラフィー研究開発センター長・教授
令和5年　兵庫県立大学学長特別補佐（先端研究担当）
　同大学　産学連携・研究推進機構　放射光産業利用支援本部　本部長代行
　同大学　高度産業科学技術研究所 所長補佐
　同研究所　極端紫外線リソグラフィー研究開発センター長・教授
現在に至る

■ご専門および得意な分野・研究：
半導体微細加工、極端紫外線リソグラフィー、フォトレジスト、マスク、放射光科学

■本テーマ関連学協会でのご活動：
・International Roadmap for Device and System (IRDS), Lithography Committee member
・兵庫県　次世代電池・半導体技術開発拠点推進協議会　座長
・フォトポリマー学会　会長、理事、組織委員、企画委員、シンポジウムチェア（EUVL）
・Photomask Japan 2022国際学会　組織委員長
・EIPBN 2021　プログラム委員
・フォトポリマー懇話会　運営委員