・見逃し視聴ありでお申込み頂いた方は、セミナーの録画動画を一定期間視聴可能です。
・セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
・原則、遅くとも開催4営業日後までに録画動画の配信を開始します（一部、編集加工します）。
・視聴期間はセミナー開催日から4営業日後を起点に1週間となります。
ex) 2/6（月）開催 セミナー → 2/10（金）までに配信開始 → 2/17（金）まで視聴可能
※メールにて視聴用URL・パスワードを配信します。配信開始日を過ぎてもメールが届かない場合は必ず弊社までご連絡ください。
※準備出来しだい配信致しますので開始日が早まる可能性もございます。その場合でも終了日は変わりません。
上記例の場合、2/8（水）から開始となっても2/17まで視聴可能です。
※GWや年末年始・お盆期間等を挟む場合、それに応じて弊社の標準配信期間設定を延長します。
※原則、配信期間の延長は致しません。
※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
（見逃し視聴あり）の方の受講料は（見逃し視聴なし）の受講料に準じますので、ご了承ください。
→見逃し視聴について、
こちらから問題なく視聴できるかご確認ください。（テスト視聴動画へ） パスワード「123456」
セミナーポイント
■はじめに
近年、半導体デバイスの進化はすさまじいものがあります。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーでは、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧説明します。
また講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介します。
基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わって数年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。講義後、質疑応答の時間以外にもメールにてご質問にもお答え致します。
■必要な予備知識
特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
ただし、少しでも半導体の洗浄に携わった方は理解が深まると思います。
■本セミナーに参加して修得できること
本講座を受講することで、半導体デバイスの物理的な洗浄およびそれに関する工学的な基礎知識について習得できます。
セミナー内容
1 半導体デバイス製造の基礎
1.1 半導体デバイスの基礎
(1) 半導体材料
(2) p型半導体とn型半導体
(3) シリコンウェハ上の電子部品の要素と構造
1.2 半導体製造プロセスについて
(1) CMOS製造を例としたプロセスの説明
(2) なぜ微細化が必要なのか？
1.3 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
(1) 化学的洗浄(RCA洗浄)の基礎
(2) 物理的洗浄の必要性
(3) パーティクルのカウント方法
(4) 物理洗浄に求められるもの
2 ウエット洗浄
2.1 パーティクルの付着理論
2.2 水流を用いた洗浄原理
2.3 高圧スプレー洗浄
2.4 二流体スプレー洗浄
2.5 メガソニック洗浄
(1) メガソニックスプレー
(2) 石英振動体型メガソニック洗浄方法
2.6 ブラシ洗浄
2.7 次世代の物理的洗浄技術
2.8 プロセスに合ったツールの使い分け
3 純水スプレー洗浄時の静電気障害
3.1 半導体デバイスの洗浄の静電気障害の実例
3.2 スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム
3.3 静電気障害の対策方法
4 近年の学会情報
(1) IMEC 主催16th Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (UCPSS 2023)
(2) he Electrochemical Society 主催International Symposium on Semiconductor Cleaning Science ＆ Technology (SCST2024)
5 まとめ 質疑応答
講師紹介
【略歴】
1990年 旭サナック株式会社入社
静電塗装機用高電圧発生回路の開発
半導体デバイス・FPD洗浄装置製造販売
電子デバイス用製膜装置の製造販売
技術統括・品質保証
2004年 米国アリゾナ大学客員研究員 半導体デバイスの精密加工プロセス（CMP）の研究
2007年 埼玉大学（学位取得）
2016年 愛知工業大学 工学部電気学科 教授
2022年 la quaLab合同会社設立
【専門】
電気電子材料学、品質工学、
【本テーマ関連学協会での活動】
所属学会
米国ECS、電気学会、電子情報通信学会、精密工学会、静電気学会
応用物理学会 応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会 運営委員
電子情報通信学会 有機エレクトロニクス研究会(OME) 幹事
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