・見逃し視聴ありでお申込み頂いた方は、セミナーの録画動画を一定期間視聴可能です。
・セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
・原則、遅くとも開催4営業日後までに録画動画の配信を開始します（一部、編集加工します）。
・視聴期間はセミナー開催日から4営業日後を起点に1週間となります。
ex) 2/6（月）開催 セミナー → 2/10（金）までに配信開始 → 2/17（金）まで視聴可能
※メールにて視聴用URL・パスワードを配信します。配信開始日を過ぎてもメールが届かない場合は必ず弊社までご連絡ください。
※準備出来しだい配信致しますので開始日が早まる可能性もございます。その場合でも終了日は変わりません。
上記例の場合、2/8（水）から開始となっても2/17まで視聴可能です。
※GWや年末年始・お盆期間等を挟む場合、それに応じて弊社の標準配信期間設定を延長します。
※原則、配信期間の延長は致しません。
※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
（見逃し視聴あり）の方の受講料は（見逃し視聴なし）の受講料に準じますので、ご了承ください。
→見逃し視聴について、
こちらから問題なく視聴できるかご確認ください。（テスト視聴動画へ） パスワード「123456」
セミナーポイント
■はじめに
今日の情報化社会は、マイクロエレクトロニクス(ME)の発展に支えられている。MEは、1950年代に集積回路(IC)が開発されて以来、大規模集積回路(LSI)のパターンの微細化、高集積化、すなわちメモリー大容量化の方向で、一貫して発展してきている。あわせて情報処理の高速化、低価格化も実現してきた。今後もメモリーの大容量化およびシステムLSIの高性能化の流れは止まりそうにないと予測されている。このような流れの中で、フォトリソグラフィの進歩はフォトレジストなどの材料開発が中心軸となってMEの発展に寄与してきたが、これらの材料をうまく使いこなす露光装置を中心としたハードウェア、プロセス技術の進歩も著しいものがある。
レジスト材料の開発はパターンの微細化、高解像度化が中心で、これは主として露光に用いる光の波長を短くすることで実現されてきた。ここまではさまざまな選択肢、さまざまな試行など、紆余曲折はあったものの、結果として振り返ってみれば、それまでの技術の延長線上で進んできている。1970年代から40年余りの短い時間に次のような大きな技術変革を経験している。
1) コンタクトアライナーによるリソグラフィ技術の確立
2) 投影露光方式の導入
3) 化学増幅型レジスト／エキシマレーザ光源の採用
4) EUV光源の採用など
それぞれのステップで多くのイノベーションが実現され課題を克服してきたわけである。ここでは、これまでの技術・材料開発の事例をまとめ、今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用への指針とする。
さらに、科学技術の進歩の負の側面として顕在化してきている地球規模の課題の解決に向けて半導体産業が果たす役割を考察し、日本の半導体産業の現状と課題を整理し、今後の展開の指針としたい。
■想定される主な受講対象者
研究開発、製造技術業務にたずさわって2～3年の若手技術者の方から中堅技術者、リーダー、事業企画担当。
■本セミナーに参加して修得できること
1. レジスト・リソグラフィ技術の基礎と技術開発の必然性、マイクロエレクトロニクスの
高密度化、高速化、低コスト化に伴うリソグラフィ技術の微細化・レジストの高解像度化などの
高品位化の歴史的変遷およびイノベーションの創出過程を知ることができる。
2. 技術・レジスト材料開発の実例を学ぶことにより、効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用が可能となる。
3. 事業課題を設定したり、事業計画の策定・推進、その他、新規事業の立ち上げや海外進出の推進、
他社との資本・業務提携・アライアンスなどに関する企画立案などの参考になる。
4. 社会における半導体の位置づけ、日本の半導体産業の現状と課題を理解し、今後の展望を考えることができる。
セミナー内容
１．技術パラダイムシフトと半導体集積回路
1-1 科学技術の発展
1-2 技術パラダイムシフト
1-3 マイクロエレクトロニクス(ME)と社会
1-4 ＭＥの黎明期とフォトレジスト
２．フォトレジストの本流
2-1 ゴム系ネガ型フォトレジスト
(1) リソグラフィプロセスの確立
(2) 基本的構造及び製造法の進化
2-2 ノボラック系ポジ型レジスト
(1) 基本的組成
(2) マトリックス樹脂、感光性化合物のデザイン
(3) レジストの透明性と解像度
(4) i-線レジスト
(5) リソグラフィプロセスでの化学と工程管理
(6) レジストの溶剤と環境への影響
(7) 高性能化への工夫と新たなイノベーション
３．フォトレジストの裏街道
3-1 Ｘ線レジスト
3-2 Top Surface Imaging：表層をイメージングレイヤーとするDESIREプロセス
3-3 Deep UVリソグラフィ
(1) 黎明期のレジスト
(2) 化学増幅型レジスト
(3) 光酸発生剤
４．エキシマレーザリソグラフィ
4-1 KrFレジスト
(1) エキシマレーザリソグラフィ実現への課題
(2) 光源・光学系の課題
(3) 化学増幅型レジストの課題
(4) 材料からの改良
(5) プロセス面からの改良
(6) 実用化されたレジスト材料
4-2 ArFレジスト
(1) ArFレジスト実現への課題
(2) 課題克服へのイノベーション
4-3 液浸リソグラフィ
(1) 液浸リソグラフィプロセス
(2) レジスト材料への展開
５．EUVリソグラフィ
5-1 光源・露光機の開発
5-2 レジスト開発
5-3 EUVLの課題
６．今後の展望
6-1 現像プロセスの課題
７．科学技術と社会(半導体と人間)
7-1 実装材料（ポリイミド）
7-2 フラットパネルディスプレイ材料
7-3 ブレインマシンインターフェイス(BMI)
7-4 科学技術と社会(地球規模の課題と科学技術/半導体)
８．国の安全保障の根幹を担う半導体産業
8-1 半導体産業の重要性
8-2 日本および世界の半導体産業の現状
8-3 経産省の戦略
8-4 再生のための論点
９．効率的にイノベーションを創出するために
知的財産戦略とMOT
１０．まとめ
講師紹介
【略歴】
1971年 東京大学工学部工業化学科 卒業
1973年 東京大学大学院工学系研究科合成化学専門課程 修了
1973年～2011年 ＪＳＲ㈱、フォトレジストの研究開発、マーケティング、事業企画、知的財産部長、テクノポリマー常勤監査役、インターリサーチ社長、千葉大学客員教授 (1997年～2000年) 兼務、東京大学大学院非常勤講師 (2002年～2004) 兼務、神奈川大学講師(2010年～2022年)兼務、電気学会先端リソグラフィ調査専門委員(1994年～2017年)、フォトポリマー懇話会会長(2012年～2020年)、2022年現在 フォトポリマー懇話会顧問、高分子学会フェロー、日本化学会正員
【専門】
機能性高分子、高分子合成、フォトポリマー、リソグラフィ材料、知的財産権
【本テーマ関連学協会での活動】
電気学会先端リソグラフィ調査専門委員(1994年～2017年)、フォトポリマー懇話会運営委員長(1995年～2012年)・会長(2012年～2020年)
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