真空技術の基礎と真空システムの構築方法

～これから真空装置を扱う方へ～

＜東京会場セミナー＞

講師

アステラテック(株) 代表取締役 博士（工学） 三好 幸三 氏

＊ 希望者は講師との名刺交換が可能です

講師紹介

○略歴
　1991年～ 精密機器メーカーの研究所勤務：液晶ディスプレイ素子、薄膜太陽電池の開発に従事
　2002年～ 電気機器メーカー研究所にて色素増感太陽電池の開発に従事：（桐蔭横浜大学宮坂研究室との共同開発）
　2010年 桐蔭横浜大学より博士（工学）の学位を授与される
　2012年 「最先端研究開発支援プログラム」にて研究員を兼務：桐蔭横浜大学外学院工学研究科 特任博士研究員／東京大学先端科学技術研究センター 協力研究員
○主な実績・経験
・液晶ディスプレイ素子の新規エッチング手法の開発
・プラスチック材料の新規親水化処理方法の発明
・透明ソーラーセルの発明とプロセス開発および実用化（2002年）
※露光装置、洗浄設備、剥離 装置、エッチング装置（ウェット、ドライ）といった量産設備や、各種成膜装置（PVD、CVD、MOCVD、ALD）、またFE-SEM、レーザー顕微鏡（新規実験室の設計・立上）の取扱いについて、多くの経験を有する。
※日本表面真空学会認定の真空主任技術者でもある。

日時・会場・受講料

●日時　2025年1月30日（木）　12:30-16:30　※途中、小休憩を挟みます。
●会場　[東京・大井町]きゅりあん5階第2講習室　→「セミナー会場へのアクセス」
●受講料　1名41,800円(税込（消費税10％）、資料付)
　＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円
　　　　　 ＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。

　●録音・撮影行為は固くお断り致します。
　●講義中の携帯電話の使用はご遠慮下さい。
　●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方の迷惑となる場合がありますので、極力お控え下さい。
　　場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承下さい。
　　＊ＰＣ実習講座を除きます。

■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ　→

セミナーポイント

○講師より／本セミナーのポイント
　真空装置は不純物を減らし、高品質な材料形成を可能にする製造設備です。半導体プロセスを中心にして20世紀後半から大きく発展してきました。近年では半導体だけで無く、発光素子、太陽電池、表示素子、バイオテクノロジー等様々な分野で使われています。
　本セミナーでは真空技術について基礎から実践まで幅広く説明します。
　真空そのものの基礎的な話に加え、真空装置に欠かせないプラズマの話、また、具体的な真空装置の構成や周辺のインフラ設備に関してまで幅広く解説します。
　※前回に引き続き、今回も会場での対面形式のセミナーとしています。前回同様に是非遠慮なく質問・コメントを頂ければ幸いです。出来る限り皆様の実務に役立つ講義にしたいと考えております。

○主な受講対象者は？
・これから真空装置を扱う方、真空装置の従事経験が浅い方
・真空装置を扱ってはいるが、より良く使いこなしていきたい方　等

○本セミナーで得られる主な知識・情報・ノウハウ
・真空そのものの知識
・真空装置の構築方法
・真空に不可欠なプラズマの知識
・各種成膜装置、エッチングの知識
・日々の管理ポイントとトラブルシューティング　等

セミナー内容

1. 真空技術者のための真空の基礎知識
　1.1 真空とは
　1.2 気体分子運動論
　1.3 真空と表面の関係

2. 真空装置の基礎
　2.1 真空の作り方
　2.2 真空の測り方
　2.3 真空装置の基本構成
　2.4 真空装置構成のポイント
　2.5 真空装置の構成材料

3. プラズマの基礎
　3.1 プラズマとは何か
　3.2 プラズマの作り方

4. 半導体プロセスの基礎とプロセスフロー
　4.1 半導体とは
　4.2 プロセスフロー
　4.3 成膜
　4.4 リソグラフィ
　4.5 エッチング
　4.6 洗浄

5. 真空装置の具体例（成膜装置・エッチング装置）
　5.1 成膜装置
　　5.1.1 蒸着装置
　　5.1.2 スパッタリング装置
　　5.1.3 CVD装置
　5.2 エッチング装置
　　5.2.1 RIE
　　5.2.2 ECR

6. 真空装置の周辺設備
　6.1 ガス供給設備
　6.2 冷却水
　6.3 除害設備

7. 現場のトラブルシューティング
　7.1 日々の管理項目
　7.2 リークテストとリークトラブルの対応策
　7.3 放電トラブルの原因と対応策
　7.4 冷却水トラブル
　7.5 何が壊れやすいか？：必要なバックアップ

＜質疑応答＞