「シリコン系光導波路」オンラインセミナー2025│基礎・フォトニクス集積技術の最新動向・展望
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Zoom見逃し視聴あり

オンライン受講/見逃視聴なし → 

オンライン受講/見逃視聴あり → 


○光導波構造の基礎から、シリコンフォトニクスデバイスの動作原理や研究開発動向、モノリシック/ハイブリッド集積技術や2.5/3次元実装、ファブレス化の動きまで。先端技術を基礎から包括的に学べます!

シリコン系光導波路の基礎と

フォトニクス集積技術の最新動向、今後の展望まで

<Zoomによるオンラインセミナー・見逃し視聴あり>

講師

産業技術総合研究所
プラットフォームフォトニクス研究センター シリコンフォトニクス研究チーム
主任研究員 高 磊 氏

講師紹介

 日本電信電話株式会社 研究員,カリフォルニア大学バークレー校 博士研究員(日本学術振興会 海外特別研究員)を経て,2016年に国立研究開発法人 産業技術総合研究所入所.現在,プラットフォームフォトニクス研究センター シリコンフォトニクス研究チーム所属,主任研究員.

日時・受講料

●日時 2025年2月12日(水) 13:00-17:00 *途中、小休憩を挟みます。

●受講料
 【オンライン受講:見逃し視聴なし】 1名41,800円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円

 【オンライン受講:見逃し視聴あり】 1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
 *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

 *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認下さい。


■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →

※配布資料等について

●配布資料はPDF等のデータで配布致します。ダウンロード方法等はメールでご案内致します。
・配布資料に関するご案内は、開催1週前~前日を目安にご連絡致します。
・準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
 (土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)
・セミナー資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。

●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。(全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売などは禁止致します。
●ご受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールアドレス宛にお問い合わせください。
req@*********(*********にはjohokiko.co.jpを入れてください)

オンラインセミナーご受講に関する各種案内(ご確認の上、お申込みください。)
・PC/タブレット/スマートフォン等、Zoomが使用できるデバイスをご用意ください。
・インターネット 回線速度の目安(推奨) 下り:20Mbps以上
・開催が近くなりましたら、Zoom入室URL、配布資料、当日の流れなどをメールでご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報ください。
・受講者側のVPN、セキュリティ設定、通信帯域等のネットワーク環境ならびに使用デバイスの不具合については弊社では対応致しかねますので予めご了承ください。

Zoom
Zoom使用に関する注意事項(クリックして展開)
・公式サイトから必ず事前のテストミーティングをお試しください。
 → 確認はこちら
 →Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomで音声が聞こえない、
  カメラ・マイクが使えない等の事象が起きる可能性がございます。
  お手数ですが、これらのアプリは閉じた状態にてZoomにご参加ください。
 →音声が聞こえない場合の対処例

・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です。
 →参加方法はこちら
 →一部のブラウザは音声が聞こえない等の不具合が起きる可能性があります。
  対応ブラウザをご確認の上、必ず事前のテストミーティング をお願いします。
  (iOSやAndroidOS ご利用の場合は、アプリインストールが必須となります)

見逃し視聴あり
申込み時に(見逃し視聴あり)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。
(クリックして展開)
・見逃し視聴ありでお申込み頂いた方は、セミナーの録画動画を一定期間視聴可能です。
・セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
・原則、遅くとも開催4営業日後までに録画動画の配信を開始します(一部、編集加工します)。
・視聴期間はセミナー開催日から4営業日後を起点に1週間となります。
 ex) 2/6(月)開催 セミナー → 2/10(金)までに配信開始 → 2/17(金)まで視聴可能
 ※メールにて視聴用URL・パスワードを配信します。配信開始日を過ぎてもメールが届かない場合は必ず弊社までご連絡ください。
 ※準備出来しだい配信致しますので開始日が早まる可能性もございます。その場合でも終了日は変わりません。
  上記例の場合、2/8(水)から開始となっても2/17まで視聴可能です。
 ※GWや年末年始・お盆期間等を挟む場合、それに応じて弊社の標準配信期間設定を延長します。
 ※原則、配信期間の延長は致しません。
 ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
  (見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承ください。
 →見逃し視聴について、こちらから問題なく視聴できるかご確認ください。(テスト視聴動画へ) パスワード「123456」 

セミナー開催にあたって

■はじめに:
 シリコン系光導波路素子とその集積技術(通称:シリコンフォトニクス)は基礎的な研究段階から,産業展開に至る実用化開発段階へ移行しており,市場は急拡大を続けている.その一方,更なる高密度・高性能な光集積回路を実現に向けて,解決すべき技術課題が多数認識されており,新たなブレークスルーが求められる.本講演では基本的なシリコンフォトニクス素子の動作原理から最近の技術動向,将来に渡って取り組むべき諸課題について取り上げ,解説を行う.

■受講対象者:
本テーマに興味のある方なら、どなたでも受講可能です。

■必要な予備知識:
この分野に興味のある方なら、特に予備知識は必要ありません。光導波路の基礎では高校卒業レベルの数学および物理を使います.

■本セミナーで習得できること(一例):
・光導波構造の基礎
・各種光材料を適用した場合の長所/短所比較
・シリコンフォトニクスデバイスの基本動作原理,研究開発の現状
・モノリシック/ハイブリッドフォトニクス集積技術,ファブレス化の動向
など

セミナー内容

1.光導波構造の基礎
 1.1 1次元の光閉込めと光伝搬
 1.2 2次元(3層スラブ導波路)の固有値方程式と導波モード形成
 1.3 高次モードとカットオフ
 1.4 ガラス,化合物半導体,シリコン系導波路の比較

2.シリコン系光導波路デバイス
 2.1 パッシブ光デバイス(カプラ,フィルタ,入出力光結合など)
 2.2 光変調器
 2.3 受光器
 2.4 レーザー光源

3.最新のフォトニクス集積技術
 3.1 ムーアの法則と集積フォトニクスデバイスの活用
 3.2 CMOS互換モノリシック集積技術
 3.3 多彩な異種材料を活用したハイブリッド集積技術
 3.4 光チップレット,2.5/3次元実装
 3.5 ファブレス化,ファウンドリーサービスの現状

<質疑応答>

セミナー番号:AD250229

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