・見逃し視聴ありでお申込み頂いた方は、セミナーの録画動画を一定期間視聴可能です。
・セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
・原則、遅くとも開催4営業日後までに録画動画の配信を開始します（一部、編集加工します）。
・視聴期間はセミナー開催日から4営業日後を起点に1週間となります。
ex) 2/6（月）開催 セミナー → 2/10（金）までに配信開始 → 2/17（金）まで視聴可能
※メールにて視聴用URL・パスワードを配信します。配信開始日を過ぎてもメールが届かない場合は必ず弊社までご連絡ください。
※準備出来しだい配信致しますので開始日が早まる可能性もございます。その場合でも終了日は変わりません。
上記例の場合、2/8（水）から開始となっても2/17まで視聴可能です。
※GWや年末年始・お盆期間等を挟む場合、それに応じて弊社の標準配信期間設定を延長します。
※原則、配信期間の延長は致しません。
※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
（見逃し視聴あり）の方の受講料は（見逃し視聴なし）の受講料に準じますので、ご了承ください。
→見逃し視聴について、
こちらから問題なく視聴できるかご確認ください。（テスト視聴動画へ） パスワード「123456」
セミナーポイント
半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。
本セミナーでは序論として、まず汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。
それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。
また、洗浄以外の汚染制御技術に関しても紹介します。
最後に、次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。
洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要です。洗浄の意義を一緒に考えましょう！
○受講対象：
・半導体の洗浄やクリーン化に関しての知識を習得したい方
・半導体メーカーで洗浄に携わっている方
・半導体洗浄装置メーカーで洗浄装置開発等に携わっている方
・薬液メーカー、部材メーカーの方
その他
○受講後、習得できること：
・最新の半導体洗浄やクリーン化に関する知識と問題点を習得できる。
・半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。
セミナー内容
１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
1-1.金属汚染
・Fe,Cu等
・ナノパーティクル
1-2.分子汚染
・NH3
・アミン
・有機物
・酸性ガス成分
1-3.各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
２．洗浄技術
2-1.RCA洗浄
・RCA洗浄の特徴・基本プロセス
・RCA洗浄のメリットと問題点
2-2.各種洗浄液と洗浄メカニズム(薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄)
・各種薬液の種類・特徴とその洗浄メカニズム
・機能水(純水系洗浄)洗浄の特徴
・薬液系洗浄／純水系洗浄のメリットとデメリット
2-3.洗浄プロセスの動向
・バッチ洗浄と枚葉洗浄
・超微細構造化に伴う洗浄への要求事項と対策
・パーティクルレス洗浄プロセス
・目的別の洗浄技術・プロセスとその特徴・留意点
2-4.乾燥技術
・現在使用されている主な乾燥技術
・乾燥プロセスの問題点
2-5.最先端の洗浄技術とその問題点
・半導体製造プロセスの革新に対応する洗浄技術
・特殊洗浄(残渣除去)
３．その他の汚染制御技術
3-1.工場設計
・クリーンルーム環境の整備・管理
・エアワシャ技術
・ケミカルフィルター技術
・パーティクル汚染対策
3-2.ウェーハ保管、移送方法
・FUOP運用方法と汚染リスク
・ウェーハ清浄化技術(N2パージ法、N2ストッカー法)
４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
4-1.新洗浄乾燥技術
・超臨界CO2洗浄乾燥
・PK(パターンキーパー)剤乾燥
4-2.次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題
・高アスペクト構造/3D構造による残留ガス/水分の問題
(超臨界CO2洗浄乾燥技術、特殊薬液による残渣除去技術)
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