……Zoomオンライン受講
……見逃し視聴選択可
★先端半導体の製造における重要技術の特許出願状況、主要プレイヤーの動向、EUVレジスト等の最新技術など、周辺状況の整理・把握に最適！知財戦略策定に向けたヒントを得られます。
講師
弁理士法人深見特許事務所 機械第1部 顧問 栗山 祐忠 氏
講師紹介
■経歴
・富山大学 理学部物理学科卒業(1984)
・富山大学大学院 理学研究科 物理学専攻 修士課程終了(1986)
・三菱電機（株）(1986-2003) LSI研究所、知的財産部門
・弁理士登録(2005)
・(株)ルネサステクノロジ [現 ルネサスエレクトロニクス(株)](2003-2018)
特許部長(2011-2018)、特許調査部長(2011-2012)
・深見特許事務所(2019-)
■専門および得意な分野・研究
・知的財産権
・半導体デバイスおよび回路
■本テーマ関連学協会での活動
＜委員＞
・日本弁理士会 特許委員会(2009-2011)
・半導体理工学研究センター(STARC) 法務知財委員(2011)
・日本弁理士会 国際活動センター(2013-2014)
・日本弁理士会 知財プレゼンス向上委員会(2020-2021)
＜講師＞
・日本弁理士会 特許委員会公開フォーラムin東京(米国法におけるダブルトラック制度担当)(2012)
・日本弁理士会 関西会 パテントセミナー2022 「オープン＆クローズ戦略」担当(2022)
・京都先端科学大学 工学部 「知的財産関連講座」(日本弁理士会 個別大学支援事業) 講師(2023-)
・兵庫県立大学 環境人間学研究科 博士前期課程1年「研究において考慮すべき知財」(日本弁理士会 個別大学支援事業) 講師(2024-)
＜その他関連セミナー＞
半導体製造プロセス 一覧はこちら
日時・受講料・お申込みフォーム
●日時：2025年8月29日(金) 13:00-16:00 ＊途中、小休憩を挟みます。
●受講料：
【オンライン受講（見逃し視聴なし）】：1名 40,700円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき29,700円
【オンライン受講（見逃し視聴あり）】：1名 46,200円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき35,200円
＊学校法人割引：学生、教員のご参加は受講料50％割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認ください。
●録音・録画行為は固くお断りいたします。
お申込みはこちらから
配布資料・講師への質問など
●配布資料はPDFなどのデータで配布いたします。ダウンロード方法などはメールでご案内いたします。
・配布資料に関するご案内は、開催1週前～前日を目安にご連絡いたします。
・準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申込みをお願いいたします。
（土、日、祝日は営業日としてカウントしません。）
・セミナー資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。
●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。（全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。）
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売などは禁止いたします。
●ご受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールアドレス宛にお問い合わせください。
req@*********（*********にはjohokiko.co.jpを入れてください）
オンラインセミナーご受講に関する各種案内（必ずご確認の上、お申込みください。）
※メールアドレスの記載誤りについては、以下へご連絡お願いいたします。
req@*********（*********にはjohokiko.co.jpを入れてください）
→Skype／Teams／LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomで音声が聞こえない、カメラ・マイクが使えないなどの事象が起きる可能性がございます。お手数ですが、これらのアプリは閉じた状態にてZoomにご参加ください。
→音声が聞こえない場合の対処例
→一部のブラウザは音声が聞こえないなどの不具合が起きる可能性があります。
対応ブラウザをご確認の上、必ず事前のテストミーティング をお願いします。
（iOSやAndroidOS ご利用の場合は、アプリインストールが必須となります）
→見逃し視聴について、 こちらから問題なく視聴できるかご確認ください。（テスト視聴動画へ）パスワード「123456」
＜見逃し視聴ご案内の流れ・配信期間詳細＞
セミナーポイント
■講座のポイント
日本の半導体製造技術の復活に向け、TSMCの子会社JASMやRapidusが設立され、半導体製造技術に注目が集まりつつあります。今回、最近の半導体の国際学会情報、書籍、Web上の技術情報をもとに、注目される先端半導体の製造プロセス、デバイス、実装技術を抽出し、それらに関する近年公開された米国特許出願を中心に、無料特許データベースツールを用いて分析を行います。分析においては、各社の出願状況を探り、半導体製造技術における知的財産戦略の一端の考察を行う予定です。注目技術として、EUV露光とレジスト、トランジスタ構造、次世代不揮発性メモリ、チップレット等を紹介予定です。
■受講後、習得できること
・先端半導体の製造における重要技術に関する特許出願状況
・先端半導体の製造に関連する主な会社の出願状況
・先端半導体の製造に関連する会社の知財戦略に向けた基礎データの一部
■受講対象
・先端半導体の製造における重要技術の近年の出願状況を知りたい方
・先端半導体の製造に関連する主な会社の出願状況を知りたい方
・先端半導体の製造に関連する会社の知財戦略に向けた基礎情報を得たい方
■本テーマ関連法規・ガイドラインなど
・各国特許法
■講演中のキーワード
EUV(Extreme UltraViolet)、GAA(Gate All Around)、RRAM(Resistive Random Access Memory)、MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory)、チップレット
セミナー内容
１．半導体業界の状況
1-1.半導体業界の概観
1-2.半導体製造会社(TSMC, Intel, Samsung, Rapidus等)
1-3.半導体製造の研究開発部門(IMEC,IBM,LSTC等)
1-4.半導体装置、材料メーカー
２．学会、書籍、業界Web情報等から見る注目技術
2-1.IEDM、Symposium on VLSI Technology and Circuits
2-2.書籍
2-3.Web上の技術情報
３．注目技術
3-1.注目技術の概観
3-2.EUV露光装置
3-3.EUVレジスト
3-4.トランジスタ(ナノシート、GAA)
3-5.トランジスタ(CFET)
3-6.次世代不揮発性メモリ(RRAM)
3-7.次世代不揮発性メモリ(MRAM)
3-8.チップレット
４．今回の特許分析方法
4-1.特許分析の考え方
4-2.J-PlatPat
4-3.Espacenet
4-4.ULTRA Patent
4-5.その他
５．注目技術に関する特許出願分析
5-1.EUV露光装置
5-2.EUVレジスト
5-3.ナノシート、GAA、CFET
5-4.RRAM、MRAM
5-5.チップレット、3D実装
６．特許分析からの知財戦略の一考察
6-1.特許業界の状況
6-2.特許係争事例
6-3.オープン＆クローズ戦略
6-4.NPE(Non Practicing Entity：特許不実施主体)
6-5.知財戦略の一提案
７．まとめ
＊プログラム項目は一部変更となる場合がございます。予めご了承いただきますようお願い申し上げます。
お申込みはこちらから
