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スパッタリング│セミナー2026│基礎から膜品質の向上・トラブル対策

スパッタリングの基礎から膜品質の向上・トラブル対策

~原理から最新動向まで学び現場での品質向上を目指す~

■本セミナーの受講形式(会場/Zoom両アイコンある場合は受講形式選択可)

zoom……Zoomオンライン受講

見逃し視聴あり……見逃し視聴選択可


〇スパッタリングの基礎・要素技術から、反応性スパッタなどの高速成膜技術や最新カソード技術、膜厚の均一化・内部応力の低減・密着性向上などのテクニック、最新トピックスまで。
〇様々な産業で活用されているスパッタリング技術を包括的・俯瞰的に解説!

講師

有限会社アーステック 代表取締役/名古屋大学 客員教授 小島 啓安 氏


講師紹介

 キヤノン株式会社にて、半導体露光装置の光学膜開発を5年ほど従事、その後旭硝子株式会社(現・AGC株式会社)にて、自動車用、建築用、電子基板用のスパッタによる薄膜開発を行う。2003年に有限会社アーステック設立し、薄膜コンサルタントを開始。2012年に名古屋大学にて学位取得、同年より名古屋大学客員教授を務める。

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日時・受講料・お申込みフォーム

●日時:2026年4月20日(月) 10:30-16:30 *途中、お昼休みや小休憩を挟みます。

●受講料:
【オンライン受講(見逃し視聴なし)】:1名 50,600円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円

【オンライン受講(見逃し視聴あり)】:1名 56,100円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき45,100円

学校法人割引:学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認ください。
5名以上でのお申込の場合、更なる割引制度もございます。
 ご希望の方は、以下より別途お問い合わせ・お申込みください。
 req@*********(*********にはjohokiko.co.jpを入れてください)

■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ →


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オンライン受講/見逃視聴なし

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配布資料・講師への質問など

●配布資料は、印刷物を郵送で1部送付いたします。
・お申込みの際にお受け取り可能な住所を必ずご記入ください。

・郵送の都合上、お申込みは4営業日前までを推奨します。(土、日、祝日は営業日としてカウントしません。)
・それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、その場合、テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。ご了承の上お申込みください。
・資料未達の場合などを除き、資料の再配布はご対応できかねますのでご了承ください。

●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。(全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。)
●ご受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールアドレス宛にお問い合わせください。
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5名以上でのお申込の場合、更なる割引制度もございます。
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オンラインセミナーご受講に関する各種案内(必ずご確認の上、お申込みください。)

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    申込み時に(見逃し視聴あり)を選択された方は、見逃し視聴が可能です。(クリックして展開)

  • 見逃し視聴ありでお申込みされた方は、セミナーの録画動画を一定期間視聴可能です。
  • セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
  • 原則、遅くとも開催4営業日後までに録画動画の配信を開始します(一部、編集加工します)。
  • 視聴期間はセミナー開催日から4営業日後を起点に1週間となります。
  • ex)2/6(月)開催 セミナー → 2/10(金)までに配信開始 → 2/17(金)まで視聴可能
    →見逃し視聴について、 こちらから問題なく視聴できるかご確認ください。(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」

    <見逃し視聴ご案内の流れ・配信期間詳細>
  • メールにて視聴用URL・パスワードを配信します。配信開始日を過ぎてもメールが届かない場合は必ず弊社までご連絡ください。
  • 準備出来しだい配信いたしますので開始日が早まる可能性もございます。その場合でも終了日は変わりません。上記例の2/6開催セミナーの場合、2/8から開始となっても2/17まで視聴可能です。
  • GWや年末年始・お盆期間などを挟む場合、それに応じて弊社の標準配信期間設定を延長します。
  • 原則、配信期間の延長はいたしません。
  • 万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、(見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承ください。
  • セミナーポイント

    ■はじめに:
     スパッタ技術は、再現性が良く、小さい基板から大きい基板まで均一性に優れ、低温においても密着性良く成膜出来る重要な技術であり、フイルム、ガラス、セラミック基板、最近では半導体用のウエハーなど多くの製品に使われている。スパッタ膜の機能、特性も高度化、多機能化したために、成膜トラブルも多くなっている。スパッタの原理を確認し、さらに最新カソード技術を紹介しながら、現場の品質向上について解説する。

    ■受講対象者:
    ・スパッタ膜のコスト低減、機能向上などを求めている方
    ・本テーマに興味のある方なら、どなたでも

    ■必要な予備知識:
    ・高校卒業程度の化学、物理の知識
    ・この分野への興味がある方

    ■本セミナーで習得できること:
    ・スパッタの基礎知識、成膜パラメーターの最適化、重要度
    ・スパッタ膜のトラブル対処法
    など

    セミナー内容

    1.スパッタリングの理解とノウハウ
     1-1 スパッタの原理
     1-2 スパッタと蒸着の違い
     1-3 スパッタ装置
     1-4 成膜ファクターと膜の性質

    2.スパッタリングでの重要な要素技術
     2-1 パルス技術
     2-2 マグネトロン技術

    3.高速成膜技術
     3-1 反応性スパッタ
     3-2 ヒステリシス
     3-3 プラズマエミッションコントロール

    4.最新カソード技術
     4-1 デュアルカソードの特徴
     4-2 ロータリーカソードの長所、短所
     4-3 AC放電
     4-4 低ダメージカソード

    5.スパッタトラブル対策
     5-1 アーキングを減らすには
     5-2 アノード消失とは?
     5-3 膜厚均一化対策
     5-4 内部応力低減策
     5-5 密着性向上

    6.最新トピックスおよびスパッタ応用製品

    7.受講者からの質問回答及び相談


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    セミナーコード:AD260427

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