……Zoomオンライン受講
……見逃し視聴選択可
〇スパッタリングの基礎・要素技術から、反応性スパッタなどの高速成膜技術や最新カソード技術、膜厚の均一化・内部応力の低減・密着性向上などのテクニック、最新トピックスまで。
〇様々な産業で活用されているスパッタリング技術を包括的・俯瞰的に解説!
講師
有限会社アーステック 代表取締役/名古屋大学 客員教授 小島 啓安 氏
講師紹介
キヤノン株式会社にて、半導体露光装置の光学膜開発を5年ほど従事、その後旭硝子株式会社(現・AGC株式会社)にて、自動車用、建築用、電子基板用のスパッタによる薄膜開発を行う。2003年に有限会社アーステック設立し、薄膜コンサルタントを開始。2012年に名古屋大学にて学位取得、同年より名古屋大学客員教授を務める。
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日時・受講料・お申込みフォーム
●日時:2026年4月20日(月) 10:30-16:30 *途中、お昼休みや小休憩を挟みます。
●受講料:
【オンライン受講(見逃し視聴なし)】:1名 50,600円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円
【オンライン受講(見逃し視聴あり)】:1名 56,100円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき45,100円
*学校法人割引:学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認ください。
*5名以上でのお申込の場合、更なる割引制度もございます。
ご希望の方は、以下より別途お問い合わせ・お申込みください。
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配布資料・講師への質問など
●配布資料は、印刷物を郵送で1部送付いたします。
・お申込みの際にお受け取り可能な住所を必ずご記入ください。
・郵送の都合上、お申込みは4営業日前までを推奨します。(土、日、祝日は営業日としてカウントしません。)
・それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、その場合、テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。ご了承の上お申込みください。
・資料未達の場合などを除き、資料の再配布はご対応できかねますのでご了承ください。
●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。(全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。)
●ご受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールアドレス宛にお問い合わせください。
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*5名以上でのお申込の場合、更なる割引制度もございます。
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→音声が聞こえない場合の対処例
→一部のブラウザは音声が聞こえないなどの不具合が起きる可能性があります。
対応ブラウザをご確認の上、必ず事前のテストミーティング をお願いします。
(iOSやAndroidOS ご利用の場合は、アプリインストールが必須となります)
→見逃し視聴について、 こちらから問題なく視聴できるかご確認ください。(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」
<見逃し視聴ご案内の流れ・配信期間詳細>
セミナーポイント
■はじめに:
スパッタ技術は、再現性が良く、小さい基板から大きい基板まで均一性に優れ、低温においても密着性良く成膜出来る重要な技術であり、フイルム、ガラス、セラミック基板、最近では半導体用のウエハーなど多くの製品に使われている。スパッタ膜の機能、特性も高度化、多機能化したために、成膜トラブルも多くなっている。スパッタの原理を確認し、さらに最新カソード技術を紹介しながら、現場の品質向上について解説する。
■受講対象者:
・スパッタ膜のコスト低減、機能向上などを求めている方
・本テーマに興味のある方なら、どなたでも
■必要な予備知識:
・高校卒業程度の化学、物理の知識
・この分野への興味がある方
■本セミナーで習得できること:
・スパッタの基礎知識、成膜パラメーターの最適化、重要度
・スパッタ膜のトラブル対処法
など
セミナー内容
1.スパッタリングの理解とノウハウ
1-1 スパッタの原理
1-2 スパッタと蒸着の違い
1-3 スパッタ装置
1-4 成膜ファクターと膜の性質
2.スパッタリングでの重要な要素技術
2-1 パルス技術
2-2 マグネトロン技術
3.高速成膜技術
3-1 反応性スパッタ
3-2 ヒステリシス
3-3 プラズマエミッションコントロール
4.最新カソード技術
4-1 デュアルカソードの特徴
4-2 ロータリーカソードの長所、短所
4-3 AC放電
4-4 低ダメージカソード
5.スパッタトラブル対策
5-1 アーキングを減らすには
5-2 アノード消失とは?
5-3 膜厚均一化対策
5-4 内部応力低減策
5-5 密着性向上
6.最新トピックスおよびスパッタ応用製品
7.受講者からの質問回答及び相談
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セミナーコード:AD260427


