★各種洗浄液、洗浄・乾燥プロセスの特徴・課題から最近の先端半導体製造プロセスの革新に対応する洗浄乾燥技術まで！
★エアワシャ技術、パーティクル対策等、歩留まり改善に有効な各種クリーン化技術を解説します！
講師
オフィスシラミズ 半導体技術コンサルタント 室長 博士(工学) 白水 好美 氏
■ご略歴
2019 東北大学大学院工学研究科博士後期課程 修了 博士(工学)(2019.3)
1983 富士通株式会社
1991 日本電気(株)-NECエレクトロニクス㈱ｰルネサスエレクトロニクス㈱
2013 Samsung electronics 常務
2016 オフィスシラミズ開業 現在に至る。
■ご専門および得意な分野・研究等：
半導体洗浄／クリーン化技術(工場設計)／微量分析技術
■本テーマ関連のご活動
SEMI シリコンウェーハ委員会テストメソッドタスクフォース委員
IRDS/SDRJ 歩留向上委員会メンバー(応用物理学会シリコンテクノロジー分科会)
空気清浄協会 準会員(個人会員)
書籍:「迫りくるAI時代に向けた半導体製造プロセスの今」 （株）情報機構 2019.5
＜第3章 第5節 パターン倒壊を防ぐ洗浄とクリーン化最新動向＞
書籍:「クリーンルーム環境の維持管理」空気清浄協会 2021.11
＜1.2 汚染物質の概要（4）その他(金属、水分など)＞
＜その他関連商品＞
半導体製造プロセス 一覧はこちら
書籍「次世代に向けた半導体パッケージング技術」 詳細はこちら
日時・受講料・お申込みフォーム
●視聴可能期間：2026年5月1日～2026年5月31日（申込締切：5月20日）
＊2026年3月24日開催セミナーのアーカイブ配信です。期間中は何度も繰り返しご視聴できます。
＊視聴に必要な情報（視聴URL、パスワード、資料のダウンロードリンクなど）は別途メールで送付いたします。
・4月28日の11:30より前にお申込みの方：5月1日に視聴用URLなどを送付予定です。
・4月28日の11:30以降にお申込みの方：お申込み後3日以内（土日祝除く営業日ベース）に視聴用URLを送付します。
→4営業日経過しても視聴用URLがお手元に届かない場合、弊社までご一報ください。
連絡先：req@*********（*********にはjohokiko.co.jpを入れてください）
●動画時間：約3時間46分
●受講料：
【アーカイブ配信】：1名 46,200円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき35,200円
＊学校法人割引：学生、教員のご参加は受講料50％割引。→「LMS・アーカイブ配信申込要領・手順」を確認ください。
＊5名以上でのお申込の場合、更なる割引制度もございます。
ご希望の方は、以下より別途お問い合わせ・お申込みください。
req@*********（*********にはjohokiko.co.jpを入れてください）
お申込みはこちらから
お申込みいただく前に ※かならずご一読ください。
●ご視聴の流れ：
・視聴に必要な情報（視聴URL、パスワード、資料のダウンロードリンクなど）は別途メールで送付いたします。
4月28日の11:30より前にお申込みの方：5月1日に視聴用URLなどを送付予定です。
4月28日の11:30以降にお申込みの方：お申込み後3日以内（土日祝除く営業日ベース）に視聴用URLを送付します。
・上記までにメールが届かない場合は迷惑メールフォルダ等ご確認のうえ、弊社まで必ずご一報ください。
連絡先：req@*********（*********にはjohokiko.co.jpを入れてください）
・視聴期間の延長は出来ませんので、ご了承ください。
・請求書は、別途郵送で送付いたします。
●配布資料
・PDFなどのデータで共有いたします（共有可能なもののみとなりますのでご了承ください）。
・配布資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。
●アーカイブ配信では原則講師へのご質問はお受けできませんのでご了承ください。
●事前に必ず以下のサンプルページより動作確認をしてからお申込みください。
情報機構テスト用動画へ→
パスワード：123456
●本セミナーで使用する資料や配信動画は著作物であり、録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売およびそれに類する行為を禁止いたします。
●動作確認やシステム設定に関するサポートは弊社では行っておりませんので、PC設定等のお問い合わせはご遠慮ください。
●お申込みに関してお問い合わせなどございましたら、下記メールアドレスまでご連絡ください。
req@*********（*********にはjohokiko.co.jpを入れてください）
セミナーポイント
半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。
本セミナーでは序論として、まず汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。
それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。
また、洗浄以外の汚染制御技術に関しても紹介します。
最後に、次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。
洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要です。洗浄の意義を一緒に考えましょう！
○受講対象：
・半導体の洗浄やクリーン化に関しての知識を習得したい方
・半導体メーカーで洗浄に携わっている方
・半導体洗浄装置メーカーで洗浄装置開発等に携わっている方
・薬液メーカー、部材メーカーの方
その他
○受講後、習得できること：
・最新の半導体洗浄やクリーン化に関する知識と問題点を習得できる。
・半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。
セミナー内容
１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
1-1.金属汚染
・Fe,Cu等
・ナノパーティクル
1-2.分子汚染
・NH3
・アミン
・有機物
・酸性ガス成分
1-3.各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
２．洗浄技術
2-1.RCA洗浄
・RCA洗浄の特徴・基本プロセス
・RCA洗浄のメリットと問題点
2-2.各種洗浄液と洗浄メカニズム(薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄)
・各種薬液の種類・特徴とその洗浄メカニズム
・機能水(純水系洗浄)洗浄の特徴
・薬液系洗浄／純水系洗浄のメリットとデメリット
2-3.洗浄プロセスの動向
・バッチ洗浄と枚葉洗浄
・超微細構造化に伴う洗浄への要求事項と対策
・パーティクルレス洗浄プロセス
・目的別の洗浄技術・プロセスとその特徴・留意点
2-4.乾燥技術
・現在使用されている主な乾燥技術
・乾燥プロセスの問題点
2-5.最先端の洗浄技術とその問題点
・半導体製造プロセスの革新に対応する洗浄技術
・特殊洗浄(残渣除去)
３．その他の汚染制御技術
3-1.工場設計
・クリーンルーム環境の整備・管理
・エアワシャ技術
・ケミカルフィルター技術
・パーティクル汚染対策
3-2.ウェーハ保管、移送方法
・FUOP運用方法と汚染リスク
・ウェーハ清浄化技術(N2パージ法、N2ストッカー法)
４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
4-1.新洗浄乾燥技術
・超臨界CO2洗浄乾燥
・PK(パターンキーパー)剤乾燥
4-2.次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題
・高アスペクト構造/3D構造による残留ガス/水分の問題
(超臨界CO2洗浄乾燥技術、特殊薬液による残渣除去技術)
＜質疑応答＞
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商品コード：CD260504
