……Zoomオンライン受講
……見逃し視聴選択可
FOWLPからチップレット、さらにはCPOまで、先端パッケージ技術を体系的に整理して解説します。
あわせて、5月のECTCで示される最先端トレンドも踏まえ、今後の方向性を俯瞰します。
講師
東北大学 大学院医工学研究科 医工学専攻 教授 博士(工学)福島 誉史 氏
(大学院工学研究科 機械機能創成専攻 兼担)
【略歴】
・2004年8月~2025年3月
東北大学 大学院工学研究科 バイオロボティクス専攻・機械機能創成専攻にて助手/助教/准教授を務め、
自己組織化実装技術やChip-to-Wafer三次元積層技術の研究などに従事。
・2010年4月から現在まで
東北大学未来科学技術共同研究センター(NICHe)にて准教授を務め、
三次元スーパーチップLSI試作製造拠点GINTI(Global INTegration Initiative)にて、
ビアラストTSV方式で300mmウエハを用いた3D-ICの試作研究に従事。
・2016年3月~2017年7月、2022年
米国UCLA Electrical Engineering DepartmentのCenter for Heterogeneous
Integration and Performance Scaling (CHIPS)にて客員教員を務め、FOWLPを用
いたフレキシブル・ハイブリッド・エレクトロニクス(FHE)の研究に従事。
・2025年4月から現職
ハイブリッド接合等、3D-IC・チップレット集積技術に関する研究に従事。
【専門】
・半導体実装工学
・高分子材料工学
【本テーマ関連学協会での活動】
IEEE Electronic Components and Technology Conference (ECTC)/Program Committee of Interconnections 2014~現在
IEEE EPS Heterogeneous Integration Roadmap 2019 Edition
Chapter 22: Interconnects for 2D and 3D Architectures/Key Contributor
IEEE EPS (Electronics Packaging Society) Japan Chapter/Committee Member 2021年~
3D・チップレット研究会 幹事 2023年4月~
熊本大学 半導体・デジタル研究教育機構 クロスアポイントメント教授 2023年7月~
技術研究組合最先端半導体技術センター(LSTC) 3Dパッケージング技術開発部門 部門長 2025年3月~
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日時・受講料・お申込みフォーム
●日時:2026年7月29日(水) 10:30-16:30 *途中、お昼休みや小休憩を挟みます。
●受講料:
【オンライン受講(見逃し視聴なし)】:1名 50,600円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円
【オンライン受講(見逃し視聴あり)】:1名 56,100円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき45,100円
*「見逃し視聴あり」でお申込の場合、当日のご参加が難しい方も後日セミナー動画の視聴が可能です。
*学校法人割引:学生、教員のご参加は受講料50%割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認ください。
*5名以上でのお申込の場合、更なる割引制度もございます。
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配布資料・講師への質問など
●配布資料はPDFなどのデータで配布いたします。ダウンロード方法などはメールでご案内いたします。
・配布資料に関するご案内は、開催1週前~前日を目安にご連絡いたします。
・準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申込みをお願いいたします。
(土、日、祝日は営業日としてカウントしません。)
・セミナー資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。
●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。(全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。)
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セミナーポイント
■はじめに
2030年には半導体市場が1兆ドル規模へと成長すると見込まれる中、微細化だけでの性能向上が難しくなる一方で、システム性能をさらに引き上げる鍵として先端半導体パッケージング技術が世界的に注目されています。特にチップレット化の流れが加速し、3D‑IC、TSV、各種インターポーザ、狭ピッチはんだ接合/ハイブリッド接合、そしてFOWLPに代表されるRDL技術など、多様な実装方式が競い合う時代に入りました。また、材料・プロセス・信頼性解析の高度化も不可欠となり、パッケージング領域は半導体開発の中心的テーマへと位置づけられています。
本セミナーでは、これら先端パッケージングの基礎から最新動向までを体系的に整理するとともに、チップレット集積における実装課題や主要技術の原理、プロセスのポイントをわかりやすく解説します。さらに、2026年ECTCなど国際会議で議論されるCo-Packaged Optics (CPO)なども含め、最新トレンドについても概説し、今後のロードマップを俯瞰します。
■想定される主な受講対象者
材料メーカー、半導体製造装置メーカー、次世代デバイスの設計・研究開発・生産製造に携わる方(初心者から中級者まで)。
新たに半導体パッケージングや3D-IC/チップレット、ハイブリッド接合の研究開発に取り組むことになった方々や
新人への研修などを目的としてもかまいません。
■本セミナーに参加して修得できること
・先端半導体パッケージを俯瞰した基礎知識
・TSV技術の詳細(TGV: Through-Glass Viaについても紹介します)
・3D-ICとFOWLPの比較、課題の理解、今後取り組むべき研究開発の方向性
・各種インターポーザ技術やハイブリッド接合技術の基礎と先端研究
・3D-IC/チップレットのアプリケーションについて
セミナー内容
1. 先端半導体パッケージの研究開発動向
Fan-Out Wafer-Level Packaging (FOWLP)とChip-on-Wafer-on-Substrate (CoWoS)からチップレット、
2.xDアーキテクチャ、ハイブリッド接合への展開を中心に。
1.1 FOWLP
1.2 FOWLPの概要と歴史
1.3 FOWLPの分類(Die-first, RDL-first, InFO)と特徴
1.4 FOWLPの課題
1.5 FOWLPの研究開発動向
2. 3D-IC/チップレット
2.1 3D-ICの概要と歴史
2.2 3D-ICの分類
2.2.1 モノリシックvs.マルチリシック
2.2.2 積層対象による分類(Wafer-to-Wafer vs. Chip-to-Wafer)
2.2.3 積層形態による分類(Face-to-Face vs. Back-to-Face)
2.2.4 TSV形成工程による分類(Via-Middle vs. Via-Last)
2.2.5 接合方式による分類(マイクロバンプ接合 vs. ハイブリッド接合)
2.3 TSV形成技術
2.3.1 高異方性ドライエッチング
2.3.2 TSVライナー絶縁膜堆積
2.3.3 バリア/シード層形成
2.3.4 ボトムアップ電解Cuめっき
2.3.5 Cu-CMP
2.3.6 TSVの新展開と微細化について
2.3.7 TGV (Through-Glass Via)、ガラスコア&ガラスインターポーザ
2.4 ウエハ薄化技術
2.5 テンポラリー接着技術
2.6 チップ/ウエハ接合技術
2.6.1 マイクロバンプ接合とアンダーフィル
2.6.2 SiO2-SiO2直接接合
2.6.3 Cu-Cuハイブリッド接合(ECTCやIEDMを中心に長く説明します)
2.7 2.xDアーキテクチャと3D-IC/チップレットのアプリケーション
2.7.1 2.5Dシリコンインターポーザ(Intel社Foverosを中心に)
2.7.2 2.3D有機RDLインターポーザ
2.7.3 SiブリッジEMIB(Embedded Multi-Die Interconnect Bridge)
2.7.4 チップレットコンソーシアムの新構造Siブリッジ
2.7.5 三次元イメージセンサ(Sony社の発表内容を中心に)
2.7.6 三次元DRAM(HBM: High-Bandwidth Memory)for GPU
2.7.7 三次元マイクロプロセッサ(AMD社3D V-Cacheを中心に)
3. Co-Packaged Optics (CPO)
3.1 CPOが注目される背景
3.2 CPOの基本構造と役割
3.3 CPOに必要な要素技術
3.4 CPOの研究開発動向
4. まとめ
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