プラズマ技術の基礎とドライエッチングへの応用
～産業界で利用されているプラズマ技術と
微細加工を実現できるドライエッチング技術～

日時・会場・受講料・お申込みフォーム

●日時：2026年6月23日(火)　10:30-16:30　＊途中、お昼休みや小休憩を挟みます。

●会場：[神奈川・川崎]川崎市産業振興会館 10階第1会議室　→「セミナー会場へのアクセス」

●受講料：
【会場受講】：1名50,600円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円

＊学校法人割引：学生、教員のご参加は受講料50％割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認ください。
＊5名以上でのお申込の場合、更なる割引制度もございます。
　ご希望の方は、以下より別途お問い合わせ・お申込みください。
　req@*********（*********にはjohokiko.co.jpを入れてください）

■ セミナーお申込手順からセミナー当日の主な流れ　→

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会場（対面）セミナーご受講に関する各種案内（必ずご確認の上、お申込みください。）

●配布資料は、印刷したものを当日会場にてお渡しいたします。

●当日会場でセミナー費用等の現金支払はできません。
●昼食やお飲み物の提供もございませんので、各自ご用意いただけましたら幸いです。
●講義中の携帯電話・スマートフォンでの通話や音を発する操作はご遠慮ください。
●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方のご迷惑となる場合がありますので、極力お控えください。場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承ください（パソコン実習講座を除きます。）

●講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売などは禁止いたします。また、申込者以外の受講・動画視聴は固くお断りいたします（代理受講ご希望の際は、開催前日までに弊社までご連絡お願いします）。

セミナーポイント

■はじめに
　産業界で利用されるプラズマに関し、基礎から講演します。プラズマ中に生成される電子、イオン、ラジカルのふるまいについてお話します。
　産業界では、容量結合プラズマ（CCP）、誘導結合プラズマ（ICP）、電子サイクロトロン共鳴（ECR）プラズマが利用されています。これらのプラズマの特長について説明します。
　プラズマの応用例として、ドライエッチングについて説明します。ドライエッチングの中でも微細加工が可能な技術である反応性イオンエッチング（RIE）についてお話します。ラジカルと高エネルギーイオンの役割に基き、RIEのプロセスを説明します。
　最後にスパッタエッチングのエッチング速度を求める演習を行います。

■ご講演中のキーワード：
低温プラズマ、電子、イオン、ラジカル、磁化プラズマ、容量結合プラズマ（CCP）、誘導結合プラズマ（ICP）、電子サイクロトロン共鳴（ECR）プラズマ、反応性イオンエッチング（RIE）、シース

■受講対象者：
・プラズマを利用する若手エンジニア、プラズマ装置を開発・設計・製造する若手エンジニア
・半導体デバイス・電子部品メーカの若手エンジニア、半導体製造装置メーカ・電子部品製造装置メーカの若手エンジニア
・プラズマ技術の基礎を学びたい方、プラズマを使用している大学生・大学院生

■必要な予備知識や事前に目を通しておくと理解が深まる文献、サイトなど：
・この分野に興味のある方なら、特に予備知識は必要ありません。基礎から説明します。ただし、高校卒業程度の物理の知識があれば、より良いです。

■本セミナーで習得できること：
１．産業界で利用される低温プラズマの基礎的な性質が理解できます。
２．産業界で利用されている各種プラズマ装置の特長が理解できます。
３．プラズマプロセシングで重要な、シースに関する知識が習得できます。
４．プラズマパラメータとプラズマ計測技術に関する知識が習得できます。
５．プラズマの応用例として、ドライエッチング技術の基礎が理解できます。
６．微細加工が可能な反応性イオンエッチング（RIE）の基礎知識が習得できます。

セミナー内容

１．プラズマを利用している分野
（１）プラズマを用いてできること
（２）プラズマプロセシングについて：プラズマの産業界への応用

２．産業界におけるプラズマの基礎的性質
（１）産業界におけるプラズマ：電子密度（プラズマ密度）と電子温度
（２）プラズマ技術の用語と単位

３．プラズマ中に生成される粒子：電子、イオン、ラジカル
（１）電離度と解離度について
（２）電子、イオン、ラジカルについて
（３）プラズマプロセシング：物理的プロセスと化学反応を伴うプロセス

４．無磁場のプラズマと磁化プラズマ
（１）プラズマは反磁性：磁場を印加するとプラズマの性質が変わる
（２）プラズマ振動数（周波数）、衝突周波数、サイクロトロン（ラーモア）周波数について
（３）プラズマ装置の種類と用途

５．容量結合プラズマ（CCP）とCCPの応用
（１）CCP装置：歴史のあるプラズマ源
（２）CCPの応用：エッチングの場合とCVDの場合
（３）CCP装置の等価回路

６．誘導結合プラズマ（ICP）とICPの応用
（１）ICP装置：高密度プラズマの例　その1
（２）ICP装置の等価回路

７．磁気中性線放電（NLD）プラズマ：誘導結合型磁化プラズマの例
（１）NLDプラズマ装置：高密度プラズマの例　その２
（２）NLDプラズマ装置の等価回路

８．マイクロ波プラズマ、電子サイクロトロン共鳴（ECR）プラズマ
（１）ECRプラズマ生成の条件
（２）ECRプラズマ装置：高密度プラズマの例　その３
（３）プラズマ中の波動、CMA図（プラズマ中の波動の図）　

９．シース：プラズマプロセシングで重要なシースについて
（１）プラズマ、固体表面とシース：シースの性質、役割および重要性
（２）RFバイアス印加とイオンエネルギーの制御

１０．プラズマ計測診断技術、プラズマ装置のモニタリング技術
（１）ラングミュアプローブ、静電プローブ：プラズマ密度の計測
（２）プラズマ装置に発生する高電圧の計測：

１１．ドライエッチング
（１）スパッタエッチング：物理的エッチング
（２）プラズマエッチング：化学反応を伴うエッチング

１２．反応性イオンエッチング（RIE）：微細加工を実現する方法
（１）RIEはイオンアシストエッチング：ラジカルとイオンの役割
（２）ラジカルは等方的、イオンは異方的

１３．RFバイアスについて
（１）高エネルギーイオンはシースで作られる
（２）エッチングプロセスとイオンエネルギーの関係

１４．反応性イオンエッチング（RIE）：微細加工のために
（１）ラジカルと高エネルギーイオンが同時に照射される場合
（２）ドライエッチングにおける表面反応のモデル
（３）酸化膜SiO2のRIEの実例

１５．思考実験：スパッタエッチングをやってみましょう（演習）
（１） 固体表面に存在する原子の数（面密度）
（２）イオンフラックス（飽和イオン電流密度）とイオンエネルギーの条件
（３）スパッタエッチングの場合のエッチング速度の計算

１６．まとめ～プラズマ技術、プラズマ装置関連技術、エッチング技術のまとめ～