……Zoomオンライン受講
……見逃し視聴選択可
●現象の基礎からしっかりと解説します。ご興味がある方は、ご参加ください。
●洗浄装置の水流・気泡の可視化画像を見て、工程と現象の要点が直感的に見えるようになることを目指します。
講師
反応装置工学ラボラトリ 代表 羽深 等 氏
講師紹介
■略歴：
1981年3月 京都大学大学院理学研究科修士課程化学専攻 修了(理学修士)
1981年4月～2000年3月 信越化学工業株式会社
1996年9月 広島大学大学院工学研究科 博士（工学）
2000年4月 横浜国立大学工学部物質工学科 助教授
2002年4月～2022年3月 横浜国立大学大学院工学研究院 教授
2022年4月 横浜国立大学大学院工学研究院 名誉教授
2022年4月 反応装置工学ラボラトリ 代表
■専門および得意な分野・研究：
分野：半導体結晶材料製造技術に関わる化学工学研究
物質：シリコン(Si)、炭化ケイ素(SiC)、GaAsP、InPなど
製造技術の例：半導体ウエハ洗浄装置、薄膜形成（熱CVD, プラズマCVD）の装置とプロセス、ノンプラズマドライエッチング、多成分系有機物表面汚染挙動解析
取組みの視点：実験と解析、プロセスと装置の設計と開発、熱流体と化学反応の活用、表面吸着・脱離・反応の測定・解析と設計
■本テーマ関連学協会での活動：
化学工学会(シニア会員)、応用物理学会、日本結晶成長学会、米国化学会、米国電気化学会(名誉会員)、特定非営利活動法人YUVEC理事長
＜その他関連セミナー＞
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日時・受講料・お申込みフォーム
●日時：2025年12月17日(水) 10:30-16:30 ＊途中、お昼休みや小休憩を挟みます。
●受講料：
【オンライン受講（見逃し視聴なし）】：1名 50,600円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円
【オンライン受講（見逃し視聴あり）】：1名 56,100円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき45,100円
＊学校法人割引：学生、教員のご参加は受講料50％割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認ください。
●録音・録画行為は固くお断りいたします。
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配布資料・講師への質問など
●配布資料はPDFなどのデータで配布いたします。ダウンロード方法などはメールでご案内いたします。
・配布資料に関するご案内は、開催1週前～前日を目安にご連絡いたします。
・準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申込みをお願いいたします。
（土、日、祝日は営業日としてカウントしません。）
・セミナー資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。
●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。（全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。）
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売などは禁止いたします。
●ご受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールアドレス宛にお問い合わせください。
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セミナーポイント
■はじめに
半導体の製造と開発には洗浄技術が必須であり、洗浄装置を理解している技術者は様々な課題を解決できますが、その育成は容易ではありません。そこで、半導体洗浄に初めて取り組む方を前提にして、基礎から説明します。半導体製造工程における「清浄・きれい」の意味を見直し、洗浄プロセスの基礎となる現象を理解します。そして、具体的な洗浄装置の水流・気泡の可視化画像を見て、工程と現象の要点を知ることを目指します。終わりには、困ったときの視点と対処方法について触れます。
■ご講演中のキーワード：
流れの可視化、境界層、枚葉式、バッチ式、超音波
■受講対象者：
・半導体洗浄をこれから初めて担当する方
・洗浄というものが何となく分からない方
・対策・提案が的を得ているのか不安な方
・洗浄技術に対する視点・指針を身に付けたい方
・何をどのように考えたらよいか知りたい方
■必要な予備知識や事前に目を通しておくと理解が深まる文献、サイトなど：
・予備知識から紹介しますので、特に必要なことはありません。
ただし、下記の知識があると、理解がさらに深まります。
・流れの可視化写真を見た経験
・基礎的な化学工学（熱・流れ・拡散）
・川などの水の流れをじっくり眺めた経験
■本セミナーで習得できること：
・流れの見方と設計指針
・先端材料の洗浄方法を組むための要素
・目的に合わせた「清浄」の定義
・キレイにするための表面と流れの取扱い方
・生産プロセスに共通して潜在する化学工学現象（流れ・気泡などの動きと設計）
・困った時に真っ先に点検すること
セミナー内容
１）洗う理由：汚れの種類と由来
２）半導体洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学
３）半導体の洗浄に特有のこと
４）先端技術情報（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）
５）半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）
５－１）表面の現象とプロセス（付着・脱離・引き剥がす・乾かす）
－１）表面現象、薬液洗浄と物理的洗浄
－２）洗浄後の表面、乾燥とパターン倒れ
－３）ドライ洗浄と超臨界流体洗浄
５－２）流れ、熱、拡散、反応（洗う＝汚れを動かす操作）
５－３）身近な流れの可視化観察例
６）洗浄機内の流れと反応
６－１）枚葉式洗浄機
－１）水の流れ（観察動画と計算例、回転数、ノズルスイング）
－２）化学反応の例（酸化膜エッチング速度の数値解析事例）
６－２）バッチ式洗浄機
－１）水の流れ(観察動画と計算例)
－２）水流を最適化した事例（水噴出角度、槽内循環流）
－３）ウエハ挿入と取出しの際の汚れの付着と脱落
－４）上下に揺動する理由
６－３）超音波の働き、水と気泡の動き（観察動画）
－１）超音波出力と水の動き
－２）ウエハ支持棒の周りの気泡の動き
－３）超音波洗浄槽の工夫、最適化の要点
７）洗浄の評価方法（実験・計算・観察）
８）狭い空間の洗浄
８－１）液の侵入と濡れ（親水性・疎水性）
８－２）狭い空間における反応の速度
８－３）微細パターンの洗浄面積（パターン表面積≫見かけのウエハ面積）
９）まとめ：困った時の視点と対策
９－１）洗えない時
９－２）洗えるが残る時
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セミナーコード：AD2512D8
