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……見逃し視聴選択可
●半導体製造工程における「清浄・きれい」の具体的意味と流れの働きを理解。
●工程と現象の要点を具体的に知り、困ったときの視点と対処方法についてお話させていただきます。
講師
反応装置工学ラボラトリ 代表 羽深 等 氏
講師紹介
■略歴：
1981年3月 京都大学大学院理学研究科修士課程化学専攻 修了(理学修士)
1981年4月～2000年3月 信越化学工業株式会社
1996年9月 広島大学大学院工学研究科 博士（工学）
2000年4月 横浜国立大学工学部物質工学科 助教授
2002年4月～2022年3月 横浜国立大学大学院工学研究院 教授
2022年4月 横浜国立大学大学院工学研究院 名誉教授
2022年4月 反応装置工学ラボラトリ 代表
■専門および得意な分野・研究：
分野：半導体結晶材料製造技術に関わる化学工学研究
物質：シリコン(Si)、炭化ケイ素(SiC)、SiCNO、GaAsP、InPなど
製造技術の例：半導体ウエハ洗浄装置の流れ解析と設計、薄膜形成（熱CVD, プラズマCVD）の装置とプロセス、ノンプラズマドライエッチングプロセス開発、多成分系有機物表面汚染挙動解析
取組みの視点：プロセスと装置の設計・開発と検証、熱流体と化学反応の活用、表面吸着・脱離・反応の測定・解析と設計
■本テーマ関連学協会での活動：
化学工学会(シニア会員)、応用物理学会、米国化学会、米国電気化学会(名誉会員)、特定非営利活動法人YUVEC理事長
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日時・受講料・お申込みフォーム
●日時：2026年8月31日(月) 10:30-16:30 ＊途中、お昼休みや小休憩を挟みます。
●受講料：
【オンライン受講（見逃し視聴なし）】：1名 50,600円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円
【オンライン受講（見逃し視聴あり）】：1名 56,100円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき45,100円
＊「見逃し視聴あり」でお申込の場合、当日のご参加が難しい方も後日セミナー動画の視聴が可能です。
＊学校法人割引：学生、教員のご参加は受講料50％割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認ください。
＊5名以上でのお申込の場合、更なる割引制度もございます。
ご希望の方は、以下より別途お問い合わせ・お申込みください。
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商品コード：AD2608E6
配布資料・講師への質問など
●配布資料はPDFなどのデータで配布いたします。ダウンロード方法などはメールでご案内いたします。
・配布資料に関するご案内は、開催1週前～前日を目安にご連絡いたします。
・準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申込みをお願いいたします。
（土、日、祝日は営業日としてカウントしません。）
・セミナー資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。
●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。（全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。）
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セミナーポイント
■はじめに
半導体の製造と開発には洗浄技術が必須であり、洗浄工程を理解している技術者は様々な課題を解決できますが、その育成は容易ではありません。そこで、半導体洗浄に初めて取り組む方を前提にして、薬液の働きと水流の初歩から説明します。洗浄装置内の水流と気泡の可視化画像を見て、半導体製造工程における「清浄・きれい」の具体的意味と流れの働きを理解することにより、工程と現象の要点を具体的に知ることを目指します。終わりには、困ったときの視点と対処方法について触れます。
■ご講演中のキーワード：
流れ、表面、境界層、枚葉式洗浄、バッチ式洗浄、超音波洗浄
■受講対象者：
・半導体洗浄をこれから初めて担当する方
・洗浄に用いられる具体的操作の意味を知りたい方
・対策・提案が要点を得ているのか不安な方
・洗浄技術に対する視点・指針を身に付けたい方
■必要な予備知識や事前に目を通しておくと理解が深まる文献、サイトなど：
・予備知識から紹介しますので、特に必要なことはありません。
ただし、下記の知識があると、理解がさらに深まります。
・川などの水の流れをじっくり眺めた経験
・流れの可視化写真を見た経験
・熱・流れ・拡散の基礎知識
■本セミナーで習得できること：
・困った時に真っ先に点検すること
・洗浄に使う水流の見方、設計指針と検証方法
・先端材料の洗浄方法を組むための要素
・目的に合わせた「清浄」の定義
・キレイにするための表面と流れの取扱い方
・生産プロセスに共通して潜在する化学工学現象（流れ・気泡など）の動きと設計
セミナー内容
１）半導体表面に特有な汚れの発生原因
２）半導体洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学の位置づけ
３）先端技術の情報源（海外・国内学会）
４）薬液と流れの活用
４－１）汚れの状態と除去操作
４－２）薬液洗浄と物理的洗浄
４－３）乾燥とパターン倒れ
４－４）ドライ洗浄と超臨界流体洗浄
４－５）新しい洗浄方法と乾燥方法
５）流れの基礎現象
５－１）洗う（汚れを動かす）ための流れ、熱、拡散と反応
５－２）境界層の取り扱い
５－３）身近な流れの可視化観察例
６）洗浄機内の流れと反応（解析と設計）
６－１）枚葉式洗浄機（観察動画と計算例）
－１）水の流れ（回転数、ノズルスイング）
－２）化学反応の例（酸化膜エッチング速度の数値解析事例）
６－２）バッチ式洗浄機(観察動画と計算例)
－１）水の流れ
－２）水流を最適化した事例（水噴出角度補正、槽内循環流抑制）
－３）ウエハ挿入と取出しの際の汚れの付着と脱落
－４）上下に揺動する理由
６－３）超音波洗浄（観察動画）
－１）超音波出力と水の動き
－２）ウエハ支持棒の周りの気泡の動き
－３）超音波洗浄槽の工夫、最適化の要点
７）洗浄の評価方法（実験・計算・観察）
８）狭い空間の洗浄
８－１）液の侵入と濡れ（親水性・疎水性・表面張力）
８－２）狭い空間における反応の速度
８－３）微細パターンの洗浄面積と薬液必要量
９）まとめ：困った時の視点と対策
９－１）洗えない時（薬液が届くか？足りるか？境界層が障壁か？）
９－２）洗えるが汚れが残る時（再付着？）
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