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半導体製造工程におけるフッ素材料とPFAS規制動向 セミナーオンライン

半導体製造工程におけるフッ素材料とPFAS規制動向

~フッ素樹脂・フッ素ゴム・含フッ素材料の特性と規制の最新情報~

■本セミナーの受講形式(会場/Zoom両アイコンある場合は受講形式選択可)

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見逃し視聴あり……見逃し視聴選択可


・半導体製造工程で不可欠なフッ素樹脂・フッ素ゴム・フッ素系ガス等の特性と用途を基礎から整理
・超高純度、薬液・プラズマ耐性、評価・分析の実務に加え、PFAS規制の現在地と今後の見通しを学ぶ

講師

合同会社SPLanning 代表・技術士(化学部門) 齊藤 秀哉 氏


講師紹介

神戸大学工学部工業化学科を卒業後、1986年ダイキン工業化学事業部入社、フッ素高分子関連の研究開発、生産技術、マーケティングを主に担当。
2024年同社退職、合同会社SPLanningを立ち上げ、化学技術系コンサルタントとして独立し現在に至る。
専門:フッ素高分子化学、主な資格:技術士(化学部門)

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日時・受講料・お申込みフォーム

●日時:2027年1月25日(月) 13:00-16:30 *途中、小休憩を挟みます。

●受講料:
【オンライン受講(見逃し視聴なし)】:1名 45,100円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき34,100円

【オンライン受講(見逃し視聴あり)】:1名 50,600円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円
*「見逃し視聴あり」でお申込の場合、当日のご参加が難しい方も後日セミナー動画の視聴が可能です。


各種割引について
*5名以上でのお申込の場合、更なる割引制度もございます。
 ご希望の方は、以下より別途お問い合わせ・お申込みください。
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・配布資料に関するご案内は、開催1週前~前日を目安にご連絡いたします。
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・セミナー資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。

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●ご受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールアドレス宛にお問い合わせください。
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  • 見逃し視聴ありでお申込みされた方は、セミナーの録画動画を一定期間視聴可能です。
  • セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
  • 原則、遅くとも開催4営業日後までに録画動画の配信を開始します(一部、編集加工します)。
  • 視聴期間はセミナー開催日から4営業日後を起点に1週間となります。
  • ex)2/6(月)開催 セミナー → 2/10(金)までに配信開始 → 2/17(金)まで視聴可能
    →見逃し視聴について、 こちらから問題なく視聴できるかご確認ください。(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」

    <見逃し視聴ご案内の流れ・配信期間詳細>
  • メールにて視聴用URL・パスワードを配信します。配信開始日を過ぎてもメールが届かない場合は必ず弊社までご連絡ください。
  • 準備出来しだい配信いたしますので開始日が早まる可能性もございます。その場合でも終了日は変わりません。上記例の2/6開催セミナーの場合、2/8から開始となっても2/17まで視聴可能です。
  • GWや年末年始・お盆期間などを挟む場合、それに応じて弊社の標準配信期間設定を延長します。
  • 原則、配信期間の延長はいたしません。
  • 万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、(見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承ください。
  • セミナーポイント

    ○講師より/本セミナーのポイント
     フッ素材料はその特異な特性(耐熱性、耐薬品性、低表面エネルギー性、光学特性、電気特性など)が評価され、自動車産業、航空宇宙産業、化学産業など広く用途を広げてきた。過酷な使用環境への耐性等が要求される半導体製造工程でも、フッ素材料は不可欠な存在であるが、最近PFAS問題が顕在化しており、その動向に注目が集まっている。本セミナーでは、同工程での使用の実像とその背景、規制の現在位置と見通し等について解説したい。

    ○主な受講対象者
    ・半導体製造工程で使用されるフッ素樹脂・フッ素ゴム等の材料選定に関わる方
    ・半導体関連材料・部材の研究開発、品質保証、技術営業に携わる方
    ・薬液・高温・プラズマ等の環境下での材料劣化や不具合対策に課題を持つ方 等

    ○受講して、習得できること
    ・半導体製造工程でなぜフッ素材料が使用されるのかが分かる。
    ・使用されるフッ素材料の構造と特性が理解できる。
    ・PFAS規制の実態と今後の見通しが分かる。

    セミナー内容

    【ブロック I — 基礎編】
    第1章 なぜフッ素なのか — 材料科学の基礎
     1. C–F結合エネルギー(約485 kJ/mol)、フッ素の電気陰性度・原子半径・遮蔽効果
     2. そこから導かれる6つの性能:耐熱/耐薬品/低表面エネルギー/低誘電率・低誘電正接/光学透過性/低溶出
     3. 半導体だけが要求する第7の軸=超高純度(金属ppt~ppb、TOC、パーティクル、アウトガス)
     4. 主要ポリマーの構造と特性マップ:PTFE / PFA / FEP / ETFE / PVDF / PCTFE / ECTFE / アモルファスフッ素樹脂
     5. フッ素ゴム・フッ素ガス・フッ素溶剤まで含めた「フッ素材料の一族図」

    第2章 半導体プロセス全体像とフッ素材料マップ
     ・前工程(成膜→リソ→エッチング→洗浄→CMP→拡散・注入)/後工程/ユーティリティ(超純水・薬液供給・排ガス処理・チラー)
     ・微細化(~2nm、3D構造、EUV)が材料要求をどう変えたか

    第3章 フッ素材料はどう作られるか — 製造・成形・グレード
     ・蛍石(CaF2)→ HF → モノマー → ポリマーという原料フロー全体
     ・重合方式(乳化/懸濁)と、そこに由来する残留物・界面活性剤の問題
     ・半導体グレードとは何が違うか
     ・成形加工

    【ブロック II — 応用編1】
    第4章 フッ素樹脂 — 薬液・搬送・構造部材
     ・PFA配管・継手・バルブ・ポンプ・ベローズ
     ・ウェハキャリア
     ・PTFE多孔質メンブレン
     ・ライニング槽、CMP周辺部材、石英代替部材
     ・静電気対策

    第5章 フッ素エラストマー — シール
     ・FKM/FFKM/FEPM の違いと使い分け、架橋系(パーオキサイド/トリアジン/ビスフェノール)
     ・チャンバーOリングのプラズマ耐性
     ・真空シール、アウトガス、圧縮永久ひずみ

    第6章 フッ素系ガス
     ・エッチングガス:CF4 / CHF3 / CH2F2 / C4F8 / C4F6 / SF6
     ・チャンバークリーニング:NF3、C2F6
     ・成膜前駆体:WF6 ほか
     ・GWPと排ガス処理

    【ブロック III — 応用編2】
    第7章 薬液・溶剤・熱媒・光学・リソグラフィ材料
     ・HF / BHF / 希フッ酸
     ・フッ素系不活性液体(PFC、HFE系)
     ・リソ関連
     ・光学材料
     ・低誘電率膜

    第8章 評価・分析・受入検査
     ・溶出試験(ICP-MS/IC/TOC計)の実際
     ・パーティクル評価、アウトガス評価(TDS-GC/MS)、透過性測定
     ・プラズマ耐性の加速評価、シール寿命の推定
     ・SEMI規格・ASTM・業界慣行
     ・サプライヤー監査で見るべき点

    【ブロック IV — 規制と展望】
    第9章 PFAS規制と半導体産業
     1. 定義問題:OECD定義/EU提案の定義で対象範囲がまるで変わる。フッ素ポリマーは含まれるのか
     2. EU REACH制限提案の現在地と、半導体向け用途別デロゲーション(猶予)の議論
     3. 各国動向:米EPA(TSCA報告、飲料水規制)、日本、中国、韓国・台湾

    <質疑応答>


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