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ALDプロセス・原料開発・低温成膜セミナー

ALDプロセスの基礎と応用展開

~ALD用原料開発と最新情報~

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ALDの基礎と有機金属原料の設計・選定、揮発・輸送、安全性から低温ALD・ALEなど最新技術までを解説。

講師

気相成長株式会社 代表取締役 博士(理学)町田 英明 氏

講師プロフィール(クリック・タップして展開ください)

【略歴】
(株)トリケミカル研究所開発部長、取締役。
2004年 NPO科学知総合研究所理事。
2008年(株)トリケミカル研究所辞任。
2008年~2010年東京大学特任研究員。
2008年 気相成長株式会社設立。CVD, ALD原料開発およびプロセス開発。
2022年 ADMETA委員長
2024年~ 東京理科大学非常勤講師

【専門】
有機金属化学/CVD, ALD原料・プロセス開発/LSI配線関連プロセス開発

【本テーマ関連学協会での活動】
ADMETA特別顧問、cat-CVD研究会、CVD反応分科会
NPO科学知総合研究所 理事長

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日時・受講料・お申込みフォーム

●日時:2027年1月22日(金) 13:00-16:30 *途中、小休憩を挟みます。

●受講料:
【オンライン受講(見逃し視聴なし)】:1名 45,100円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき34,100円

【オンライン受講(見逃し視聴あり)】:1名 50,600円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円
*「見逃し視聴あり」でお申込の場合、当日のご参加が難しい方も後日セミナー動画の視聴が可能です。


各種割引について
*5名以上でのお申込の場合、更なる割引制度もございます。
 ご希望の方は、以下より別途お問い合わせ・お申込みください。
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・郵送の都合上、お申込みは4営業日前までを推奨します。(土、日、祝日は営業日としてカウントしません。)
・それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、その場合、テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。ご了承の上お申込みください。
・資料未達の場合などを除き、資料の再配布はご対応できかねますのでご了承ください。

●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。(全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。)
●ご受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールアドレス宛にお問い合わせください。
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  • 見逃し視聴ありでお申込みされた方は、セミナーの録画動画を一定期間視聴可能です。
  • セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
  • 原則、遅くとも開催4営業日後までに録画動画の配信を開始します(一部、編集加工します)。
  • 視聴期間はセミナー開催日から4営業日後を起点に1週間となります。
  • ex)2/6(月)開催 セミナー → 2/10(金)までに配信開始 → 2/17(金)まで視聴可能
    →見逃し視聴について、 こちらから問題なく視聴できるかご確認ください。(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」

    <見逃し視聴ご案内の流れ・配信期間詳細>
  • メールにて視聴用URL・パスワードを配信します。配信開始日を過ぎてもメールが届かない場合は必ず弊社までご連絡ください。
  • 準備出来しだい配信いたしますので開始日が早まる可能性もございます。その場合でも終了日は変わりません。上記例の2/6開催セミナーの場合、2/8から開始となっても2/17まで視聴可能です。
  • GWや年末年始・お盆期間などを挟む場合、それに応じて弊社の標準配信期間設定を延長します。
  • 原則、配信期間の延長はいたしません。
  • 万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、(見逃し視聴あり)の方の受講料は(見逃し視聴なし)の受講料に準じますので、ご了承ください。
  • セミナーポイント

    ■はじめに
     有機金属化合物の一般的特徴とALD用原料としての揮発可能な原料の開発指針を中心として、多種気相原料の特徴とALDに適しているか否かを解説する。また、原料の揮発・輸送手段の例とそれぞれの問題点をあげ、その対策法を具体的に紹介する。さらに現在、注目を集めているMoS2などカルコゲナイドや遷移金属薄膜の原料と成膜、ならびに近年盛んになった低温ALDについても触れる。最後に今後の発展が期待されるALE(Atomic Layer Etching)について、 ALDの逆工程の応用についても提案する。

    ■本セミナーに参加して修得できること
    ・ALD原料の知識
    ・ALD原料の選択のための情報
    ・成膜時の問題解決

    セミナー内容

    1.はじめに
     1)気相成長原料の過去・現在
     2)気相成長技術の採用

    2.原料の反応性とALD
     1)化学吸着とALDサイクル
       a)TMAとH2O
       b)H2Oと反応しない原料
       c)ALDサイクルの初期層
     2)非化学吸着によるALDサイクル
       a)物理吸着とALDサイクル
       b)問題点

    3.原料の基礎
     1)有機金属原料
       a)有機金属とは
       b)有機金属の合成法
       c)有機金属の実用

    4.原料の分子設計
     1)揮発性
       a)有機金属結合型
       b)共有結合性有機金属
       c)イオン結合性有機金属
       d)蒸気圧向上法
       e)蒸気圧測定法
     2)低融点
       a)共有結合とイオン結合
       b)低融点化
     3)分子軌道計算
       a)分子間力
       b)成長シミュレーション

    5.原料の安全性
     1)消防法危険物
       a)引火性
       b)発火性
       c)水との反応性
       d)爆発性
     2)毒性
       a)急性毒性・慢性毒性
       b)特に注意すべき原料

    6.原料の製造
     1)量産性
     2)コスト

    7.原料の分解
     1)熱分解
       a)自己分解
       b)雰囲気ガス
     2)分解温度の調整
       a)低温化
       b)高温化
     3)保存安定性
       a)保存容器
       b)保存状態
       c)安定剤

    8.原料の揮発・輸送
     1)蒸気圧直接供給
       a)ガス原料
       b)微差圧駆動MFC
     2)キャリアガスバブリング
       a)液体原料
       b)溶液原料 ……タイプA, タイプB
       c)蒸気圧と揮発性
     3)ダイレクトリキッドインジェクション
       a)液体原料
       b)溶液原料
     4)原料の同時供給
       a)Pre-reaction
       b)Adduct形成

    9.原料各論
     1)原料の種類と性質
       a)タイプA
       b)タイプB
     2)族別原料の性質
       a)1,2族
          ・
          ・
       p)17族

    10.新しいALD状況
     1)カルコゲナイドALD
     2)メタル膜ALD
       a)ラジカル種を用いたALDの紹介
       b)新原料を用いたALDの実験と最新結果
     3)アトミックレイヤーエッチング(ALE)
       a)代表例
       b)ALEのチャレンジ
     4)低温ALD
       a)TMAによるAl2O3
       b)他の多量体原料
       c)各種原料の室温反応性比較

    11.まとめ


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