……Zoomオンライン受講
……見逃し視聴選択可
★表面現象や各種分析手法の原理・特徴等、表面分析を進める上で知っておきたい基礎知識を習得！
★データ異常や装置不具合のトラブル時に迷わないための対応フローについても説明します！
講師
合同会社I・R・D CEO 博士（理学） 古田 啓 氏
＊ご略歴：
30年以上にわたり、複数の民間企業において、非破壊検査、真空成膜、非粘着コーティングなどのR&Dを担当。この過程で、SEM-EDS、AFM、レーザー顕微鏡などの表面分析装置を取り扱った。また、必要な分析装置がない場合は、外部機関を活用した。なお、R＆Dの実務の他、自ら開発した新技術について、事業化まで一貫して主導したことがある。
2024年1月、技術、知財、経営を総合的に支援するコンサルティングファーム：合同会社I・R・D（URL https://i-reseandev.co.jp/）を設立、現在に至る。博士（理学）、第1種放射線取扱主任者。その他、中小企業診断士、知的財産アナリスト（特許）、1級知的財産管理技能士（特許・ブランド専門業務）。
＊ご専門および得意な分野・研究：
表面分析、放射線計測、表面処理、知財経営（特許分析を含む）
＜その他関連商品＞
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日時・受講料・お申込みフォーム
●日時：2027年1月29日(金) 10:30-16:30 ＊途中、お昼休みや小休憩を挟みます。
●受講料：
【オンライン受講（見逃し視聴なし）】：1名 50,600円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円
【オンライン受講（見逃し視聴あり）】：1名 56,100円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき45,100円
＊「見逃し視聴あり」でお申込の場合、当日のご参加が難しい方も後日セミナー動画の視聴が可能です。
各種割引について
＊5名以上でのお申込の場合、更なる割引制度もございます。
ご希望の方は、以下より別途お問い合わせ・お申込みください。
req@*********（*********にはjohokiko.co.jpを入れてください）
＊学校法人割引：学生、教員のご参加は受講料50％割引。→「セミナー申込要領・手順」を確認ください。
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配布資料・講師への質問など
●配布資料はPDFなどのデータで配布いたします。ダウンロード方法などはメールでご案内いたします。
・配布資料に関するご案内は、開催1週前～前日を目安にご連絡いたします。
・準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申込みをお願いいたします。
（土、日、祝日は営業日としてカウントしません。）
・セミナー資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。
●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。（全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。）
●ご受講に際しご質問・要望などございましたら、下記メールアドレス宛にお問い合わせください。
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オンラインセミナーご受講に関する各種案内（必ずご確認の上、お申込みください。）
※メールアドレスの記載誤りについては、以下へご連絡お願いいたします。
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→Skype／Teams／LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomで音声が聞こえない、カメラ・マイクが使えないなどの事象が起きる可能性がございます。お手数ですが、これらのアプリは閉じた状態にてZoomにご参加ください。
→音声が聞こえない場合の対処例
→一部のブラウザは音声が聞こえないなどの不具合が起きる可能性があります。
対応ブラウザをご確認の上、必ず事前のテストミーティング をお願いします。
（iOSやAndroidOS ご利用の場合は、アプリインストールが必須となります）
→見逃し視聴について、 こちらから問題なく視聴できるかご確認ください。（テスト視聴動画へ）パスワード「123456」
＜見逃し視聴ご案内の流れ・配信期間詳細＞
セミナーポイント
研究開発、品質保証、生産技術などにおいて、「表面分析」は、材料や製品の表面状態を把握するための強力なツールです。一方で、現場では「データをどう解釈すればよいか分からない」、「目的に適した分析手法をどのように選べばよいか分からない」、「トラブル発生時にどう対処すればよいか分からない」といった課題も少なくありません。
そこで本セミナーでは最初に、課題解決の土台となる「表面分析の仕組み」を解説します（第Ⅰ部）。ここでは、表面分析のフローを「入射→相互作用→信号処理（検出から表示）」と捉えた上で、特に、「入射線と表面原子の相互作用」という基本メカニズムについて丁寧に説明します。
第Ⅱ部においては、SEM、XRF、XPSなどの代表的な分析手法の原理や特徴を、実データと共に解説します。また、マッピングや深さ方向分析も取り上げ、目的に適した分析手法を選択するための「判断軸」を整理します。
第Ⅲ部においては、表面分析を「継続的に活用する」視点から、3つの実践的なテーマを解説します。1つ目は、データ異常や装置不具合のトラブルに活用できる「3原則」、2つ目は、外部機関を活用する際のチェックポイント、3つ目は、長期間の活用を念頭に置いた分析装置の更新・導入における留意点です。
このように、本セミナーは表面分析を「知る」（第Ⅰ部）、「使う」（第Ⅱ部）、「継続的に活用する」（第Ⅲ部）を一連の流れで捉え、現場で表面分析を「使いこなしたい」方に適した内容になっています。
○受講対象：
・研究開発、品質保証、生産技術などに携わる若手〜中堅の技術者・研究者
・表面分析の基礎や、各分析手法の原理を習得したい方
・表面分析装置の仕組みを理解したい方
・表面分析で得られた結果を適切に解釈したい方
・目的に適した分析装置を選びたい方
・表面分析装置が自社にない、又は使えないため、外部機関の活用を検討している方
・装置の更新・導入を担当、または検討する予定の方
○受講後、習得できること：
（１）表面分析の基本メカニズムと分析装置の仕組み
：入射線と表面の相互作用を起点とした、表面分析の基本的な考え方と分析装置の仕組みの理解。
（２）代表的な表面分析手法の体系的な知識
：形状観察、組成・状態分析、マッピング、深さ方向分析など、代表的な分析手法の原理・特徴と分析データの読み取り方。
（３）目的に適した分析手法の選択法
：分析対象や目的に応じて適切な分析手法を選択するための基本的な判断軸。
（４）表面分析におけるトラブル対応法
：データ異常や装置不具合に対して、真因を見極めて対応するための「3原則」と実践的なアプローチ法。
（５）外部機関の活用法
：自社に適切な分析装置がない、または使用できない場合に、外部機関を適切に活用するための考え方とチェックポイント。
（６）分析装置の更新・導入に関する基本的な留意点
：分析装置の更新・導入に伴うトラブルを防ぎ、装置を長期間、適切に活用するためのポイント。
セミナー内容
第Ⅰ部 表面分析の仕組み
～「入射線と表面の相互作用」を中心とした捉え方～
１．表面分析の概要
～人間の「視覚」との類似点・相違点～
1.1 はじめに
1.2 代表的な表面分析のフロー（入射 → 相互作用 → 信号処理）
２．表面分析の構成要素
～表面分析のフローを構成する3要素～
2.1 入射線とその特徴
（1）X線
（2）電子
（3）イオン
2.2 表面における相互作用
（1）X線 … 吸収、蛍光X線、XRDなど
（2）電子線 … 吸収、特性X線、二次電子など
（3）イオン … 吸収、スパッタリング、ラザフォード散乱など
2.3 信号処理（検出～表示）
（1）代表的な検出器
（2）検出後の信号処理
３．表面分析を下支えする技術
～3要素以外の重要技術～
（1）真空技術
（2）試料ステージ
第Ⅱ部 代表的な表面分析の原理とデータ解釈
～形状観察、組成・状態分析、マッピング、深さ分析の実際～
１．表面形状観察の代表的手法と原理
～高精度な顕微鏡としての活用～
1.1 SEM（走査型電子顕微鏡）
1.2 AFM（原子間力顕微鏡）
２．表面の組成・状態分析の代表的手法と原理
～表面の一か所の分析～
2.1 XRF（蛍光X線分析）
2.2 XPS（X線光電子分光法）
2.3 AES（オージェ電子分光法）
2.4 S-SIMS（静的二次イオン質量分析法）
３．表面分析の応用
～一か所の分析から面内・深さ方向への展開～
3.1 マッピングの原理と代表的手法
（1）電子線入射 … SEM-EDS、EPMA、AES
（2）X線入射 … XRF、XPS
（3）イオン入射 … S-SIMS
3.2 深さ方向分析の原理と代表的手法
（1）スパッタリング併用
（2）D-SIMS（動的二次イオン質量分析法）
（3）RBS（ラザフォード後方散乱分光）
４．まとめ
～表面分析を適切に使い分けるための「判断軸」～
第Ⅲ部 表面分析を「止めない」処方箋
～表面分析装置を滞りなく使うための3つの実践テーマ～
１．表面分析におけるトラブル対応
～真因を突き止め、対策を講ずるためのノウハウ～
1.1 「おかしい」と思った理由の把握
1.2 トラブル対応の「3原則」
1.3 迷わないためのトラブル対応フロー
1.4 仮想事例の紹介
２．外部機関の活用
～装置が自社に「ない」または「使用できない」場合の選択肢～
2.1 活用のメリット・デメリット
2.2 失敗しないためのチェックポイント
2.3 代表的な外部機関
（1）公的機関（公設試験など）
（2）民間機関
３．分析装置の更新と導入
～導入前後の混乱を抑え、長期間活用するための準備～
3.1 更新・導入の見極め
3.2 更新・導入の決定から設置までの留意点
＜質疑応答＞
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